专利名称：用于在连续式设备中进行液体液位调节的方法和装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于在连续式设备中进行液体液位调节的方法以及ー种装置。更确切地，本发明涉及一种在对平坦物体进行单侧的以液体为基础的处理期间允许精确地维持期望的液位的方法以及ー种适合于此的装置。
背景技术：
从现有技术中已知用于对平坦物体进行湿法化学处理的连续式设备。待处理的平坦物体例如为硅衬底或者简称为衬底，如其应用于半导体制造和太阳能电池制造。在此，通常在水平延伸的运输平面中进行待处理物体的运输，并且物体自身也是水平定向的。主要将滚筒用作运输机构，但是使用例如为带或皮带的连续输送器、或者如単独的支撑梁、承载架或夹具的单个输送器。也能够使用以液体为基础的输送系统(流体垫)。对于特定的エ艺步骤而言，期望对衬底仅进行单侧处理。为此，从现有技术中已知 不同的方法。根据第一基本类型，通过“主动地”保护不需要处理的ー侧来实现仅单侧地进行处理。根据所述基本类型的第一变型形式，不需要处理的ー侧由保护层来保护，所述保护层在所述エ艺步骤之前施加并且在所述エ艺步骤之后通常必须被移除。此处，针对保护覆层的附加的耗费是不利的。根据所述基本类型的另ー变型形式，不需要处理的一侧例如在真空夹具上全面地或者至少在例如通过密封唇片形成的边缘区域中靠置在密封的配合面上。因此，在所述エ艺步骤期间，处理液体没有到达到衬底的不需要处理的ー侧。缺点为相当显著的仪器耗费以及下述事实通常对接触敏感的衬底表面能够由于保护的配合面而损坏或污染。“被动的”保护的第二基本类型放弃了对不需要处理的衬底侧的前述“主动的”保护。在參考文献PCT/DE2004/000597中描述的方法被证实为是尤其适合的。因此，沿着处理液体的表面引导要处理的衬底，使得只有所述衬底的下侧和必要时所述衬底的棱边与处理液体接触。只要相应小心地进行经过处理液体的运输，衬底的上侧就保持未处理，而不需要保护层或借助于配合面进行接触。要说明性地指出的是，能够以不同的方式和方法来实现在上述參考文献中提出的对衬底进行的单侧处理，其中原则上在直接润湿和间接润湿之间进行区分。直接润湿理解为，直接地通过引导所述衬底经过处理液体或沿着处理液体引导所述衬底来确保对衬底进行期望的单侧处理。这要求，要处理的衬底下侧的液体液位(或简称为“液位，，)至少暂时地位于处理液体的最大液位高度之下。在直接润湿的情况下，例如能够将衬底下沉到液体中或者完全地或部分地提升在池中的液体的液位高度，其中衬底的下沉和液体液位高度的提升的组合也是可能的。例如，在将衬底引入到槽池中的位置上的槽池表面能够通过在衬底下侧之下的、相应设置并对准的液体进ロ来局部地提升。此外，能够通过例如借助压缩空气在衬底之下吹入气泡来部分地提升槽池表面，由此同样能够确保对衬底下侧的润湿。相反地，间接润湿理解为，要处理的衬底下侧在全部的处理持续时间内位于液体的液位高度之上，使得仅间接地通过系统的运输构件或部件来进行润湿，所述运输构件或部件在其ー侧与液体接触并且促成对衬底下侧进行润湿。在本文中指出，只要由于例如从硅片中已知的表面吸湿特性确保下侧在最短时间内通过构件部分润湿致使全面的润湿，那么就需要待处理的衬底侧通过与起促成作用的构件的接触而完全地(全面地)或仅仅部分地被润湿。关于能够设置用于间接润湿的部件和构件指出，所述部件和构件设置为当前描述的运输系统的组成部分或者在液体池中设置成，使得所述部件和构件能够至少部分地从液体中伸出或移出。因此，根据本发明可以考虑同样固定的、旋转的或可在一定高度移动的构件。优选地，通过构件的表面特性和/或通过造型(例如，通过利用毛细作用)确保，所述构件的设置用于接触衬底下侧的区域被润湿并且引起对要处理的表面的润湿，而衬底自身没有与液体池形成接触。例如，构件为润湿辊，所述润湿辊在槽池的液体中转动并且通过转动·运动吸收处理液体，随后借助所述处理液体润湿位于液位高度之上的衬底下側。但是如已经所述，根据本发明也能够使用不同构造的构件，例如(可在一定高度移动的)工作台、销或冲头，因为在ー些情况下，甚至衬底下侧的点状的接触都足以保证全面的润湿。对成功使用上述的、单侧处理而言决定性的是，在没有保护装置的情况下精确地维持衬底和液体表面的相对垂直位置。如果衬底的位置太低或者相对垂直距离太小，那么润湿所述衬底的上侧的危险增加。如果位置太高或者相对垂直距离太大，那么存在不充分润湿要处理的下侧的危险。因此，液位控制或调节通常不能省去。液位控制典型地以多种方式实现，例如通过简单的、必要时可在一定高度调整的溢流棱边，通过改变处理液体进入或流出处理池的流量或通过机械垂直地提升或降低运输平面来实现。典型地，一次性固定地调整液位，并且在流过衬底期间保持在所述理想值。被证实为有问题的是,液体液位根据池装配有衬底来变化。衬底的数量越大,液体液位就越更强烈地偏离于最初调整的数值。在此，根据衬底浸入到处理液体中的深度，出现沿着两个方向的偏差是可能的。如果将衬底如此深地浸入到液体中，使得所述衬底的棱边面部分地位于液体液位之下、部分地位于液体液位之上,那么液位升高,并且因此对衬底上侧的不期望的润湿的危险增加。如果相反地间接润湿衬底，将衬底从液体中取出，使得液体液位下降，并且存在润湿不充分的危险。如果衬底笔直地以其下侧沿着液体表面移动，其中衬底的棱边面尽可能地位于液体液位之上，那么典型的是，液体在所述衬底棱边处向上升高，这同样也导致液体液位的降低以及对下侧的可能不充分的润湿。因此可选的是，通过连续的控制确保，液位任何时候都保持恒定。对此相应的测量装置是必需的，所述测量装置以对液体液位的物理測量为基础，所述测量装置将所述液体液位传送给液位调节器。然而，这种測量装置是易受故障影响的并且根据结构形式显示出一定的反应惰性。最后，測量装置也増加了连续式设备的复杂性。故障能够导致整批昂贵的废品。
发明内容
因此，本发明的目的在于，提供一种用于在上述设备中进行液位调节的替选的方法。所述方法应当尽可能地与物理測量设备无关并且不仅是故障容限的也是稳固的。目的还在于提供ー种适合于执行所述方法的装置。所述目的通过根据根据本发明所述的ー种方法以及根据本发明所述的ー种装置来实现。有利的实施形式在本发明、说明书以及附图中得出。首先明确地说明ー些对理解本发明而言重要的术语。只要没有另做说明，在下面，术语“液位”表示与液体表面的高度位置有夫。只要没有另做说明，“数值”表示在垂直方向上测量的长度尺寸。
“垂直距离”总是表示液位和平坦物体的下侧之间的在垂直方向上测量的距离。所述垂直距离能够为零，这等于衬底下侧平面与液位的平面相同(共面)。所述垂直距离能够为正，这表示在所述两个平面间的间隙，并且当至少衬底下侧浸入到处理液体中时，所述垂直距离能够为负。“液位实际值”说明了在当前时刻的液位高度，其中，没有回答如何获得所述数值，即测量还是确定所述数值。在现有技术的设备中测量出所述数值。如果明确地说明“求得的液位实际值”，那么这意味着，所述数值不是通过测量、而是以其他方式求得，例如通过计算。如果反之明确地说明“实际的液位实际值”，那么清晰的是，所述数值指的是真实的(測量的)数值并且不是以其他方式“求得的”数值。“液位理想值”说明下述液位值，调节所述液位值，以便得到期望的垂直距离。“调整设备”是用于改变、即调整液位的设备。这种设备的实例为运输路径的垂直控制设备或作用于处理液体的泵。“理想调整值”是下述数值，所述数值以调整设备的预设值的形式会致使液位实际值与液位理想值(再次)相一致。所述数值不必强制为“直接的”长度尺寸，然而，必须最終致使必要时“间接地”改变长度尺寸。间接的理想调整值的实例为电信号、泵功率或单位时间的流量。“实际调整值”是说明真实的(測量的)实际值的数值，所述实际值返回给调整设备。“调整零值”是在没有平坦物体的情况下调整设备所调节到的数值。根据本发明的方法用于调节在位于处理池中的处理液体的表面和要借助于处理液体单侧处理的平坦物体的下侧之间的相对垂直距离，所述平坦物体与运输机构接触地且水平地沿着所述处理液体的表面运输。典型地，这种包括处理池的设备是连续式设备，但是，所谓的“批量”设备也能够考虑用于根据本发明的方法。对平坦物体的处理单侧地进行，并且物体在处理期间与优选地包括至少部分被驱动的滚筒或轮的运输机构接触，并且物体在所述滚或轮上沿其滑动。尤其对于非常薄的平坦物体的直接润湿的上述情况而言清楚的是，必须非常准确地调整处理池中的液位，以便实现单侧的处理。这在根据现有技术的设备中只有在一定条件下并且还仅在设备的静止状态的情况下是确实可能的。“处理”不但理解为平坦物体的表面结构的改变或表面的修改，而且还理解为无防护地运输所述平坦物体。首先，借助于调节设备将与当前的垂直距离相关的液位实际值和与期望的垂直距离相关的液位理想值进行比较。換言之，检查处理池中的液位是否符合期望的理想值。典型地，至少在处理开始保持所述期望的理想值，尤其是当物体还没有接触处理液体吋。因此，所述数值当前被称为理想零值。真实的液位在绝大多数情况下通过接下来的、与处理液体的表面接触的物体来改变(如上)。因此，典型地存在液位理想值与液位实际值之间的差。在调节设备中执行所述比较。在所述数值彼此偏离的情况下，调节设备现在生成理想调整值，借助于所述理想调整值将(再次)达到液位理想值。最后，理想调整值被传送给用于控制相对垂直距离的设备。相对垂直距离的控制能够直接地或间接地进行。这意味着，控制信号要么直接在对相对垂直距离(并且因此对行程长度)的影响中反映出来，其中所述影响导致液位实际值与液位理想值相一致，要么在最终实现对相对垂直距离影响之前，物理类型的其他中间步骤是必要的。根据本发明提出，根据平坦物体的与处理池中的液体同时接触的总表面积(总覆盖面积)求得液位实际值。如上面已经描述，在处理液体中物体的存在对所述处理液体的液 位产生影响。具体地，物体的存在导致液位的提升或降低。因此，物体对剩余的池(并且其中必要时对存在其他的平坦物体)具有如同添加或抽出一定量液体的相同的效果。处理池的液体含量(表面上)改变的所述量(体积)取决于以下主要因素1.物体的接触处理液体的面积(必要时具有存在的切ロ等)(“单覆盖面积”);2.距液体表面已知的或期望的距离。因此，清楚的是，具有小表面的物体与具有大表面的物体相比，对存在于处理池中的液体量或更准确地说对其液位的影响更小，其中所述具有小表面的物体的下侧此外应精确地沿着液体表面被引导(相对垂直距离为零)，所述具有大表面的物体要么进一歩浸入到液体中，要么以在液体表面之上一定的垂直距离沿着所述液体表面被运输，其中所述具有大表面的物体向上提升附着在其下侧的液体体积(相对垂直距离小于或大于零)。此外，副參数更确切地为液体的密度、粘度和温度以及关于物体的可润湿性的信息(疏水性/亲水性)。从所述參数中能够借助于计算确定、或替选地借助于实验求得，已知覆盖面积的物体的存在对液体液位产生的作用有多强(每个平坦物体的单个理想调整值)。只要认为剩余的參数没有改变，确定总覆盖面积就是足够的，所述总覆盖面积源于当前与处理液体接触的全部物体。可选地或替选地，也能够考虑用物体的周长来确定“总覆盖范围”，或者将所述两个数值互相结合。然而出于简单性的原因，以下总是只涉及总表面积或总覆盖面积。通过计算/确定来获得理想实际值的可能性允许设备的连续运行，这在薄的平坦物体的情况下在现有技术的设备中并非如此，因为直到处理液体平静至使得能够真实地测量在液位的一定高度上的、部分极其小的、通过物体引起的区别之前，可能必须停止这种设备。与此相应尤其优选的为，根据位于处理池中的平坦物体的数量和(必要时的)几何尺寸来确定上述总表面积(总覆盖面积)。可选地，也能够考虑所述平坦物体距处理液体表面的期望的相对垂直距离；当所述距离可能随衬底不同而不同时尤其如此。如已经提及的是，理想调整值直接地或间接地对真实的液位实际值的变化产生影响。例如当提升或降低运输设备或溢流棱边时，才给予直接的影响，因为所述运动非间接地、即直接地对液体的液位或相对垂直距离产生影响。然而，当前优选的为间接变化，因为所述间接变化如仍要示出的能够在结构上尤其简单地实现。因此，尤其优选的为，理想调整值涉及泵的流量，所述泵将反应液体输送到处理池中。借助于改变流量而同样改变在处理池中的液体液位。流量能够例如通过改变泵的电功率、通过操纵(打开/关闭)设置在液流中的阀或通过改变涡轮叶片的迎角来达到。在任何情况下，流量的变化为最終結果。尤其地，能够极其简单地实现对转数和电功率的影响，并且因此为优选的。优选地，将泵的特性曲线存储在调节设备的合适位置上，所述泵的特性曲线必要时与输送高度或反压相关地说明在流量(体积流)和泵的电功率之间的关联。根据另ー实施形式，理想调整值涉及泵的流量，所述泵将气泡输送到处理池中。通过气泡的量的变化能够改变液体体积并且因此也改变液位。此外,局部地提升液位也是可能的。只要所述气泡足够小，在气泡在表面爆炸时形成的波的危险就很小。如已经提及，可能的是，考虑将与处理液体接触的物体的数量作为理想调整值的·计量单位。为此必需的是，已知每个平坦物体的单个理想调整值。換言之，在合适位置上必须存放(储存)有下述数值，所述数值对于已知的衬底类型说明，必须怎样得出所述单个理想调整值，以便借助于所述单个理想调整值将液位实际值归于液位理想值。当然同样可能的，然而不太优选的是，毎次(也就是说，对于每个衬底或至少每种衬底类型)都重新计算相应的理想调整值。因此，从单个理想调整值和平坦物体的数量的乘积中得出(累积的或总体的)理想
调整值。根据另ー优选的实施形式，为了补偿而连续地确定偏移值，所述偏移值是连续检测的真实的实际调整值和理想调整值之间的差，并且将偏移值加到理想调整值上。例如借助于设置在泵的流动路径中的翼片式传感器来求得实际调整值。将所述数值传送给调节设备。如果理想调整值和(真实的、测量的)实际调整值发生变化，那么将所述差(偏差)添加到泵功率上或从泵功率中减去。类似地，还能够在作为泵的、用于控制相对垂直距离的其他设备中应用所述方法。对于完全没有物体存在于处理池中的情况而言，定义调整零值。在初始配置中定义所述调整零值并且将其存放到调节设备中的合适位置上。根据另ー实施形式，当超过与位于处理池中的平坦物体的数量和/或总覆盖面积(总表面积)相关的边界值时，才根据本发明调节相对垂直距离。设有边界值的优点为，在仅有很少数量的物体在处理池中、并且因此对液位的影响能够忽略时，也不进行任何调节，而是仅当由于物体引起的影响相应地大时，才采用所述调节。清楚的是，仍然应对物体的数量进行连续地监控，以便必要时能够快速地启动根据本发明的调节。显然，所述启动但是也还能够由人员手动地执行。尤其有利的是，平坦物体是尤其由硅制成的半导体衬底，和/或处理液体是刻蚀液，和/或调整參数如上所述涉及泵的流量。但是清楚的是，根据本发明的方法也能够用于其他的平坦物体，例如要单侧处理的玻璃板或电路板，并且也考虑水或净化液作为处理液体。如同样提到的，处理也能够仅限于对平坦物体的无防护的运输。代替对泵的流量的影响也能够考虑其他的调整參数，如与其考虑输送物体的运输设备的高度位置。根据另ー实施形式，已知与第一设备区域的处理液体接触的平坦物体的剩余路程，并且一旦剰余路程小于零或等于零，就通知所述设备区域将平坦物体传递到随后的设备区域中。換言之，当已知每个平坦物体的进入时间点以及运输速度时，没有必要对处理池中的物体的存在进行继续检測。从处理池(在所有条件下已知)的大小或长度以及运输速度中能够计算(确定)物体再次离开池的时间点，其中例如也能够间接地通过位于典型存在的运输滚处的转速传感器或编码器来求得所述运输速度。如果现在设备包括(具有彼此分离的处理液体或处理池的)多个设备区域，那么能够通知随后的设备区域物体离开第一设备区域。因此，随后的设备区域根本不需要其他的用于检测与所述随后的设备区域的处理液体接触的物体数量或总覆盖面积的设备，而对所述随后的设备区域的用于控制相对距离的设备的控制仅仅基于先前的设备区域的传输到所述随后的设备区域的信息。在依赖基于泵的特性曲线的调节来改变理想流量(理想调整值)的情况下，能够出现对实际流量(实际调整值)的过调，并且因此能够出现对相对垂直距离的过调；当上述特性曲线不是最优时尤其如此。这能够导致平坦物体的浮动，所述平坦物体，尤其在半导体衬底的情况下，在相对大的表面的情况下通常极其薄并且因此相当轻；典型的厚度为lOOym及更小，然而圆形衬底的直径已经为300mm和更大。
因此，使用第二调节算法用于根据晶圆进行匹配。因此，为避免对相对垂直距离的过调或对影响所述相对垂直距离的实际调整值的过调，确定理想调整值和调整零值之间的差并且传递给调节设备，其中所述调整零值为在不存在平坦物体的情况下的理想调整值。随后将所述差加到理想调整值上。这导致传递给调节模块的本来的理想值没有改变，并且因此没有从泵的特性曲线中读出新的数值。差仅在调节器的末级处添加到理想值上。因此，只对内部计算出的偏差产生影响。以这种方式进行对尤其如泵的、用于控制相对垂直距离的设备的较慢的向上调节或向下调节，使得极为有效地避免过调。显然也能够考虑其他的调节算法，例如所谓的如从现有技术中已知的比例积分微分(PID)调节。本发明也涉及ー种用于执行如上所述的根据本发明的方法的装置。根据本发明，所述装置尤其具有以下部件-调节设备，所述调节设备用于比较液位实际值和液位理想值，用于生成理想调整值，并且用于传送所述理想调整值；-用于控制相对垂直距离的设备，所述设备根据传送给其的理想调整值来控制相对垂直距离，以及-用于检测和/或确定平坦物体的与处理池中液体同时接触的总表面积(总覆盖面积)和/或用于检测和/或确定位于处理池中的平坦物体的数量的机构。此外，根据上述定义的、用于调节相对垂直距离的设备能够包括处理池以及至少部分地设置在所述处理池中的用于运输平坦物体的运输机构，其中运输机构限定运输平面，在所述运输平面中能够沿着运输路段来运输平坦物体。调节设备优选地借助于微型计算机等来实现，其中清楚的是，也提供用于输入和输出相应数据所必需的部件。如在更上面已经提到，用于控制的设备能够直接地或间接地对相对垂直距离产生影响，其中为了避免重复參见相应的段落。能够“检測”或“确定”平坦物体的与处理池中液体同时接触的总表面积(总覆盖面积)和/或位于处理池中的平坦物体的数量。用于检测和/或确定的“检测的”机构为测量设备，相反“确定的”机构例如又为(计算的)微型计算机。尤其优选的为，用于检测和/或确定平坦物体的与处理池中液体同时接触的总表面积的机构为光栅或照相机。当只检测物体的数量、但不检测物体的大小吋，因此优选使用光柵。照相机提供也检测不同大小和不同定向的物体的精确几何尺寸的优点。光栅或照相机能够优选地设置在传送路段的起始处或稍微设置在传送路段的起始处之前，以便将相应的信息及时传送给调节设备。也能够考虑的是，提供多个所述检测设备，以便例如实现部分地在唯一的处理池内根据在那里存在的物体——然后必要时仅局部地——提升或降低液位。然而，只要每个 物体的位置对于(中央的)调节设备的是已知的，那么优选的为，単独地控制必要时多次存在的、用于控制相对垂直距离的设备(例如泵)。当用于控制相对垂直距离的设备是具有可控制的流量的泵时，能够尤其简单地实现根据本发明的装置，借助于所述泵能够将处理液体输送到处理池中。已经描述了替选的实施形式并且因此不再重复。最后，设备也能够包括数据存储器，所述数据存储器用于存储位于处理池中的平坦物体的数量以及必要时的几何尺寸。可能地，即便当相应的数据由先前的设备部段提供时，在没有用于检测和/或确定的上述机构的情况下，这种数据存储器也足以实现根据本发明的方法。根据本发明的方法提供用于在设备中、例如尤其在连续式设备中进行液位调节的替选的方法，在所述设备中对例如尤其为由硅制成的半导体衬底的平坦物体进行单侧处理。根据本发明的方法很大程度上与物理测量的设备无关并且不仅是故障容限的也是耐用的。根据本发明提供的装置相对于现有技术中已知的装置具有一些少量的、但是重要的附加部件，所述附加部件允许以简单的和低成本的方式来执行根据本发明的方法。
在图I中示出流程图，所述流程图示意地示出根据本发明的方法的简单的实施形式。
具体实施例方式首先对平坦物体的与处理池中液体同时接触的总表面积(总覆盖面积)进行检测和/或确定和/或对位于处理池中的平坦物体的数量进行检测和/或确定。在图中简化地列举衬底的数量。从存储器中调用之前确定的(计算出来的或通过实验求得的)每个平坦物体(衬底)的流量变化以及泵的特性曲线。连同与处理液体接触的衬底数量求得理想调整值。将所述理想调整值传送给用于控制相对垂直距离的设备，所述设备例如为用于处理液体的泵。在此，除期望的理想调整值之外，也得出真实的实际调整值，即实际上由用于控制的实际上的设备实际提供的数值。典型地，所述两个数值不同。这通过确定偏差来检验，所述偏差在理想情况下应为零。
如果这是这种情况，那么设备调整衬底当前的数量，并且直到不需要进ー步地调整数量的变化(其被连续地检测)。
如果不是这种情况，那么根据偏差的符号(没有示出)，将所述差传送给用于控制的设备，使得实际调整值逐步地相应于理想调整值，直到偏差为零。如同从流程图中可见，对此不強制需要重新存取泵的特性曲线，这有利于防止调节的过调。
权利要求
1.用于调节在位于处理池中的处理液体的表面和要借助于所述处理液体单侧处理的平坦物体的下侧之间的相对垂直距离的方法，所述平坦物体与运输机构接触地且水平地沿着所述处理液体的所述表面运输，其中 (a)借助于调节设备将与当前垂直距离有关的液位实际值和与期望的垂直距离有关的液位理想值进行比较，并且在所述液位实际值和液位理想值不同的情况下 (b)所述调节设备生成理想调整值以用于达到所述液位理想值，所述调节设备将所述理想调整值 (c)传送给用于控制所述相对垂直距离的设备， 其特征在于，根据位于所述处理池中的所述平坦物体的与所述处理池中的液体同时接触的总表面积来求得所述液位实际值。
2.根据权利要求I所述的方法，其中根据所述平坦物体的数量和几何尺寸来确定所述总表面积。
3.根据权利要求I或2之一所述的方法，其中所述理想调整值仅间接地对改变实际的所述液位实际值产生影响。
4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述理想调整值涉及泵的流量，所述泵将处理液体输送到所述处理池中。
5.根据上述权利要求之一所述的方法，其中已知与给定物体相关联的单个理想调整值，并且所述理想调整值从所述单个理想调整值与所述平坦物体的数量的乘积中得出。
6.根据上述权利要求之一所述的方法，其中为了补偿还连续地确定偏移值，所述偏移值是连续检测的真实的实际调整值和所述理想调整值之间的差，并且其中将所述偏移值加到所述理想调整值上。
7.根据上述权利要求之一所述的方法，其中，附加地定义与位于所述处理池中的平坦物体的数量和/或所述总表面积相关的边界值，并且在超过所述边界值时，才对所述相对垂直距离进行根据本发明的调节。
8.根据上述权利要求之一所述的方法，其中所述平坦物体是半导体衬底，和/或所述处理液体是刻蚀液，和/或调整参数涉及泵的流量。
9.根据上述权利要求之一所述的方法，其中与第一设备区域的所述处理液体相接触的平坦物体的剩余路程是已知的，并且一旦所述剩余路程小于零或等于零，就通知所述设备区域将所述平坦物体传递到随后的设备区域中。
10.根据上述权利要求之一所述的方法，其中为避免对所述相对垂直距离的过调而确定理想调整值和调整零值之间的差，并且随后将所述差加到所述理想调整值上，所述调整零值为在不存在平坦物体时的所述理想调整值。
11.用于执行根据上述权利要求之一所述的方法的装置，其中，所述装置包括 -调节设备，所述调节设备用于比较所述液位实际值和所述液位理想值，用于生成理想调整值，并且用于传送所述理想调整值； -用于控制所述相对垂直距离的设备，所述用于控制所述相对垂直距离的设备根据传送给其的理想调整值来控制所述相对垂直距离，以及 -用于检测和/或确定所述平坦物体的与所述处理池中的所述液体同时接触的总表面积和/或检测和/或确定位于所述处理池中的所述平坦物体的数量的机构。
12.根据权利要求11所述的装置，其中所述用于检测所述平坦物体的所述总表面积和/或所述数量的机构是光栅或照相机，和/或其中所述装置包括用于检测和/或确定每个平坦物体的剩余路程的机构。
13.根据权利要求11或12之一所述的装置，其中所述用于控制所述相对垂直距离的设备是具有能够控制的流量的泵，处理液体能够借助所述泵输送到所述处理池中。
14.根据权利要求11至13之一所述的装置，所述装置还包括用于存储位于所述处理池中的所述平坦物体的所述数量和所述几何尺寸的数据存储器。
全文摘要
本发明涉及一种在以液体为基础的单侧处理平坦物体期间允许精确维持衬底和液体表面之间期望的相对垂直距离的方法以及一种适合于此的装置。该方法包括步骤借助于调节设备比较与当前的垂直距离相关的液位实际值和与期望的垂直距离相关的液位理想值，在偏离液位理想值时，调节设备生成理想调整值以用于达到液位理想值，调节设备将理想调整值传送给用于控制相对垂直距离的设备。该方法的特征在于，根据平坦物体的同时接触在处理池中的液体的总表面积求得液位实际值。本发明的装置包括调节设备、用于控制相对垂直距离的设备以及用于检测和/或确定平坦部件的同时接触处理池中液体的总表面积和/或用于检测和/或确定处理池中的平坦物体的数量的机构。
文档编号G05D9/12GK102955480SQ20121030858
公开日2013年3月6日 申请日期2012年8月27日 优先权日2011年8月25日
发明者拜尔·马库斯 申请人:睿纳有限责任公司