技术特征：
1.一种化妆品内抗感染类药物的测定方法，其特征在于，包括如下步骤：s1：准备测定材料和测定仪器；s2：配制测定标准溶液；s3：制备测定3种空白基质溶液；s4：确定仪器测定参考条件：色谱条件和质谱条件；s5：采用qc样品进行参数验证；s6：样品测定：对化妆品中抗感染类药物进行筛查；s7：计算并建立数据库：建立化妆品中可能添加的抗感染类药物的化合物库。2.根据权利要求1所述的一种化妆品内抗感染类药物的测定方法，其特征在于，所述测定物质为易在祛痘/抗粉刺类化妆品中添加的抗感染类药物；所述测定仪器包括1920lc泵、采样器、配备液相色谱仪/高分辨率的质谱仪(q-tof质谱仪、)，配有双ajsesi源，正、负离子模式,采用masshunter工作站软件进行数据采集和处理，并进行定性和定量分析、采用p300h型超声波清洗机进行超声处理。3.根据权利要求1所述的一种化妆品内抗感染类药物的测定方法，其特征在于，所述测定标准溶液的配制方法为采用甲醇制备各标准储备液(0.5mg/ml)，储存在-20℃暗处。4.根据权利要求3所述的一种化妆品内抗感染类药物的测定方法，其特征在于，所述测定3种空白基质溶液包括水剂类空白基质、乳液剂类空白基质和膏霜剂类空白基质；所述水剂类空白基质和乳液剂类空白基质的制备方法，包括以下内容：a1：取0.2g样品，置于15ml离心管中，加入3ml饱和氯化钠溶液，涡旋30s分散均匀；a2：再加入含0.5％甲酸的乙腈溶液10ml，涡旋30s后超声提取30min，涡旋混合摇匀；a3：于0℃温度环境下以8000r/min冷冻离心5min，收集上清液a，将上清液a过0.22μm有机滤膜后，即得待测定溶液。5.根据权利要求4所述的一种化妆品内抗感染类药物的测定方法，其特征在于，所述膏霜剂类空白基质的制备方法，包括以下内容：b1：取0.2g样品，置于50ml离心管中，加入3ml饱和氯化钠溶液，涡旋30s分散均匀；b2：再加入含0.1％甲酸的乙腈溶液25ml，涡旋30s后超声提取30min，涡旋混合摇匀；b3：于0℃温度环境下以8000r/min冷冻离心5min，收集上清液b；b4：向上清液b中加入4ml正己烷溶液后，充分振荡摇匀得到混合液a；b5：将混合液a于0℃温度环境下以8000r/min冷冻离心5min，收集下层溶液，并将之过0.22μm有机滤膜，即得待测定溶液。6.根据权利要求5所述的一种化妆品内抗感染类药物的测定方法，其特征在于，所述色谱条件包括以下内容：
①
色谱柱为agilenteclipseplusc18柱(100mm
×
2.1mm，1.8μm)；
②
采用二元流动相，流动相a为ph4.0的5mmol/l乙酸铵缓冲溶液，流动相b为含0.1％甲酸的乙腈；
③
梯度洗脱：0.0-14.0min(a：95-40％，b：5-60％)，14.0-14.1min(a：40-5％，b：60-95％)，14.1-17.0min(a：5％，b：95％)，17.0-17.1min(a：5-95％，b：95-5％)，1 7.1-2 0.0min(a：9 5％，b：5％)；
④
流动相流速为0.2ml/min，进样量为1μl，柱温为30℃，进样盘温度为10℃。
7.根据权利要求6所述的一种化妆品内抗感染类药物的测定方法，其特征在于，所述质谱条件包括以下内容：1)在ms扫描模式及目标ms/ms模式下，质谱的质量范围均为m/z50-800；2)毛细管电压、雾化气体和碎裂电压依次设置为3.5kv、45psi和380v；3)干燥温度为350℃，干燥气流速为8l/min，鞘气温度为350℃，鞘气流量为11l/min；4)采用碰撞诱导离解(cid)碰撞，将碰撞能(ce)设为10、20、40ev；5)q-tof质谱仪的参比离子分别为正离子模式：m/z121.0509和m/z922.0098和负离子模式：m/z112.9856和m/z1033.9881。8.根据权利要求2所述的一种化妆品内抗感染类药物的测定方法，其特征在于，所述验证参数包括选择性、校准曲线、准确度和精密度、基质效应、回收率和稳定性。
技术总结
本发明公开了一种化妆品内抗感染类药物的测定方法，涉及化妆品成分测定技术领域；为了解决筛查范围较窄，检测方法不准确的问题；具体包括如下步骤：准备测定材料和测定仪器，配制测定标准溶液，制备测定3种空白基质溶液，确定仪器测定参考条件：色谱条件和质谱条件，采用QC样品进行参数验证，对化妆品中抗感染类药物进行筛查，计算并建立数据库。本发明采用飞行时间扫描质谱法，具有较高的选择性、准确度和精密度，对保障化妆品质量安全、保护消费者健康具有重要的现实意义。者健康具有重要的现实意义。者健康具有重要的现实意义。
技术研发人员：程巧鸳 高艳琳 颜琳琦 陈岑 李泽桦 王任 严俊
受保护的技术使用者：浙江省食品药品检验研究院
技术研发日：2022.03.15
技术公布日：2022/6/4