一种待XPS能谱分析的样品和分析定位方法与流程

本发明涉及能谱分析，尤其涉及一种待xps能谱分析的样品和分析定位方法。

背景技术：

1、x射线光电子能谱分析技术(xps)作为优异的表面能谱分析技术，有着超高表面灵敏度和能量分辨率。但是其横向分辨率较差，主要是x光本身束斑大而且聚焦困难。现在设备供应商一般是利用x光的二次电子成像技术，或者直接利用已经校准的光学显微镜来定位。无论哪种方法对于能谱微区，尤其是小于50微米的微区，都存在定位不准或者重复性差的问题。

技术实现思路

1、本发明提供了一种待xps能谱分析的样品和分析定位方法，以解决相关技术中在对小于50um的微区进行x光探测或成像时，对样品待测区域不能定位的问题。

2、为解决上述问题，本发明实施例提出了一种待xps能谱分析的样品，所述样品包括待检测的平面，所述待检测的平面上包括待测区域和标记部；

3、所述标记部为中心镂空结构的标记部，所述中心镂空结构的外边界位于所述待测区域外围，所述待测区域外边界至所述中心镂空结构的外边界之间的距离范围为10-20um；所述待测区域的外边界的尺寸在50um以下；

4、所述标记部与所述待测区域的探测信号形成反差；所述标记部能够被所述xps能谱分析设备所探测，以使所述待测区域被所述xps能谱分析设备探测。

5、可选地，所述标记部的中心与所述待测区域的中心重合。

6、可选地，所述标记部为中心对称图形形成的标记部。

7、可选地，所述标记部包括标记圆和/或多个标记条，所述标记圆与所述中心镂空结构的外边界重合；

8、多个所述标记条自所述中心镂空结构的外边界向外延伸。

9、可选地，所述标记条的长度范围为30-60um，宽度范围为5-10um。

10、可选地，所述标记条为三个，三个所述标记条两两之间的夹角为120度。

11、可选地，所述标记条为四个，四个所述标记条两两之间的夹角为90度，所述标记圆边界覆盖四个所述标记条近邻所述待测区域的一端。

12、可选地，所述标记部的材质为惰性金属。

13、可选地，所述惰性金属为金或铂。

14、可选地，所述标记部通过聚焦离子束标识方式或激光打标记方式形成。

15、为实现上述目的，本发明还提出了一种xps能谱分析定位方法，基于如本发明任一项实施例所述的待xps能谱分析的样品实现，包括：

16、通过xps能谱分析设备探测所述标记部，并获取所述标记部的类型；

17、根据所述标记部的类型获取所述待测区域的位置；

18、在所述通过xps能谱分析设备探测所述标记部之前还包括：

19、通过聚焦离子束显微镜获取所述样品中的待测区域的形状和位置；

20、基于所述待测区域的形状和位置获取与所述待测区域匹配的标记部的类型；

21、控制聚焦离子束在所述待测区域周围形成相应类型的所述标记部。

22、根据本发明实施例提出的待xps能谱分析的样品和分析定位方法，样品包括待检测的平面，待检测的平面上包括待测区域和标记部；标记部为中心镂空结构的标记部，中心镂空结构的外边界位于待测区域外围，待测区域外边界至中心镂空结构的外边界之间的距离范围为10-20um；待测区域的外边界的尺寸在50um以下；标记部与待测区域的探测信号形成反差；标记部能够被xps能谱分析设备所探测，以使待测区域被xps能谱分析设备探测。由此，通过提前在待测区域周边设置标记部，使得样品在被x光探测或成像时，能够通过标记部快速定位到待测区域，实现xps能谱微区分析。

23、应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本发明的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本发明的范围。本发明的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。

技术特征：

1.一种待xps能谱分析的样品，其特征在于，所述样品包括待检测的平面，所述待检测的平面上包括待测区域和标记部；

2.根据权利要求1所述的待xps能谱分析的样品，其特征在于，所述标记部的中心与所述待测区域的中心重合。

3.根据权利要求2所述的待xps能谱分析的样品，其特征在于，所述标记部为中心对称图形形成的标记部。

4.根据权利要求2或3所述的待xps能谱分析的样品，其特征在于，所述标记部包括标记圆和/或多个标记条，所述标记圆与所述中心镂空结构的外边界重合；

5.根据权利要求4所述的待xps能谱分析的样品，其特征在于，所述标记条的长度范围为30-60um，宽度范围为5-10um。

6.根据权利要求4所述的待xps能谱分析的样品，其特征在于，所述标记条为三个，三个所述标记条两两之间的夹角为120度。

7.根据权利要求4所述的待xps能谱分析的样品，其特征在于，所述标记条为四个，四个所述标记条两两之间的夹角为90度，所述标记圆边界覆盖四个所述标记条近邻所述待测区域的一端。

8.根据权利要求1所述的待xps能谱分析的样品，其特征在于，所述标记部的材质为惰性金属。

9.根据权利要求1所述的待xps能谱分析的样品，其特征在于，所述标记部通过聚焦离子束标识方式或激光打标记方式形成。

10.一种xps能谱分析定位方法，其特征在于，基于如权利要求1-9任一项所述的待xps能谱分析的样品实现，包括：

技术总结
本发明公开了一种待XPS能谱分析的样品和分析定位方法，样品包括待检测的平面，待检测的平面上包括待测区域和标记部；标记部为中心镂空结构的标记部，中心镂空结构的外边界位于待测区域外围，待测区域外边界至中心镂空结构的外边界之间的距离范围为10‑20um；待测区域的外边界的尺寸在50um以下；标记部与待测区域的探测信号形成反差；标记部能够被XPS能谱分析设备所探测，以使待测区域被XPS能谱分析设备探测。由此，通过提前在待测区域周边设置标记部，使得样品在被X光探测或成像时，能够通过标记部快速定位到待测区域，实现XPS能谱微区分析。

技术研发人员：朱雷,赵弇斐,胡团桥,刘瑶,黄凡,李晓旻
受保护的技术使用者：胜科纳米（苏州）股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13