一种盐雾实验箱的样品放置结构及其盐雾实验箱的制作方法

文档序号:31998768发布日期:2022-11-02 10:08阅读:98来源:国知局
一种盐雾实验箱的样品放置结构及其盐雾实验箱的制作方法

1.本发明涉及试验设备技术领域,具体涉及一种盐雾实验箱的样品放置结构及其盐雾实验箱。


背景技术:

2.盐雾试验箱,为人工气候环境“三防”(湿热、盐雾、霉菌)试验设备之一,是研究机械、国防工业、轻工电子、仪表等行业各种环境适应性和可靠性的一种重要试验设备。适用于零部件、电子元气件、金属材料的防护层以及工业产品的盐雾腐蚀试验。
3.而现有技术中的盐雾试验箱在使用过程中,待检测样品会直接放置在盐雾试验箱内的放置台上,并通过往放置台周侧注入盐雾气体来模拟这样的易腐蚀盐雾环境,但这样放置会导致样品底端面会直接与放置台相接触,对于样品的耐腐蚀性能检测而言,对于渗入样品内部的盐雾所带来的腐蚀程度同样也值得参考,但直接放置会导致样品底部难以渗入盐雾,导致试验结构不具备一定的精准度和可参照性。
4.因此,提出一种盐雾实验箱的样品放置结构及其盐雾实验箱来解决上述提出的问题。


技术实现要素:

5.解决的技术问题
6.针对现有技术所存在的上述缺点,本发明提供了一种盐雾实验箱的样品放置结构及其盐雾实验箱,能够有效地解决现有技术中在进行盐雾试验时,盐雾难以从样品放置端面进入或模拟相应腐蚀环境的问题。
7.技术方案
8.为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:
9.本发明提供一种盐雾实验箱的样品放置结构及其盐雾实验箱,包括箱体和喷气件,所述箱体上设有用于放置待检物的放置台,所述喷气件安装在放置台的一侧,包括靠近放置台设置的气囊,所述气囊的进气口朝向箱体内部,其出气口朝向放置台的下端。
10.其中,所述放置台的台面上开设有多个通孔,所述通孔贯穿放置台的台面并与气囊出气口相通,且位于放置台上布置有若干条凸棱,所述凸棱设在通孔的一侧并用于承载待检物,将待检物悬空放置在放置台的台面上。
11.进一步地,多个所述气囊沿放置台外缘方向环绕分布。
12.进一步地,所述喷气件包括转盘,所述转盘转动安装在箱体上,所述气囊分布在转盘的侧端,并间歇性的抵触在箱体的一侧。
13.其中,所述箱体上开设有一环形槽,所述环形槽的内槽面圆周分布有多个半圆形凸起,处在饱和状态下的气囊的运动路径与凸起交错设置,且相邻凸起之间朝环形槽外侧方向内凹。
14.进一步地,所述放置台呈圆形结构,所述通孔包括有多条弧形槽,若干条所述弧形
槽沿放置台半径方向排布,并分别以放置台圆心方向圆周分布。
15.进一步地,所述气囊还包括有进气管,所述进气管安装在气囊的出气口处,所述放置台的台面上开设有供进气管移动时的开槽,位于开槽的上端中部安装有一堵块,所述堵块与凸起的中轴部处在同一截面上。
16.进一步地,所述放置台还包括有收集盘和加热器,所述收集盘安装在气囊出气口的下方,其整体呈盘状,用于收集液化成露的盐雾,所述加热器安装在收集盘上,对收集的液态盐雾进行加热使其再次蒸发。
17.进一步地,所述收集盘还包括有清理辊,所述清理辊呈弧形状并贴合在收集盘的内凹面上,并可在收集盘内进行转动,将收集盘盘面上的盐渍刮除。
18.一种盐雾实验箱,包括隔窗、盐雾喷射装置以及上述中的一种盐雾实验箱的样品放置结构,所述隔窗扣合安装在箱体的上端,所述盐雾喷射装置安装在箱体内并位于放置台上端的任一侧,其正对于放置台设置并往放置台内补充盐雾。
19.有益效果
20.本发明提供的技术方案,与已知的公有技术相比,具有如下有益效果:
21.本发明通过在用于放置样品的放置台周侧设置若干个可往复伸缩的气囊,将气囊的进气口朝向箱体内部,同时让出气口朝向放置台的下端,可以将盐雾气体吸入并补充到放置台底部,对放置台上放置的样品接触面模拟盐雾环境,同时通过放置台下端部设置的收集盘,收集凝结成露的盐雾,同时对液态盐雾进行加热,使其重新蒸发成雾状,避免了物料资源上的浪费。
附图说明
22.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
23.图1为本发明实施例中的整体结构示意图;
24.图2为本发明实施例中的放置台俯视视角结构示意图;
25.图3为本发明实施例中的喷气件分解结构示意图;
26.图4为本发明实施例中的气囊分布结构示意图;
27.图5为本发明实施例中的清理辊俯视结构示意图;
28.图6为本发明实施例中的放置台侧视剖面结构示意图。
29.图中的标号分别代表:1、箱体;11、放置台;111、通孔;1111、弧形槽;112、凸棱;113、开槽;114、堵块;115、收集盘;116、加热器;117、清理辊;118、凹块;12、环形槽;121、凸起;112、弧形槽;2、喷气件;21、转盘;22、气囊;221、进气管;3、隔窗。
具体实施方式
30.为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员
在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
31.下面结合实施例对本发明作进一步的描述。
32.实施例:
33.参照图1-6,一种盐雾实验箱的样品放置结构及其盐雾实验箱,包括箱体1和喷气件2,箱体1上设有用于放置待检物的放置台11,本例中的放置台11设在箱体1上端部,箱体1内设置盐水雾化及喷嘴装置,为现有技术,同时盐雾试验箱其他的(压力桶、空气桶等设备均不作具体赘述)。
34.而喷气件2整体呈矩形状,并转动安装在放置台11上,喷气件2的下端延伸进放置台11内,喷气件2的驱动元件在此不作限定。
35.喷气件2整体包括一个转盘21和设在转盘21侧端的气囊22,气囊22的进气口朝向箱体1内部,其出气口朝向放置台11的下端,本例中即上下设置,气囊22整体呈椭圆形状,其下端部通过管道延伸至放置台11的下端,而气囊22沿转盘21外缘方向圆周分布,气囊22的膨胀部设在中部,在按压气囊22时,气囊22的一端会喷出气体,而另一端会在收缩到膨胀的过程中,将气体吸进气囊22。
36.位于箱体1上开设有一环形槽12,环形槽12的内槽面圆周分布有多个半圆形凸起121,处在饱和状态下的气囊22的运动路径与凸起121交错设置,且相邻凸起121之间朝环形槽12外侧方向内凹,当气囊22随转盘21转动时,气囊22的膨胀部会逐渐抵在凸起121上,在接触时,气囊22会逐渐被挤到变形,气体会从气囊22内喷出,由于放置台11的上端部位处充斥有盐雾气体,当气囊22收缩时,会将盐雾气体吸进再通过碰触到凸起121上压缩,将盐雾气体喷出,而气体会在放置台11的下端向上飘起,放置在放置台11上的待检测件周边的气体环境发生改变,待检测件底部同样可以直观的看到腐蚀情况。
37.并且,放置台11呈圆形结构,放置台11的台面上开设有多个通孔111,通孔111包括有多条弧形槽1111,若干条弧形槽1111沿放置台11半径方向排布,并分别以放置台11圆心方向圆周分布,而通孔111贯穿放置台11的台面并与气囊22出气口相通,可以均匀的让盐雾气体从弧形槽1111内飘起,对待检测件的底部进行侵蚀。
38.本例中的放置台11上布置有若干条凸棱112,凸棱112设在通孔111的一侧并用于承载待检物,将待检物悬空放置在放置台11的台面上,待检测物在放置时会放在凸棱112上,以此增加了待检测物和盐雾气体的接触面积。
39.同时可选的,在气囊22的出气口处安装有进气管221,进气管221朝放置台11上端延伸,而放置台11的台面上开设有供进气管221移动时的弧形开槽113,本例中的转盘21的转动处于往复转动状态下,在转动时,气囊22会从膨胀-压缩-膨胀的节奏往复进行膨胀和压缩,而位于弧形开槽113的上端中部安装有一堵块114,堵块114与凸起121的中轴部处在同一截面上,当进气管221的上端进气口移动到堵块114下端时,进气口会被堵住,减少气体从进气管221处排出气囊22的量。
40.而位于放置台11下端还设置了一个盘状的收集盘115,收集盘11的面积覆盖了所有气囊22出气口的下部面积,当盐雾气体在下端部凝结成露或者滴状时,会被收集盘115所收集,位于收集盘115的中部安装有一个加热器116,加热器116会对聚集在收集盘11中部的液态盐雾进行加热,对收集的液态盐雾进行加热使其再次蒸发。
41.而位于收集盘115的盘面上方还包括有清理辊117,清理辊117设有若干片并固定
安装在转盘21的下方,随转盘21转动而进行转动,并且本例中的清理辊117呈弧形状并贴合在收集盘115的内凹面上,并可在收集盘115内进行转动,将收集盘115盘面上的盐渍刮除,相应的位于收集盘115的盘面上安装有六个圆周分布的弧形凹块118,并分别设在清理辊117的移动路径上,当清理辊117进行转动时,并穿进凹块118内,对清理辊117的表面进行清理,避免盐渍聚积凝结,难以清除。
42.一种盐雾实验箱,包括隔窗3、盐雾喷射装置以及上述中的一种盐雾实验箱的样品放置结构,隔窗3扣合安装在箱体1的上端,盐雾喷射装置安装在箱体1内并位于放置台11上端的任一侧,其正对于放置台11设置并往放置台11内补充盐雾。
43.以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不会使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的保护范围。
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