一种多系统电磁测量装置的制作方法

1.本实用新型涉及天线测量技术领域，尤其是涉及一种多系统电磁测量装置。


背景技术：

2.电磁测量系统的测量方式包括平面测量，柱面测量和球面测量，在进行电磁测量时，需要在微波暗室内进行测量，而微波暗室是吸波材料和金属屏蔽体组建的特殊房间,它提供人为空旷的“自由空间”条件。在暗室内做天线、雷达等无线通讯产品和电子产品测试可以免受杂波干扰，提高被测设备的测试精度和效率。
3.现有的测量系统是由单个转台和机械臂，暗室等组成的，由于系统结构限制，一般只能进行一种测量方式，在测量不同方式时需要更换不同的测试装置，使得测试效率低下，测试周期长，测试结果不稳定等。


技术实现要素：

4.为了解决上述背景技术中的技术缺陷，本实用新型提供一种多系统电磁测量装置，可以进行平面测量，柱面测量，球面测量等多种测量方式，并且提升了测量精度，提高测量效率。
5.为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：
6.一种多系统电磁测量装置，包括微波暗室，所述微波暗室内设置有四轴转台系统、二轴转台系统和机械臂，所述四轴转台系统固定在所述微波暗室左侧；所述二轴转台系统固定于所述微波暗室中央；所述机械臂固定于所述微波暗室右侧；所述四轴转台系统、二轴转台系统和机械臂处于一条直线上，且该直线与微波暗室的纵轴处于同一平面上。
7.优选的，所述四轴转台系统包括第一导轨、第一转盘、第二转盘和滚转轴，所述第一导轨呈十字交叉设置于所述第一转盘的底端，所述滚转轴垂直立于所述第一转盘的顶端上，且所述滚转轴远离所述第一转盘的一端连接有l形支架，所述第二转盘转动安装于所述l形支架的一侧。
8.优选的，所述二轴转台系统包括底座、集成驱动器、抱杆和支撑台，所述集成驱动器安装于所述底座上，所述抱杆位于所述集成驱动器的上方，且所述抱杆的一端与所述集成驱动器中心处相连，所述抱杆的另一端与所述支撑台转动连接。
9.优选的，所述机械臂包括第二导轨、伸缩杆和连杆，所述第二导轨水平方向设置于所述伸缩杆的底端，所述伸缩杆远离第二导轨的一端与所述连杆转动连接，所述连杆与所述伸缩杆呈90
°
连接。
10.优选的，所述连杆包括第一连杆、第二连杆和第三连杆，所述第一连杆与所述第二连杆的一端垂直连接，所述第二连杆的另一端与所述第三连杆垂直连接，所述第一连杆与所述第二连杆的连接处、所述第二连杆与所述第三连杆的连接处、所述连杆与所述伸缩杆的连接处均设置有关节。
11.优选的，所述微波暗室内覆盖有吸波材料，所述吸波材料安装于微波暗室内部的
顶部、地面及四侧墙面上，所述吸波材料至少上部为周期性角锥。
12.综上所述，本实用新型的有益效果为:
13.本实用新型通过四轴转台系统和二轴转台系统用于测量时调整待测天线角度和位置，同时利用机械臂调整探头的位置和调整待测天线的角度，使得本发明产品相对于现有技术的优点在于：可以用一种设备实现多种测量方式，包括平面测量，柱面测量，球面测量等多种测量方式；同时可灵活拆卸和替换aut，适合有多种不同天线需要测量的情况，大大提升了测量精度和测量效率，降低了测试周期。
附图说明
14.图1是本实用新型多系统电磁测量装置的结构示意图；
15.图2是本实用新型四维转台的结构示意图；
16.图3是本实用新型二维转台的结构示意图；
17.图4是本实用新型机械臂的结构示意图。
18.图中的附图标记说明：
19.1、微波暗室；11、吸波材料；2、四轴转台系统；21、第一导轨；22、第一转盘；23、第二转盘；24、滚转轴；25、l形支架；3、二轴转台系统；31、底座；32、集成驱动器；33、抱杆；34、支撑台；4、机械臂；41、第二导轨；42、伸缩杆；43、连杆；431、第一连杆；432、第二连杆；433、第三连杆；44、关节。
具体实施方式
20.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
21.本领域技术人员应理解的是，在本实用新型的揭露中，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系是基于附图所示的方位或位置关系，其仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此上述术语不能理解为对本实用新型的限制。
22.一种多系统电磁测量装置，如图1所示，包括微波暗室1，所述微波暗室1内覆盖有吸波材料11，所述吸波材料11安装于微波暗室1内部的顶部、地面及四侧墙面上，所述吸波材料11至少上部为周期性角锥。微波暗室1所用的吸波材料11为角锥型，能够在电磁波入射至吸波材料11时，电磁波的入射面或界面都会发生反射、投射(折射)和吸收，从而直接影响暗室内部的反射情况，减小或消除反射和散射，从而形成天线参数测量以及电磁波绕射、散射及辐射特性测量的理想场所，并为其提供一个稳定可控的、满足测量所需的电磁信号环境。
23.具体的，根据吸波材料11安装方式的不同，微波暗室1分为全波暗室、半波暗室两种。全波暗室内部所有表面都覆有吸波材料11，用于模拟自由空间条件；半波暗室内部侧壁和顶部表面覆有吸波材料11，地面为电波反射面，用于模拟开阔测试场地，而在本实施例
中，为了使测量效果更加接近精准值，减少误差带来的影响，所需采用的暗室类型为全波暗室，极大程度降低暗室反射，创造一个更纯净的测量环境，提高测量精度。
24.所述微波暗室1内设置有四轴转台系统2、二轴转台系统3和机械臂4，所述四轴转台系统2固定在所述微波暗室1左侧；所述二轴转台系统3固定于所述微波暗室1中央；所述机械臂4固定于所述微波暗室1右侧；所述四轴转台系统2、二轴转台系统3和机械臂4处于一条直线上，且该直线与微波暗室1的纵轴处于同一平面上。
25.具体的，本电磁测量装置可应用于多种测量系统中，如平面测量、柱面测量和球面测量等，当进行平面测量时，将待测天线固定在二轴转台系统3或四轴转台系统2上，机械臂4将固定在机械臂4上的探头按照用户设定的行进方式运动，采集数据后经馈线传输到外部连接的电脑上进行分析。
26.当进行柱面测量时，将待测天线固定在二轴转台系统3或四轴转台系统2上，机械臂4将固定在机械臂4上的探头从上到下运动，采集数据后经馈线传输到外部连接的电脑上进行分析，收集完成数据后，二轴转台系统3或四轴转台系统2转动一定角度，机械臂4再次运动，循环往复，直至二轴转台系统3或四轴转台系统2旋转一周。
27.当进行球面测量时，将待测天线固定在四轴转台系统2上，机械臂4将固定在机械臂4上的探头按照从上到下的行进方式运动，采集数据后，四轴转台系统2旋转一定角度，带动待测天线旋转，此时机械臂4再次运动，循环往复，直至四轴转台系统2旋转一周。
28.在本实施例中，如图2所示，所述四轴转台系统2包括第一导轨21、第一转盘22、第二转盘23和滚转轴24，所述第一导轨21呈十字交叉设置于所述第一转盘22的底端，所述滚转轴24垂直立于所述第一转盘22的顶端上，且所述滚转轴24远离所述第一转盘22的一端连接有l形支架25，所述第二转盘23转动安装于所述l形支架25的一侧。
29.具体的，第一导轨21为四轴转台系统2的底部，用于调整滚转轴24等零部件的位置，在四轴转台系统2的外部可接电机，电机用于驱动第一导轨21和滚转轴24旋转；滚转轴24位于第一导轨21的上方，可带动第一转盘22旋转，第二转盘23通过l形支架25固定在滚转轴24的侧面，第二转盘23可固定天线，当第二转盘23转动时，可调整待测天线角度。
30.如图3所示，所述二轴转台系统3包括底座31、集成驱动器32、抱杆33和支撑台34，所述集成驱动器32安装于所述底座31上，所述抱杆33位于所述集成驱动器32的上方，且所述抱杆33的一端与所述集成驱动器32中心处相连，所述抱杆33的另一端与所述支撑台34转动连接。
31.具体的，二轴转台系统3处于微波暗室1的中间，并且在四轴转台系统2和机械臂4之间，其在测量时，利用集成驱动器32驱动抱杆33转动的同时，置于抱杆33顶端的支撑台34随之共同旋转，支撑台34上可放置待测量材料，使其能够在测试中根据不同的测试系统完成不同的工作，其还可与外界的控制系统进行连接，利用控制系统对其联动控制。
32.如图4所示，所述机械臂4包括第二导轨41、伸缩杆42和连杆43，所述第二导轨41水平方向设置于所述伸缩杆42的底端，所述伸缩杆42远离第二导轨41的一端与所述连杆43转动连接，所述连杆43与所述伸缩杆42呈90
°
连接。所述连杆43包括第一连杆431、第二连杆432和第三连杆433，所述第一连杆431与所述第二连杆432的一端垂直连接，所述第二连杆432的另一端与所述第三连杆433垂直连接，所述第一连杆431与所述第二连杆432的连接处、所述第二连杆432与所述第三连杆433的连接处、所述连杆43与所述伸缩杆42的连接处
均设置有关节44。
33.具体的，所述机械臂4底部的伸缩杆42能够在进行测试时根据测量需要上下升降，改变测试高度，并且还能沿着第二导轨41进行移动，便于多个角度测量，另外，第一连杆431沿x轴方向与伸缩杆42连接，第二连杆432沿着y轴方向与第一连杆431连接，第三连杆433沿z轴方向与第二连杆432连接，并且各个连接处活动连接的关节44使其能够在测试时可从多维角度进行调节，从而使其不受限制于任何一个方向，提高测试精度。
34.本具体实施方式的实施例均为本技术的较佳实施例，并非依此限制本技术的保护范围，其中相同的零部件用相同的附图标记表示。故：凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本技术的保护范围之内。