技术特征：
1.一种用于干涉测量确定测试物(14)的表面(12)的形状的测量设备(10)，包括：-用于提供输入波(42)的辐射源，-多重编码衍射光学元件(60)，其被配置为通过衍射从所述输入波产生测试波(66)和至少一个校准波(70)，所述测试波(66)指向所述测试物(14)且具有自由形式表面的形式的波前，其中，所述校准波的波前具有非旋转对称形状(68f)，其中，沿着相互横向对准的横截面表面穿过所述校准波(70)的波前的横截面在各个情况下具有弯曲形状，并且其中，不同横截面表面中的弯曲形状在开口参数方面不同，以及捕获装置(46)，用于捕获通过将参考波(40)和在与校准物(74)相互作用后的所述校准波叠加而形成的校准干涉图。2.根据权利要求1所述的测量设备，其中，两个不同横截面表面中的弯曲形状在它们的曲率的方向方面不同。3.根据权利要求2所述的测量设备，其中，所述弯曲形状在各个情况下近似于圆形形状的部分段并且所述开口参数是圆半径。4.根据权利要求3所述的测量设备，其中，所述弯曲形状在各个情况下近似于抛物线形状的部分段并且所述开口参数是抛物线开口。5.根据权利要求2或4所述的测量设备，其中，所述校准波的波前具有像散形状。6.根据前述权利要求中的任一项所述的测量设备，其中，所述校准波(70)的非旋转对称形状(68f)对应于通过绕旋转轴线(94)旋转关于对称轴线(92)对称的表面(90、90a、90b、90c)形成的回转实体(88)的表面的区段的形状。7.根据前述权利要求中的任一项所述的测量设备，其中，所述校准波(70)的波前偏离任何旋转对称形状至少50μm。8.根据前述权利要求中的任一项所述的测量设备，其中，所述衍射光学元件(60)被配置为通过衍射从所述输入波产生除所述测试波以外的至少三个校准波(68、70、72)。9.一种用于校准衍射光学元件(60)的方法，所述衍射光学元件被配置为产生具有自由形式表面的形式的波前的测试波(66)，用于干涉测量确定测试物(14)的表面(12)的形状，所述方法包括以下步骤：-提供所述衍射光学元件(60)，其具有多重编码并且在输入波(42)中辐射使得除所述测试波以外，通过多重编码处的衍射产生指向校准物(74)的校准波(70)，其中，所述校准波的波前具有非旋转对称形状(68f)，-将所述校准物(74)布置在不同校准位置(p1、p2)处，使得所述校准波在各个情况下实质上垂直地入射在所述校准物的表面(76)的不同区域上，以及捕获和比较校准干涉图，所述校准干涉图通过将参考波(40)和在所述不同校准位置处与所述校准物相互作用之后的所述校准波(70)叠加而产生。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述校准物的不同校准位置通过所述校准物(74)的移位和倾斜的组合来设定。11.一种用于干涉测量确定测试物(14)的表面(12)的形状的方法，包括以下步骤：-提供多重编码衍射光学元件(60)，其被配置为通过衍射从输入波(42)产生测试波和至少一个校准波(70)，所述测试波指向所述测试物且具有自由形式表面的形式的波前，-根据权利要求9或10所述校准衍射光学元件，-捕获通过将所述参考波(40)和在与所述测试物的表面相互作用之后的所述测试波(66)叠加而产生的测量干涉图，以及-考虑校准干涉图，通过评估所述测量干涉图来确定所述测试物的表面的形状。12.一种用于干涉测量确定多个表面的相应形状的方法，每个表面具有自由形式表面的形状，其中相应自由形式表面与最佳拟合球面的偏差的像散分量在70％和90％之间，所述方法包括以下步骤：通过均匀校准表面来校准所述表面的干涉测量确定的形状测量结果，其中，所述均匀校准表面与最佳拟合球面的偏差的像散分量对应于所述多个表面的像散分量的平均值。13.一种用于具有光学表面(12)的微光刻曝光设备的投射镜头的光学元件(14)，所述光学表面具有自由形式表面的形式的期望形状(12a)以及所述光学表面的实际形状与期望形状的偏差，该偏差的均方根至多为100pm，其中，所述期望形状与其最佳拟合球面(104)的最大偏差在0.1mm至20mm的范围内，并且其中，所述期望形状(12a)偏离任何旋转对称非球面至少5μm。14.根据权利要求13所述的光学元件，所述光学元件被配置为用于euv波长范围内的微光刻曝光设备的反射镜元件。
技术总结
一种用于干涉确定测试物(14)的表面(12)的形状的测量设备(10)包括：用于提供输入波(42)的辐射源；多重编码衍射光学元件(60)，其被配置为通过衍射从输入波生成测试波(66)和至少一个校准波(70)，该测试波指向测试物(14)且具有形式为自由形式表面的波前，其中，校准波的波前具有非旋转对称形状(68f)，其中，穿过校准波(70)的波前的横截面沿着相互横向对准的横截面区域在各个情况下具有弯曲形状，并且其中，各种横截面区域中的弯曲形状在开口参数方面不同。此外，测量设备包括检测装置(46)，用于检测通过将参考波(40)和在与校准物(74)相互作用后的校准波叠加而形成的校准干涉图。互作用后的校准波叠加而形成的校准干涉图。互作用后的校准波叠加而形成的校准干涉图。
技术研发人员：S.舒尔特 R.弗雷曼
受保护的技术使用者：卡尔蔡司SMT有限责任公司
技术研发日：2020.09.23
技术公布日：2022/5/10