基于SIFT特征点的双标签相对位置信息构建方法与流程

本发明涉及图像防伪领域，尤其涉及一种基于SIFT特征点的双标签相对位置信息构建方法。

背景技术：

目前，图片防伪技术被广泛应用于商品的流通、销售等领域。一部分方法采用信息安全领域中的水印技术。另外一部分方法集中在提取图片的几何纹理特征。但上述这些方法往往集中在像素水平，缺点是需要区域的大部分像素都要参与，计算量大。

技术实现要素：

本发明要解决的技术问题在于针对现有技术中的缺陷，提供一种基于SIFT特征点的双标签相对位置信息构建方法。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种基于SIFT特征点的双标签相对位置信息构建方法，所述双标签包括上层标签和下层标签；所述上层标签整体边界处在下层标签的边界范围内；所述下层标签的纹理信息为包括丰富的灰度梯度特征信息的用于SIFT特征提取的纹理信息；

包括以下步骤：

1)选择一个带有双层标签的真实商品，对其双标签拍摄n副不同角度的图片记为P_i,i＝1,…,n；选择其中一副作为模板图片，记为P₁，其中的上下层标签的相对位移作为参照物；选择另一副作为待测图片，记为P₂；对图片P₁，P₂中上下层标签进行SIFT特征点检测，得到P₁，P₂上层标签的SIFT特征点集F₁，F₂；P₁，P₂下层标签的SIFT特征点集f₁，f₂；分别获取上下层标签SIFT特征点的物理坐标，存储至少70％的SIFT特征点的坐标信息；

2)对P₁，P₂下层标签进行SIFT特征配准，得到P₁和P₂中相对应的SIFT配准点集f1’和集f2’，存储f1’和f2’中所有SIFT特征点的位置坐标信息；

3)利用f1’和f2’中所有SIFT特征点的位置坐标构造P₂到P₁的仿射变换矩阵M，将P₁和P₂的下层标签归一化到同一个物理位置,以削弱不同拍摄角度和商品不同摆放位置带来的影响；

4)对P₁、P₂上层标签进行SIFT特征配准，得到P₁和P₂中相对应的SIFT配准点集F₁’和F₂’，存储F₁’和F₂’中所有SIFT特征点的位置坐标信息；对F₂’中SIFT特征点利用仿射矩阵计算仿射变换后的SIFT特征点集F₂”；

5)计算F₂”与F₁’中对应SIFT特征点之间的距离d，此距离即反映了P₂中上层标签相对下层标签的相对位置信息。

按上述方案，所述下层标签的面积大于等于上层标签面积的3倍。

按上述方案，所述下层标签底纹至少能保证检测出300个SIFT特征点。

本发明产生的有益效果是：本发明方法通过引入SIFT特征点丰富了图片的描述信息，计算量小，鲁棒性好。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中：

图1是本发明实施例的双标签示意图；

图2是本发明实施例的双标签特征点检测示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

如图1所示，一种基于SIFT特征点的双标签相对位置信息构建方法，所述双标签包括上层标签和下层标签；所述上层标签整体边界处在下层标签的边界范围内；所述下层标签的纹理信息包括丰富的灰度梯度特征信息,用于SIFT特征提取；

包括以下步骤：

1)选择一个带有双层标签的真实商品，对其双标签拍摄n副不同角度的图片记为P_i,i＝1,…,n；选择其中一副作为模板图片，记为P₁，其中的上下层标签的相对位移作为参照物；选择另一副作为待测图片，记为P₂；如图2，对图片P₁，P₂中上下层标签进行SIFT特征点检测，得到P₁，P₂上层标签的SIFT特征点集F₁，F₂；P₁，P₂下层标签的SIFT特征点集f₁，f₂，图片经过SIFT特征检测后如图2；分别获取上下层标签SIFT特征点的物理坐标，存储70％的SIFT特征点的坐标信息；

2)对P₁，P₂下层标签进行SIFT特征配准，得到P₁和P₂中相对应的SIFT配准点集f1’和集f2’，存储f1’和f2’中所有SIFT特征点的位置坐标信息；

3)利用f1’和f2’中所有SIFT特征点的位置坐标构造P₂到P₁的仿射变换矩阵M，将P₁和P₂的下层标签归一化到同一个物理位置,以削弱不同拍摄角度和商品不同摆放位置带来的影响；

4)对P₁，P₂上层标签进行SIFT特征配准，得到P₁和P₂中相对应的SIFT配准点集F₁’和F₂’，存储F₁’和F₂’中所有SIFT特征点的位置坐标信息；对F₂’中SIFT特征点利用仿射矩阵计算仿射变换后的SIFT特征点集F₂”。

5)计算F₂”与F₁’中对应SIFT特征点之间的距离d，此距离即反映了P₂中上层标签相对下层标签的相对位置信息。

应当理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，而所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。