光学测量系统中的去斑的制作方法

技术特征：

1.一种光学测量系统，包括：

2.根据权利要求1所述的光学测量系统，其中：

3.根据权利要求2所述的光学测量系统，其中：

4.根据权利要求3所述的光学测量系统，其中：

5.根据权利要求4所述的光学测量系统，其中：

6.根据权利要求5所述的光学测量系统，包括：

7.根据权利要求6所述的光学测量系统，其中：

8.根据权利要求6所述的光学测量系统，其中：

9.根据权利要求1所述的光学测量系统，其中：

10.根据权利要求1所述的光学测量系统，还包括：

11.根据权利要求1所述的光学测量系统，其中：

12.一种光学测量系统，包括：

13.根据权利要求12所述的光学测量系统，包括：

14.根据权利要求13所述的光学测量系统，还包括：

15.根据权利要求12所述的光学测量系统，包括：

16.根据权利要求15所述的光学测量系统，其中：

17.根据权利要求15所述的光学测量系统，其中：

18.根据权利要求15所述的光学测量系统，其中：

19.根据权利要求12所述的光学测量系统，其中：

20.根据权利要求12所述的光学测量系统，其中：

21.根据权利要求12所述的光学测量系统，其中：

22.一种使用光学测量系统来执行测量的方法，所述方法包括：

23.根据权利要求22所述的方法，其中：

24.根据权利要求22所述的方法，其中：

25.根据权利要求22所述的方法，包括：

26.根据权利要求25所述的方法，其中：

技术总结
本公开涉及光学测量系统中的去斑。实施方案涉及在测量期间利用多个发射器来发射光的光学测量系统，以及使用这些光学测量系统来执行测量的方法。该光学测量系统可包括：光产生组件，该光产生组件被配置为经由光源单元产生光；以及光子集成电路，该光子集成电路包括发射组，该发射组具有多个发射器。这些发射器中的每个发射器光学地耦接到该光产生组件以接收从该光产生组件产生的光，并且可从该光子集成电路的表面发射该光。该光学测量系统可执行测量，其中该光产生组件产生光并且该多个发射器中的每个发射器同时地发射从该光产生组件接收的光。

技术研发人员：M·A·特雷尔,D·S·盖尔,A·F·苏格贝克,T·C·格林宁,J·S·佩尔茨,M·A·阿博尔
受保护的技术使用者：苹果公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/27