一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置与流程

本发明实施例涉及半导体技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置。

背景技术：

指纹对于每一个人而言是与身俱来的，是独一无二的，随着科技的发展，市场上出现了多种带有指纹识别功能的显示装置，如手机、平板电脑以及智能可穿戴设备等。这样，用户在操作带有指纹识别功能的显示装置前，只需要用手指触摸显示装置的指纹识别模组，就可以进行权限验证，简化了权限验证过程。

现有的带有指纹识别功能的显示装置中，为了保证显示装置具备较大开口区域，一般在显示装置的非出光侧设置指纹识别装置，但是将指纹识别装置设置在非出光侧，如此指纹识别装置上方设置有多个膜层，多个膜层会减弱屏幕反射过来的光到达指纹识别装置的光线强度，降低指纹识别的准确性。

技术实现要素：

有鉴于此，本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置，以解决现有技术中将指纹识别装置设置在非出光侧时指纹识别装置灵敏度较低的技术问题。

第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括：

第一衬底基板和位于所述第一衬底基板一侧的指纹识别单元，所述指纹识别单元包括光敏二极管，所述指纹识别单元用于根据经由触摸主体反射到所述指纹识别单元的光线进行指纹识别；

位于所述第一衬底基板上远离所述指纹识别单元一侧的驱动电路层，所述驱动电路层以及所述第一衬底基板中形成有至少一个开口结构，所述开口结构在所述第一衬底基板上的垂直投影与所述光敏二极管在所述第一衬底基板上的垂直投影存在交叠区域；

透明膜层，所述透明膜层至少填充所述开口结构中。

第二方面，本发明实施例还提供了一种阵列基板的制备方法，包括：

提供一第一衬底基板并在所述第一衬底基板一侧形成指纹识别单元，所述指纹识别单元包括光敏二极管，所述指纹识别单元用于根据经由触摸主体反射到所述指纹识别单元的光线进行指纹识别；

在所述第一衬底基板上远离所述指纹识别单元的一侧形成驱动电路层，并在所述驱动电路层和所述第一衬底基板上形成开口结构，所述开口结构在所述第一衬底基板上的垂直投影与所述光敏二极管在所述第一衬底基板上的垂直投影存在交叠区域；

在所述驱动电路层远离所述第一衬底基板的一侧形成透明膜层，所述透明膜层至少填充在所述开口结构中。

第三方面，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括第一方面所述的阵列基板，还包括与所述阵列基板对向设置的对置基板。

第四方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括第三方面所述的显示面板。

本发明实施例提供的阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置，通过在驱动电路层和第一衬底基板中形成至少一个开口结构，且开口结构在衬底基板上的垂直投影与指纹识别单元中的光敏二极管在衬底基板上的投影存在交叠区域，如此，通过在开口结构中填充透明膜层，保证光敏二极管上方存在透明膜层，提高光敏二极管上方膜层的透过率，保证指纹识别单元可以良好地接收经由触摸主体反射到指纹识别单元的光线，保证指纹识别单元检测灵敏度。

附图说明

为了更加清楚地说明本发明示例性实施例的技术方案，下面对描述实施例中所需要用到的附图做一简单介绍。显然，所介绍的附图只是本发明所要描述的一部分实施例的附图，而不是全部的附图，对于本领域普通技术人员，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图得到其他的附图。

图1a是本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图；

图1b是图1a中沿a-a’的剖面结构示意图；

图2是本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；

图3a是本发明实施例提供的一种指纹识别单元的电路结构示意图；

图3b是本发明实施例提供的一种指纹识别单元的膜层结构示意图；

图4是本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；

图5是本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；

图6是本发明实施例提供的一种阵列基板的制备方法的流程示意图；

图7a是本发明实施例提供的在第一衬底基板一侧形成指纹识别单元的结构示意图；

图7b是本发明实施例提供的形成驱动电路层的结构示意图；

图7c是本发明实施例提供的在驱动电路层和第一衬底基板上形成开口结构的示例图；

图7d是本发明实施例提供的形成透明膜层的结构示意图；

图7e是本发明实施例提供的制备有机发光结构的结构示意图；

图8是本发明实施例提供的另一种阵列基板的制备方法的流程示意图；

图9a是本发明实施例提供的在第一衬底基板一侧制备第二衬底基板的结构示意图；

图9b是本发明实施例提供的在第二衬底基板远离第一衬底基板的一侧形成指纹识别单元的结构示意图；

图10是本发明实施例提供的另一种阵列基板的制备方法的流程示意图；

图11是本发明实施例提供的在指纹识别单元远离第一衬底基板的一侧形成第二衬底基板的结构示意图；

图12是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图13是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，以下将结合本发明实施例中的附图，通过具体实施方式，完整地描述本发明的技术方案。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本发明的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下获得的所有其他实施例，均落入本发明的保护范围之内。

每个人包括指纹在内的皮肤纹路在图案、断点和交叉点上各不相同，呈现唯一性且终生不变。据此，我们可以把一个人同他的指纹对应起来，通过将他的指纹和预先保存的指纹数据进行比较，以验证他的真实身份，这就是指纹识别技术。得益于电子集成制造技术和快速而可靠的算法研究，指纹识别技术中光学指纹识别技术已经开始走入我们的日常生活，成为目前生物检测学中研究最深入，应用最广泛，发展最成熟的技术。光学指纹识别技术的工作原理为，显示面板中光源发出的光线照射到触摸主体(如手指)上，经手指反射形成反射光，所形成的反射光(即指纹信号光)传输至指纹识别单元中，指纹识别单元对入射到其上的光信号进行采集。由于指纹上存在特定的纹路，在手指各位置处形成反射光强度不同，最终使得各指纹识别单元所采集到的光信号不同，据此可以确定用户真实身份。

图1a是本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图，图1b是图1a中沿a-a’的剖面结构示意图，请参阅图1a和图1b，本发明实施例提供的阵列基板可以包括：

第一衬底基板10和位于第一衬底基板10一侧的指纹识别单元20，指纹识别单元20包括光敏二极管201，指纹识别单元20用于根据经由触摸主体反射到指纹识别单元20的光线进行指纹识别；

位于第一衬底基板10上远离指纹识别单元20一侧的驱动电路层30，驱动电路层30以及第一衬底基板10中形成有至少一个开口结构40，开口结构40在第一衬底基板10上的垂直投影与光敏二极管201在第一衬底基板10上的垂直投影存在交叠区域；

透明膜层50，所述透明膜层50至少填充开口结构40中。

示例性的，指纹识别单元20可以用于根据经由触摸主体(例如手指)反射到其上的光线进行指纹识别，由于指纹识别单元20上依次设置有第一衬底基板10和驱动电路层30，第一衬底基板10和驱动电路层30可能会阻挡触摸主体反射到指纹识别单元20上的光线，造成指纹识别单元20接收到的光线减少，进而造成指纹识别单元20识别灵敏度降低，因此，在第一衬底基板10和驱动电路层30中形成有至少一个开口结构40，且开口结构40在第一衬底基板10上的垂直投影与指纹识别单元20中的光敏二极管201在第一衬底基板10上的垂直投影存在交叠区域，并且开口结构40中填充有透明膜层50，如此，指纹识别单元20中的光敏二极管201上方形成有透明膜层50，位于指纹识别单元20所在膜层之上的第一衬底基板10和驱动电路层30不会阻挡触摸主体反射到指纹识别单元20上的光线，指纹识别单元20可以良好地接收经由触摸主体反射到指纹识别单元20的光线，保证指纹识别单元20检测灵敏度。

可选的，第一衬底基板10可以为柔性衬底基板，其材料可以包括聚酰亚胺或者纳米银浆中的至少一种。并且第一衬底基板10一侧形成有驱动电路层30，驱动电路层30在制备过程中可能产生大量热量，因此第一衬底基板10需要承受驱动电路层30制备过程中产生的大量热量，例如驱动电路层30包括低温多晶硅薄膜晶体管(ltps-tft)，因此第一衬底基板10需要由耐高温材料制备。现有技术中，由于可以承受ltps-tft高温制程的柔性有机材料多为低透过率材料，因此会减弱屏幕表面反射过来的光到达指纹识别单元20的强度，降低光感触控的信噪比。并且如果为了提高ltps-tft的性能，需要进一步提高ltps-tft工艺温度，耐高温的柔性基板材料透过率更低，因此指纹识别单元20受影响程度更大。如此，在驱动电路层30制备完成后，在指纹识别单元20上方的第一衬底基板10和驱动电路层30中形成有至少一个开口结构40，在开口结构40中填充有透明膜层50，如此既可以保证第一衬底基板10可以承受驱动电路层30中的ltps-tft高温制程，保证第一衬底基板10不会受到损伤，同时还可以通过开口结构40中的透明膜层50保证指纹识别单元20中接收的经由触摸主体反射到指纹识别单元20上的光线不会减少，保证指纹识别单元20检测灵敏度。

可选的，指纹识别单元20设置于第一衬底基板10远离驱动电路层30的一侧，指纹识别单元20位于阵列基板的非出光侧，如此设置保证指纹识别单元20不影响阵列基板的发光区域，保证阵列基板显示时具备较大的显示开口率。

可选的，透明膜层50的材料可以包括对苯二甲酸乙二醇酯、乙烯-醋酸乙烯共聚物以及亚克力材料中的至少一种，保证经由触摸主体反射的光线经过透明膜层50可以到达指纹识别单元20。

可选的，透明膜层50至少填充开口结构40中，图1a和图1b仅以透明膜层50填充开口结构40为例进行说明，透明膜层50还可以包括位于驱动电路层30上的部分(图中未示出)，由于阵列基板还可以包括位于驱动电路层30上远离第一衬底基板10一侧的其他膜层，因此位于驱动电路层30上的透明膜层50部分可以作为驱动电路层30与其上方膜层之间的绝缘层。

可选的，开口结构40靠近第一衬底基板10一侧的底面位于第一衬底基板10中或者开口结构40贯穿第一衬底基板10。图1b仅以开口结构40贯穿第一衬底基板10为例进行示例性说明，如图1b所示，由于第一衬底基板10位于指纹识别单元20靠近阵列基板出光一侧，因此，在第一衬底基板10中设置开口结构40，无论开口结构40的底面位于第一衬底基板10中或者开口结构40贯穿第一衬底基板10，均可以减弱第一衬底基板10对触摸主体反射到指纹识别单元20上的光线的影响，保证指纹识别单元20可以良好地接收触摸主体反射的光线，保证指纹识别灵敏度。

可选的，开口结构40在第一衬底基板10上的垂直投影与光敏二极管201在第一衬底基板10上的垂直投影存在交叠区域，保证经由触摸主体反射的光线可以到达光敏二极管201，进而指纹识别单元20可以进行指纹识别。可选的，开口结构40在第一衬底基板10上的垂直投影与光敏二极管201在第一衬底基板10上的垂直投影完全重合，如此，光敏二极管201的整个表面均可以接收经由触摸主体反射的光线，指纹识别单元20指纹识别灵敏度高。

继续参考图1a和图1b，本发明实施例提供的阵列基板还可以包括有机发光结构60，有机发光结构60位于驱动线路层30远离第一衬底基板10的一侧，有机发光结构60用于根据驱动电路层30提供的驱动信号进行发光。

具体的，如图1b所示，驱动电路层30可以包括有源层301、源极电极302、栅极电极303和漏极电极304，有机发光结构60可以包括阳极电极601、有机发光层602和阴极电极603，其中，阳极电极601和漏极电极304通过过孔电连接，保证有机发光结构60可以根据驱动电路层30提供的驱动信号进行发光。

可选的，由于指纹识别单元20需要依赖光源发出的光线进行指纹识别，因此有机发光结构60可以作为指纹识别单元20的光源，为指纹识别单元20进行指纹识别提供光源，指纹识别单元20用于根据有机发光结构60发光的光线经由触摸主体反射到指纹识别单元20进行指纹识别。如图1b所示，有机发光结构60发出的光线照射到触摸主体，触摸主体通常为手指，指纹由位于指端皮肤表面的一系列脊91和谷92组成，由于指纹识别单元20接收到的脊91和谷92反射的光线强度不同，使得由在脊91的位置处形成的反射光和在谷92的位置处形成的反射光转换成的电流信号大小不同，进而根据电流信号大小可以进行指纹识别。需要说明的是，触摸主体也可以为手掌等，指纹识别单元可根据掌纹实现探测和识别的功能。如此，设置有机发光结构60作为指纹识别单元20的光源，不必为指纹识别单元20单独设置光源，不仅保证指纹识别单元20的光源设置方式简单，同时整个阵列基板膜层结构简单，符合阵列基板薄型化发展趋势。

可选的，本发明实施例提供的阵列基板可以包括多个指纹识别单元20和多个有机发光结构60，指纹识别单元20与有机发光结构60一一对应，每个有机发光结构60为与其对应设置的指纹识别单元20提供光源，保证指纹识别单元20可以正常进行指纹识别。图1b仅以阵列基板包括一个指纹识别单元20和一个有机发光结构60为例进行示例性说明。

可选的，除了复用有机发光结构60作为指纹识别单元20的光源之外，还可以为指纹识别单元20单独设置指纹识别光源70，如图2所示。具体的，图2是本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图，图2所示的阵列基板还包括指纹识别光源70，指纹识别光源70位于指纹识别单元20远离第一衬底基板10的一侧，指纹识别单元20用于根据指纹识别光源70发出的光线经由触摸主体反射到指纹识别单元20以进行指纹识别。考虑到上述有机发光结构60用于产生显示图像的光，采用指纹识别光源70作为指纹识别单元20的光源，在显示阶段，指纹识别光源70不发光，避免影响显示效果；在指纹识别阶段，有机发光结构60不发光，避免由有机发光结构60漏出的光，以及发出的光经触摸主体反射后到达指纹识别单元20，对指纹识别造成干扰。需要说明的是，将有机发光结构60复用为指纹识别单元20的光源，需要保证显示过程与指纹识别过程同步进行，而单独设置指纹识别光源70，则可以将显示过程与指纹识别过程区别开来，指纹识别过程不必受显示过程的制约，保证指纹识别过程灵活。

可选的，图3a是本发明实施例提供的一种指纹识别单元的电路结构示意图，图3b是本发明实施例提供的一种指纹识别单元的膜层结构示意图，参考图3a和图3b，指纹识别单元20可以包括光敏二极管201、存储电容202和驱动薄膜晶体管203；光敏二极管201的正极d1与存储电容202的第一电极c1电连接，光敏二极管201的负极d2与存储电容202的第二电极c2以及驱动薄膜晶体管203的源极ts电连接；驱动薄膜晶体管203的栅极tg与开关控制线gate电连接，驱动薄膜晶体管203的漏极td与信号检测线data电连接；光敏二极管201用于将触摸主体反射的指纹信号光转换成电流信号；在指纹识别阶段，驱动薄膜晶体管203导通，所述电流信号经驱动薄膜晶体管203传输至信号检测线data，以根据所述电流信号进行指纹识别。

具体的，光敏二极管201还包括位于正极d1和负极d2之间的pin结d3。其中，负极d2由不透光金属形成，且pin结d3的边界不超过负极d2的边界。光敏二极管201的正极d1位于pin节d3远离负极d2的一侧。pin结d3具有光敏特性，并且具有单向导电性。无光照时，pin结d3有很小的饱和反向漏电流，即暗电流，此时光敏二极管201截止；当受到光照时，pin结d3的饱和反向漏电流大大增加，形成光电流，光电流随入射光强度的变化而变化。

可选的，图4是本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图，图4所示的阵列基板与上述实施例所述的阵列基板的区别在于，图4所述的阵列基板还可以包括第二衬底基板80，第二衬底基板80位于第一衬底基板10和指纹识别单元20之间。

如图4所示，在第一衬底基板10和指纹识别单元20之间设置第二衬底基板80，由于第二衬底基板80位于第一衬底基板10远离驱动电路层30一侧，第二衬底基板80与驱动电路层30之间设置有第一衬底基板10，因此，相比于第一衬底基板10，第二衬底基板80承受驱动电路层30制备过程中产生的热量较少，因此，第二衬底基板80的耐高温性能可以低于第一衬底基板10的耐高温性能，又由于耐高温的柔性基板材料透过率更低，因此，第二衬底基板80的透过率可以高于第一衬底基板10的透过率，因此可以不在第二衬底基板80上设置开口结构40，同样可以保证指纹识别单元20接收到经由触摸主体反射的光线，保证指纹识别单元20可以正常进行指纹识别。

可选的，在第一衬底基板10和指纹识别单元20之间设置第二衬底基板80，第一衬底基板10中设置有开口结构40，第二衬底基板80中没有设置开口结构40，可以保证在第一衬底基板10制备开口结构40时，不会对位于其下的指纹识别单元20造成损伤，保证指纹识别单元20功能完好。

可选的，第一衬底基板10与第二衬底基板80之间还可以包括无机层(图中未示出)，如此可以保证在第一衬底基板10中形成开口结构40时，由于第一衬底基板10与无机层材料不同，可以保证开口结构40制备时截止在第一衬底基板10中，不会对第二衬底基板80造成损伤。

可选的，设置第一衬底基板10和第二衬底基板80，还可以保证阵列基板的整个衬底基板较厚，避免造成衬底基板卷曲现象。

可选的，第二衬底基板80同样可以为柔性衬底基板，其材料可以包括聚酰亚胺或者纳米银浆中的至少一种。

可选的，图5是本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图，图5所示的阵列基板与上述实施例所述的阵列基板的区别在于，图5所述的阵列基板还可以包括第二衬底基板80，第二衬底基板80位于指纹识别单元20远离第一衬底基板10的一侧。

如图5所示，在指纹识别单元20远离第一衬底基板10的一侧设置有第二衬底基板80，第二衬底基板80可以保护指识别单元20，避免外界环境对指纹识别单元20造成损伤。还需说明的一点是，现有技术中，柔性的阵列基板制备一般是通过在刚性基板上先沉积一层柔性材料(相当于本申请的第二衬底基板80)，然后在柔性材料上制备其他显示器件，其他显示器件制备完成后将刚性基板剥离得到柔性阵列基板，由于剥离刚性基板时一般采用激光剥离技术，在剥离刚性基板的过程中可能造成柔性材料(第二衬底基板80)损伤，因此，本发明实施例提供的阵列基板除了包括第一衬底基板10外，还包括第二衬底基板80，指纹识别单元20设置于第一衬底基板10与第二衬底基板80之间，如此即使第二衬底基板80在阵列基板的制备过程中受到损伤，那么指纹识别单元20没有受损，保证指纹识别功能完好。同时第一衬底基板10覆盖指纹识别单元20，指纹识别单元20位于阵列基板的非出光侧，如此设置保证指纹识别单元20不影响阵列基板的发光区域，保证阵列基板显示时具备较大的显示开口率。图6是本发明实施例提供的一种阵列基板的制备方法的流程示意图，如图6所示，本发明实施例提供的制备方法可以包括：

s110、提供一第一衬底基板并在所述第一衬底基板一侧形成指纹识别单元，所述指纹识别单元包括光敏二极管，所述指纹识别单元用于根据经由触摸主体反射到所述指纹识别单元的光线进行指纹识别。

图7a是本发明实施例提供的在第一衬底基板一侧形成指纹识别单元的结构示意图，如图7a所示，指纹识别单元20可以包括光敏二极管201。

可选的，第一衬底基板10可以为柔性衬底基板，其材料可以包括聚酰亚胺或者纳米银浆中的至少一种。

s120、在所述第一衬底基板上远离所述指纹识别单元的一侧形成驱动电路层，并在所述驱动电路层和所述第一衬底基板上形成开口结构，所述开口结构在所述第一衬底基板上的垂直投影与所述光敏二极管在所述第一衬底基板上的垂直投影存在交叠区域。

图7b是本发明实施例提供的形成驱动电路层的结构示意图，如图7b所示，驱动电路层30可以包括薄膜晶体管，具体可以包括有源层301、源极电极302、栅极电极303和漏极电极304，所述薄膜晶体管可以为顶栅结构薄膜晶体管或者底栅结构薄膜晶体管，图7b仅以顶栅结构薄膜晶体管进行示例性说明。

图7c是本发明实施例提供的在驱动电路层和第一衬底基板上形成开口结构的示例图，如图7c所示，在驱动电路层30和第一衬底基板10上形成有开口结构40，具体可以通过对驱动电路层30和第一衬底基板进行刻蚀，形成开口结构40。如图7c所示，开口结构40在第一衬底基板10上的垂直投影与光敏二极管201在第一衬底基板10上的垂直投影存在交叠区域。

s130、在所述驱动电路层远离所述第一衬底基板的一侧形成透明膜层，所述透明膜层至少填充在所述开口结构中。

图7d是本发明实施例提供的形成透明膜层的结构示意图，如图7d所示，在驱动电路层30远离第一衬底基板10的一侧形成透明膜层50，透明膜层50至少填充开口结构40中，还可以位于驱动电路层30远离第一衬底基板10的一侧，充当驱动电路层30与其上膜层之间的绝缘层。

可选的，透明膜层50的材料可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、乙烯-醋酸乙烯共聚物以及亚克力材料中的至少一种。

s140、在所述透明膜层上远离所述驱动电路层的一侧制备有机发光结构。

图7e是本发明实施例提供的制备有机发光结构的结构示意图，如图7e所示，有机发光结构60可以包括阳极电极601、有机发光层602和阴极电极603，阳极电极与漏极电极304通过过孔连接。

综上，本发明实施例提供的阵列基板的制备方法，通过在驱动电路层和第一衬底基板中形成至少一个开口结构，且开口结构在衬底基板上的垂直投影与指纹识别单元中的光敏二极管在衬底基板上的投影存在交叠区域，如此，通过在开口结构中填充透明膜层，保证光敏二极管上方存在透明膜层，提高光敏二极管上方膜层的透过率，保证指纹识别单元可以良好地接收经由触摸主体反射到指纹识别单元的光线，保证指纹识别单元检测灵敏度。

可选的，开口结构40靠近第一衬底基板10一侧的底面位于第一衬底基板10中或者开口结构40贯穿第一衬底基板10，如此，在驱动电路层40和第一衬底基板10上制备开口结构40，可以包括：

刻蚀驱动电路层30和第一衬底基板10形成开口结构40，以使开口结构40靠近第一衬底基板10一侧的底面位于第一衬底基板中10；或者；

刻蚀驱动电路层30和第一衬底基板10形成开口结构40，以使开口结构40贯穿驱动电路层30和第一衬底基板10。

图8是本发明实施例提供的另一种阵列基板的制备方法的流程示意图，本实施例提供的阵列基板的制备方法与上述实施例所述的阵列基板的制备方法的区别在于还包括制备第二衬底基板，如图8所示，所述制备方法可以包括：

s210、提供一第一衬底基板并在所述第一衬底基板一侧制备第二衬底基板。

图9a是本发明实施例提供的在第一衬底基板一侧制备第二衬底基板的结构示意图，第一衬底基板10和第二衬底基板80均可以为柔性衬底基板，其材料可以包括聚酰亚胺或者纳米银浆中的至少一种。

可选的，第一衬底基板10与第二衬底基板80之间还可以包括无机层(图中未示出)。

s220、在所述第二衬底基板一侧远离所述第一衬底基板的一侧形成指纹识别单元，所述指纹识别单元包括光敏二极管，所述指纹识别单元用于根据经由触摸主体反射到所述指纹识别单元的光线进行指纹识别。

图9b是本发明实施例提供的在第二衬底基板远离第一衬底基板的一侧形成指纹识别单元的结构示意图，如图9b所示，指纹识别单元20可以包括光敏二极管201。

s230、在所述第一衬底基板上远离所述指纹识别单元的一侧形成驱动电路层，并在所述驱动电路层和所述第一衬底基板上形成开口结构，所述开口结构在所述第一衬底基板上的垂直投影与所述光敏二极管在所述第一衬底基板上的垂直投影存在交叠区域。

继续参考图7b和图7c所示，在第一衬底基板10上远离指纹识别单元20的一侧形成驱动电路层30，并且在驱动电路层30和第一衬底基板10上形成开口结构40，开口结构40在第一衬底基板10上的垂直投影与光敏二极管201在第一衬底基板10上的垂直投影存在交叠区域。

s240、在所述驱动电路层远离所述第一衬底基板的一侧形成透明膜层，所述透明膜层至少填充在所述开口结构中。

继续参考图7d，在驱动电路层30远离第一衬底基板10的一侧形成透明膜层50，透明膜层50至少填充开口结构40中。

s250、在所述透明膜层上远离所述驱动电路层的一侧制备有机发光结构。

综上，本发明实施例提供的阵列基板的制备方法，不仅可以提高光敏二极管上方膜层的透过率，保证指纹识别单元可以良好地接收经由触摸主体反射到指纹识别单元的光线，保证指纹识别单元检测灵敏度，并且，通过在第一衬底基板和指纹识别单元之间形成第二衬底基板，保证在第一衬底基板制备开口结构时，不会对位于其下的指纹识别单元造成损伤，保证指纹识别单元功能完好。

图10是本发明实施例提供的另一种阵列基板的制备方法的流程示意图，本实施例提供的阵列基板的制备方法与上述实施例所述的阵列基板的制备方法的区别在于在指纹识别单元远离第一衬底基板的一侧制备第二衬底基板，如图10所示，所述制备方法可以包括：

s310、提供一第一衬底基板并在所述第一衬底基板一侧形成指纹识别单元，所述指纹识别单元包括光敏二极管，所述指纹识别单元用于根据经由触摸主体反射到所述指纹识别单元的光线进行指纹识别。

继续参考图7a，指纹识别单元20可以包括光敏二极管201。

s320、在所述指纹识别单元远离所述第一衬底基板的一侧制备第二衬底基板。

图11是本发明实施例提供的在指纹识别单元远离第一衬底基板的一侧形成第二衬底基板的结构示意图，第二衬底基板80可以为柔性衬底基板。

s330、在所述第一衬底基板上远离所述指纹识别单元的一侧形成驱动电路层，并在所述驱动电路层和所述第一衬底基板上形成开口结构，所述开口结构在所述第一衬底基板上的垂直投影与所述光敏二极管在所述第一衬底基板上的垂直投影存在交叠区域。

继续参考图7b和图7c所示，在第一衬底基板10上远离指纹识别单元20的一侧形成驱动电路层30，并且在驱动电路层30和第一衬底基板10上形成开口结构40，开口结构40在第一衬底基板10上的垂直投影与光敏二极管201在第一衬底基板10上的垂直投影存在交叠区域。

s340、在所述驱动电路层远离所述第一衬底基板的一侧形成透明膜层，所述透明膜层至少填充在所述开口结构中。

继续参考图7d，在驱动电路层30远离第一衬底基板10的一侧形成透明膜层50，透明膜层50至少填充开口结构40中。

s350、在所述透明膜层上远离所述驱动电路层的一侧制备有机发光结构。

综上，本发明实施例提供的阵列基板的制备方法，不仅可以提高光敏二极管上方膜层的透过率，保证指纹识别单元可以良好地接收经由触摸主体反射到指纹识别单元的光线，保证指纹识别单元检测灵敏度，并且，通过在指纹识别单元远离第一衬底基板的一侧制备第二衬底基板，通过第二衬底基板保护指纹识别单元，避免外界环境对指纹识别单元造成损伤，保证指纹识别单元功能完好。

图12是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图，参考图12，本发明实施例提供的显示面板包括上述实施例所述的阵列基板1，还可以包括与阵列基板1相对设置的对向基板2，对向基板2可以为盖板或者其他封装层。

图13是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，参考图13，显示装置100可以包括本发明任意实施例所述的显示面板101。显示装置100可以为图13所示的手机，也可以为电脑、电视机、智能穿戴显示装置等，本发明实施例对此不作特殊限定。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。