一种平坦度量测设备的制作方法

文档序号:35516439发布日期:2023-09-20 22:41阅读:38来源:国知局
一种平坦度量测设备的制作方法

本申请涉及晶圆平坦度检测,具体涉及一种平坦度量测设备。


背景技术:

1、平坦度量测设备是指机台采用激光测距原理量测硅片平坦度相关参数,测定轴携带激光模块扫描旋转中的硅片,测定轴侧面有玻璃线性比例尺,配合空气滑块控制测定轴的移动,旋转轴(θ轴)采用胶带状线性比例尺。

2、平坦度量测设备在长期使用后,空气滑块处的线性比例尺附着杂质颗粒变的模糊,会引起进动马达故障甚至失控,量测过程出现卡顿或急停,导致测试失败和停机。

3、基于此,需要一种新技术方案。


技术实现思路

1、有鉴于此,本说明书实施例提供一种平坦度量测设备,可及时对设备上的线性比例尺进行擦拭。

2、本说明书实施例提供以下技术方案:一种平坦度量测设备包括旋转机构与检测机构,所述旋转机构用于带动晶圆旋转;

3、所述检测机构包括平移台和滑动件,所述平移台沿长度方向设置有第一线性比例尺,所述滑动件设置于平移台上,所述滑动件可沿第一线性比例尺往复滑动,所述滑动件连接有探测部件,所述探测部件用于对晶圆的平坦度进行扫描;

4、所述滑动件连接有第一擦拭机构和第一定位探头,所述第一擦拭机构随滑动件同步移动,所述第一定位探头通过侦测第一线性比例尺对滑动件进行定位,所述第一擦拭机构用于对第一线性比例尺擦拭。

5、可选地,所述探测部件为激光探头,所述激光探头用于对晶圆的平坦度进行扫描。

6、可选地,所述滑动件为空气滑块。

7、可选地,所述旋转机构包括θ旋转轴、第二擦拭机构和第二定位探头,所述θ旋转轴呈圆环状,所述θ旋转轴可带动晶圆旋转,所述θ旋转轴的外周面连接有第二线性比例尺,所述第二擦拭机构和第二定位探头均相对于θ旋转轴固定设置,所述第二定位探头通过侦测第二线性比例尺对θ旋转轴进行定位,所述第二擦拭机构对第二线性比例尺进行擦拭,所述第二擦拭机构与第一擦拭机构的具体结构相同。

8、可选地,所述第一擦拭机构包括套筒、无尘布卷和推动部件,所述无尘布卷设置于套筒内,所述推动部件设置于套筒内,所述推动部件用于推动无尘布卷伸出或缩入套筒。

9、可选地,所述无尘布卷蘸有异丙醇。

10、可选地,所述套筒开设有螺旋滑槽,所述无尘布卷一体设置有凸起,所述凸起可置于滑槽中,所述推动部件设置于无尘布卷中,所述无尘布卷与推动部件滑动连接,所述无尘布卷可沿推动部件的长度方向移动。

11、可选地,所述凸起设置有两个,所述螺旋凹槽与凸起对应设置。

12、可选地,所述第一擦拭机构中的套筒通过夹爪固定在第一定位探头上,所述第二擦拭机构中的套筒通过夹爪固定在第二定位探头上。

13、可选地,所述第一线性比例尺和第二线性比例尺为玻璃线性比例尺。

14、与现有技术相比,本说明书实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到的有益效果至少包括:

15、在滑动件带动激光探头对晶圆的平坦度进行侦测的过程中,滑动件带动第一擦拭机构对第一线性比例尺进行往复擦拭,θ旋转轴在转动的过程中第二擦拭机构对第二线性比例尺进行往复擦拭,避免因第一线性比例尺和第二线性比例尺因附着杂质颗粒变的模糊,引起进动马达故障甚至失控,量测过程出现卡顿或急停,导致测试失败和停机的现象。



技术特征:

1.一种平坦度量测设备,其特征在于:包括旋转机构与检测机构,所述旋转机构用于带动晶圆旋转;

2.根据权利要求1所述的平坦度量测设备,其特征在于:所述探测部件为激光探头,所述激光探头用于对晶圆的平坦度进行扫描。

3.根据权利要求1所述的平坦度量测设备,其特征在于:所述滑动件为空气滑块。

4.根据权利要求1所述的平坦度量测设备,其特征在于:所述旋转机构包括θ旋转轴、第二擦拭机构和第二定位探头,所述θ旋转轴呈圆环状,所述θ旋转轴可带动晶圆旋转,所述θ旋转轴的外周面连接有第二线性比例尺,所述第二擦拭机构和第二定位探头均相对于θ旋转轴固定设置,所述第二定位探头通过侦测第二线性比例尺对θ旋转轴进行定位,所述第二擦拭机构对第二线性比例尺进行擦拭,所述第二擦拭机构与第一擦拭机构的具体结构相同。

5.根据权利要求1所述的平坦度量测设备,其特征在于:所述第一擦拭机构包括套筒、无尘布卷和推动部件,所述无尘布卷设置于套筒内,所述推动部件设置于套筒内,所述推动部件用于推动无尘布卷伸出或缩入套筒。

6.根据权利要求5所述的平坦度量测设备,其特征在于:所述无尘布卷蘸有异丙醇。

7.根据权利要求5所述的平坦度量测设备,其特征在于:所述套筒开设有螺旋滑槽,所述无尘布卷一体设置有凸起,所述凸起可置于滑槽中,所述推动部件设置于无尘布卷中,所述无尘布卷与推动部件滑动连接,所述无尘布卷可沿推动部件的长度方向移动。

8.根据权利要求7所述的平坦度量测设备,其特征在于:所述凸起设置有两个,所述螺旋凹槽与凸起对应设置。

9.根据权利要求5所述的平坦度量测设备,其特征在于:所述第一擦拭机构中的套筒通过夹爪固定在第一定位探头上,所述第二擦拭机构中的套筒通过夹爪固定在第二定位探头上。

10.根据权利要求4所述的平坦度量测设备,其特征在于:所述第一线性比例尺和第二线性比例尺为玻璃线性比例尺。


技术总结
本申请提供一种平坦度量测设备,应用于晶圆平坦度检测技术领域,其中包括旋转机构与检测机构,旋转机构用于带动晶圆旋转;检测机构包括平移台和滑动件,平移台沿长度方向设置有第一线性比例尺,滑动件设置于平移台上,滑动件可沿第一线性比例尺往复滑动,滑动件连接有探测部件,探测部件用于对晶圆的平坦度进行扫描;滑动件连接有第一擦拭机构和第一定位探头,第一擦拭机构随滑动件同步移动,第一擦拭机构用于对第一线性比例尺擦拭。通过在滑动件带动激光探头对晶圆的平坦度进行侦测的过程中,滑动件带动第一擦拭机构对第一线性比例尺进行往复擦拭,避免因第一线性比例尺和第二线性比例尺因附着杂质颗粒变的模糊,导致测试失败和停机的现象。

技术研发人员:张雁汝,张建峰,薛静韬,江锋
受保护的技术使用者:上海新昇半导体科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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