一种协同富集同时检测萘酚异构体的方法

文档序号:8255187阅读:513来源:国知局
一种协同富集同时检测萘酚异构体的方法
【技术领域】:
[0001] 本发明属于环境科学、食品安全领域,具体设及一种蒙酪异构体的检测方法。
【背景技术】:
[0002] 蒙酪是一类重要的工业原料,在染料、农药、医药、香料等方面有着广泛的应用,同 时它也是一类环境污染物,广泛分布在空气、水、±壤、食品等环境中,其生物有效性部分可 通过食物链进行富集、传递,给生物和人类带来了极大的危害。蒙酪属中等毒物,对眼、皮肤 和粘膜具有强烈的刺激作用,并具有致敏、致癌、致崎和致突变的潜在毒性。目前,我国是世 界上蒙酪的主要生产国和出口国,国内众多染料厂、农药厂、制药厂等生产过程中会产生各 类蒙酪废水,其质量浓度可达数千毫克每升,一旦排放到水环境中,将严重地污染环境并对 人体健康产生危害,因此其含量是衡量水质的重要指标。
[0003] 由于哲基位置的不同,蒙酪有两种同分异构体,分为a-蒙酪和P-蒙酪,其中后 者的毒性远远强于前者,同时含该两种物质的废水毒性大、难降解,且组分复杂,难W处理。 目前已有许多关于a-蒙酪和P-蒙酪单独检测方法,但由于两者性质相近,往往共存,检 测时互相干扰,因此建立同时检测a-蒙酪和P-蒙酪的分析方法对实际水样检测分析有 着重要意义。
[0004] 目前国内外报道的蒙酪异构体的测定方法主要有高效液相色谱法、气相色谱法、 气相色谱-质谱串联法、巧光光谱法、免疫检测法等,但都有各自的局限性,如检测过程复 杂、费用高、检测周期长等。近些年来,电化学法W其操作简单、灵敏度高、检测速度速、费用 低而受到广泛的重视。2013年公开的发明专利;"一种同时检测两种蒙酪同分异构体的电 化学方法"(201210518787. 1),将介孔材料修饰电极,利用循环伏安法和差分脉冲法实现了 蒙酪的两种同分异构体的同时电化学测量,a-蒙酪和0-蒙酪的检出限均为2. OmM.

【发明内容】

[0005] 本发明目的在于提供一种灵敏性高、特异性好的蒙酪两种同分异构体(a -蒙酪 和0-蒙酪)的检测方法。本发明采用的技术方案为;W氧化石墨締的高氯酸钢溶液为原 料,通过电化学还原的方法,制备电还原氧化石墨締修饰玻碳电极,在磯酸盐缓冲溶液中, 利用电迁移富集和n-Ji共辆作用协同富集样品中蒙酪异构体(a-蒙酪和P-蒙酪), 采用循环伏安法和差分脉冲伏安法,同时检测富集在电还原氧化石墨締修饰玻碳电极上的 a-蒙酪和0-蒙酪。具体步骤为:
[0006] (1)制备电还原氧化石墨締修饰玻碳电极
[0007] 取30mg氧化石墨締溶于10血二次蒸馈水中,超声2?化分散均匀,再加入高氯 酸钢,继续超声5min,配制成3mg/mL氧化石墨締的高氯酸钢溶液;将玻碳电极先后采用3um 和50nmAl2〇3粉末打磨,再依次在无水己醇和二次蒸馈水中超声清洗2?3min,然后置于 0. 5M H2SO4溶液中用循环伏安法进行活化,于-0. 2?1. 0V下反复扫描直至曲线稳定,最后 用二次蒸馈水冲洗干净并用氮气吹干;将预处理过的玻碳电极置于氧化石墨締的高氯酸钢 溶液溶液中,采用恒电压-1. 2V下电聚合300s,取出浸泡于二次蒸馈水中lOmin,除去未结 合上的氧化石墨締,再置于1M化Cl〇4溶液中,-1. 2V下保持30s,取出清洗除去残留的高氯 酸钢并惊干,即得到电还原氧化石墨締修饰玻碳电极。
[000引 (2)电迁移和31-31共辆作用协同富集样品中蒙酪异构体
[0009] 电还原氧化石墨締修饰玻碳电极作为工作电极,在+0. IV富集电位下,富集时间 从50s增加到90s时,蒙酪同分异构体的氧化峰电流增加,继续延长富集时间,峰电流几乎 不变。该是由于随着富集时间的增加,富集在电还原氧化石墨締修饰玻碳电极上的a-蒙 酪和0 -蒙酪逐渐增多,并在90s时达到饱和,因此电迁移富集时间优选90s ;电还原氧 化石墨締拥有巨大的二维n体系,蒙酪为二元共辆苯环结构,有一个小JT体系;当蒙酪 (a -蒙酪或0-蒙酪)在溶液中靠近电还原氧化石墨締时,二者的31体系发生31-31共辆 相互作用,蒙酪(a-蒙酪或0-蒙酪)被富集在电还原氧化石墨締修饰玻碳电极表面。
[0010] (3)差分脉冲伏安法同时检测蒙酪异构体
[0011] 采用=电极体系(工作电极为修饰玻碳电极,参比电极为饱和甘隶电极,对电极 为销丝电极),W0. 1M磯酸盐缓冲溶液(PB巧为支持电解质,加入适量a -蒙酪和P -蒙酪, 保持氮气氛围,采用循环伏安法和差分脉冲伏安法进行测试,每次测试后,将电极置于空白 底液中循环扫描至无电流峰出现再继续下一次测定;结果显示该方法对a-蒙酪的线性范 围为5?400nM,检出限(S/N =扣为l.OlnM,灵敏度为0. 0097 UA. uM-i;对0-蒙酪线 的性范围为5?350nM,检出限(S/N= 3)为0. 43nM,灵敏度为0. 0113yA. uM-i。
[0012] 本发明与现有技术相比,其显著优点是:
[001引(1)电还原氧化石墨締是已知的最薄的一种材料,并且具有极强导电性、超大比表 面积、共辆的n体系等优点,该些都有利于蒙酪异构体的富集与检测;
[0014] (2)利用电迁移和31-31共辆作用协同富集样品中蒙酪异构体,可W大大提高检 测的灵敏度;
[001引 (3)该方法对a -蒙酪的检出限(S/N = 3)达到1. OlnM,灵敏度为 0. 0097 uA ? uM-i;对0 -蒙酪线的检出限(S/N = 3)达到0. 43nM,灵敏度为 0. 0113]iA* yM4,明显优于现有方法。
【附图说明】:
[0016] 附图1为:电化学还原氧化石墨締时间对200nMa -蒙酪和P -蒙酪差分脉冲伏安 法响应电流的影响。附图2为;富集电位对200nM a -蒙酪和P -蒙酪差分脉冲伏安法响应 电流的影响。附图3为;富集时间对200nM a -蒙酪和P -蒙酪差分脉冲伏安法响应电流的 影响。附图4为;200nMa-蒙酪和P-蒙酪在抑值分别为2、3、4、5、6、7、8的0. 1M PBS中 的循环伏安曲线。附图5为:不同浓度a-蒙酪和P-蒙酪在电还原氧化石墨締修饰玻碳 电极上的差分脉冲伏安曲线。
【具体实施方式】
[0017] 结合实施例对本发明作进一步地描述,但该发明不局限于实施例。
[0018] (1)当电化学还原氧化石墨締的时间从150s增加至250s时,随着聚合上的电化学 还原氧化石墨締的量增多,修饰的表面积增大,差分脉冲伏安法检测到a-蒙酪和0-蒙酪 的氧化峰电流逐渐增加,富集效率随之提高,当电还原时间达到250s时,两者的峰电流均 达到最大值。
[0019] (2)富集电位对蒙酪同分异构体氧化峰电流的影响。当富集电位从-0.5V变化到 +0. IV时a -蒙酪和P -蒙酪的峰电流明显的随之增大,由于蒙酪具有弱酸性,在水溶液中 易发生解离,生
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