专利名称：一种单层Film双面ITO结构电容触控屏的制作方法
技术领域：
本发明涉及电容触控屏领域，尤其涉及一种单层胶片(FiIm)双面ITO结构电容触控屏。
背景技术：
触控屏是用于手机、电子书、数码相机等电子产品上的复合触摸屏，其中电容式触控屏是触控屏中最常用的一种。电容式触控屏是利用人体的电流感应进行工作。电容式触控屏通常是一块四层复合玻璃屏，当用户的手指触摸在电容式触控屏上时，由于人体电场，用户和电容式触控屏表面形成以一个耦合电容(对于高频电流来说，电容可以视为导体)，于是手指从电容式触控屏表面的触控点吸走一个很小的电流，这个电流分从电容式触控屏的四角上的电极中流出。流经这四个电极的电流与手指到四角的距离成正比，控制器通过对这四 个电流比例的精确计算，得出触摸点的位置。现有的电容式触控屏如图I所示，通常包括以下主要组成元件在玻璃基材上镀上了铟锡金属氧化物(ΙΤ0，Indium Tin Oxides)图案的纳米铟锡金属氧化物ITO传感器
10;对ITO传感器起保护作用的盖板(Cover Lens) 11 ;用于粘合ITO传感器10与Cover Lens 11的光学双面胶15 ;用于计算触控点并回报给处理器的柔性电路板12，以及用于显示图像的显示屏13。现有的电容触控屏是利用玻璃作为ITO图形的基材，切割良率较低，原材料、加工成本较高。另外，玻璃的特性是易碎，现有的电容式触控屏共有ITO传感器10与Cover Lens
11两片钢化玻璃，跌落后破碎的几率较大，且现有的电容式触控屏的Cover Lens 11通过光学双面胶与在玻璃基材上镀上了 ITO图案的ITO传感器贴合在一起，容易在两者之间产生气泡，影响产品良率。
发明内容
本发明实施例所要解决的技术问题在于，提供一种单层Fi Im双面ITO结构电容触控屏，可降低原材料、加工成本，提高产品韧性和产能，同时减轻产品的厚度及重量。为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种单层Film双面ITO结构电容触控屏，包括用于显示图像的显示屏，其中还包括设置于所述显示屏上，用于感测触控点的纳米铟锡金属氧化物ITO传感器，所述 ITO传感器是通过印刷蚀刻或镭射工艺，在Film上下两面各镀有一层带有特定ITO图形加工制成的ITO Film。所述ITO传感器上设有用于保护所述ITO传感器的盖板Cover Lens ;所述Cover Lens与ITO传感器通过光学双面胶粘合在一起。其中，所述单层Film双面ITO结构电容触控屏还包括与所述ITO传感器相连，用于计算触控点并回报给处理器的柔性电路板。
其中，所述Cover Lens由钢化玻璃制成。本发明实施例所提供的单层Film双面ITO结构电容触控屏，其利用Film作为ITO 图形的基材，打破了传统以玻璃作为ITO图形的基材的切割良率低的特点，降低了原材料及加工成本，在减小产品厚度及重量均有优势。进一步的,本发明提供的单层Film双面ITO结构电容触控屏,其ITO Film可通过成熟的蚀刻或镭射工艺加工，量产良率易控制，且Cover Lens和ITO传感器通过光学双面胶贴合时，因Film附着力的提高，气泡不良率降低。进一步的，本发明提供的单层Film双面ITO结构电容触控屏是以Film作为ITO 图形的基材，而现有的电容触控屏是以玻璃作为ITO图形的基材，玻璃的特性是易碎，相比而言，本发明提供的单层Film双面ITO结构电容触控屏提高了产品的韧性。
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图I是现有的电容触控屏结构示意图； 图2是本发明实施例提供的单层Film双面ITO结构电容触控屏结构示意图；图3是本发明实施例提供的单层Film双面ITO结构电容触控屏中的CoverLens、 光学双面胶以及ITO传感器的分解示意图。
具体实施例方式本发明实施例所提供的单层Film双面ITO结构电容触控屏，可降低原材料、加工成本，提高产品韧性和产能，同时减轻产品的厚度及重量。下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。参见图2和图3，为本发明实施例提供的单层Film双面ITO结构电容触控屏结构示意图，图3为该单层Fi Im双面ITO结构电容触控屏中的Cover Lens、光学双面胶以及ITO 传感器的分解示意图。该单层Film双面ITO结构电容触控屏如图2、3所示，包括显示屏 21、ITO传感器22、Cover Lens 23以及粘合所述Cover Lens 23与ITO传感器22的光学双面胶24。显示屏21用于显示图像,优选IXD显示屏。ITO传感器22设置于所述显示屏21上，用于感测触控点。所述ITO传感器是通过印刷蚀刻或镭射工艺，在Film上下两面各镀有一层带有特定ITO图形加工制成的ITO Film。该特定的ITO图形可以屏蔽显示屏21对ITO传感器22的干扰。Cover Lens23设置于所述ITO传感器22上，用于保护所述ITO传感器22 ;所述 Cover Lens23与ITO传感器22通过光学双面胶24粘合在一起。所述Cover Lens23优选由钢化玻璃制成。Cover Lens23和ITO传感器22通过光学双面胶24贴合的时候，因Film 附着力的提高，使Cover Lens23和ITO传感器22之间的气泡不良率降低。进一步的，本发明实施例提供的所述单层Film双面ITO结构电容触控屏还包括 柔性电路板25，该柔性电路板25与所述ITO传感器22相连，用于计算触控点并回报给处理器。通过上述描述可知，本发明提供的单层Film双面ITO结构电容触控屏至少具有以下优点(I)原材料成本降低。现有的电容触控屏技术是利用镜片(Glass)作为ITO图形的基材，切割良率低，成本居高不下。本发明提供的单层Film双面ITO结构电容触控屏是利用胶片(Film)作为ITO图形的基材，原材料及加工成本均有显著下降。(2)产品总体厚度及重量降低。现有的电容触控屏的产品结构是Cover Lens+光学胶+ITO Glass+IXD。本发明提供的单层Film双面ITO结构电容触控屏的产品结构是 Cover Lens+光学胶+ITO Film+LCD。ITO Film与ITO Glass相比，在厚度及重量上都有优势。(3)产品的韧性提升。触控屏跌落测试是产品测试中的一个非常重要的环节。玻璃的特性就是易碎，而现有的电容式触控屏共有两片钢化玻璃，跌落后破碎的几率较大。相比而言，本发明提供的单层Film双面ITO结构电容触控屏采用一片玻璃和一片Film的组合则大大提升了产品的韧性。值得注意的是，本发明描述的是单层Film双面ITO结构电容触控屏的一种产品形式，其它满足本发明所述结构的产品，即使材质、器件名称、外观、器件摆放顺序等不影响产品特性的因素不相同，仍然属于本发明保护的范围。 以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。
权利要求
1.一种单层Film双面ITO结构电容触控屏，包括用于显示图像的显示屏，其特征在于， 还包括设置于所述显示屏上，用于感测触控点的纳米铟锡金属氧化物ITO传感器，所述ITO传感器是通过印刷蚀刻或镭射工艺，在Film上下两面各镀有一层带有特定ITO图形加工制成的 ITO Film。所述ITO传感器上设有用于保护所述ITO传感器的盖板Cover Lens;所述Cover Lens 与ITO传感器通过光学双面胶粘合在一起。
2.如权利要求I所述的单层Film双面ITO结构电容触控屏，其特征在于，所述单层 Film双面ITO结构电容触控屏还包括与所述ITO传感器相连，用于计算触控点并回报给处理器的柔性电路板。
3.如权利要求I或2所述的单层Film双面ITO结构电容触控屏，其特征在于，所述 Cover Lens由钢化玻璃制成。
全文摘要
本发明实施例公开了一种单层Film双面ITO结构电容触控屏，包括用于显示图像的显示屏；设置于所述显示屏上，用于感测触控点的纳米铟锡金属氧化物ITO传感器，所述ITO传感器是通过印刷蚀刻或镭射工艺，在Film上下两面各镀有一层带有特定ITO图形加工制成的ITO Film；所述ITO传感器上设有用于保护所述ITO传感器的盖板Cover Lens；所述Cover Lens与ITO传感器通过光学双面胶粘合在一起。本发明实施例所公开的单层Film双面ITO结构电容触控屏，可降低原材料、加工成本，提高产品韧性和产能，同时减轻产品的厚度及重量。
文档编号G06F3/044GK102722302SQ201210171979
公开日2012年10月10日 申请日期2012年5月29日 优先权日2012年5月29日
发明者吴宝玉, 方维祥 申请人:格林精密部件(惠州)有限公司