一种触摸屏与触摸显示屏的制作方法

本实用新型属于平板显示技术领域，尤其涉及触摸显示技术领域，具体为一种触摸屏与触摸显示屏。

背景技术：

随着近些年科技的迅速发展，诸如手机、平板电脑、笔记本电脑、智能电视等智能电子产品已经成为人们日常生活中不可或缺的部分。触摸显示屏作为一种简单、便捷的人机交互方式，已经广泛地应用于电子设备与车载设备等领域。

现阶段，常利用光刻胶的可光刻特性对触摸屏的第一基板进行光刻、曝光与显像处理。常见的触摸屏盖板的叠构层次从上至下依次为：第一基板、光刻胶、bm2(丝印油墨)，所述bm2为黑色不透光丝印油墨。随着光刻胶技术的进步，当前已出现了一种新型黑色光刻胶，也可称为bm1(光刻油墨)，该bm1兼备可光刻、可阻隔光线透过与粘粘介质等多重效果。理论说来说，上述bm1的出现，可以使传统触摸屏盖板的第一基板、光刻胶、bm2的叠构形式转变为第一基板、bm1形式，从而节省原材料、降低第一基板负载厚度，且可以提升产品外观的黑化效果。

然而，由于bm1的耐可靠性较差，bm1与后续模组进行贴合时，后续模组在bm1上的附着性表现不佳。因此当前采用bm1作为光刻、粘结介质的第一基板，在第一基板上制作完bm1后，仍会采用丝网印刷方式在bm1上制作bm2，此时触摸屏盖板的叠构形式从上至下依次为第一基板、bm1、bm2，此种叠构形式对盖板的黑化光学性能有所提升，但是，bm1与bm2之间的附着性能仍不理想，bm1与bm2之间无法实现稳定而又紧密的结合效果。同时，bm1的表面硬度低，表面硬度为铅笔硬度2h左右，使得在丝印制作bm2和其他后续工序时，极易划伤bm1，降低产品的良品率。

鉴于以上问题，有必要开发一种可以提升黑化效果，同时保证产品良品率的触摸屏与触摸显示屏。

技术实现要素：

针对上述问题，本实用新型提供一种可以提升黑化效果，同时保证产品良品率的触摸屏与触摸显示屏。

为了实现上述技术目的，本实用新型提供的触摸屏从上至下依次包括第一基板、触摸电极层、光刻油墨层、im2(硬质膜层)与丝印油墨层，所述光刻油墨层由投影覆盖于第一基板四周边缘的bm1构成，所述丝印油墨层同样由投影覆盖于第一基板四周边缘的bm2构成。从所述触摸屏的观察面所视，第一基板上未被bm1和bm2投影覆盖的区域为va区域(可视区域)，第一基板上被bm1或bm2投影覆盖的区域为bm区域(不可视区域)，所述硬质膜层的投影覆盖区域至少而不限于覆盖所述光刻油墨层投影所覆盖的区域。所述触摸电极层为ito薄膜、纳米银线、含铜金属网格、石墨烯、碳纳米管结构等材料中的一种或多种材料构成。

所述im2为tiox、sinx、sionx、nb2o5、sio、sio2、mgf等材料所构成的单层材料膜层或多层材料复合膜层，可通过蒸镀、涂布、溅镀方式将im2制作于所述bm1上，由tiox、sinx、sionx、nb2o5、sio、sio2、mgf中的一种或多种材料所构成的im2与bm1之间具有良好的耐可靠性，im2与bm1结合具有较好的附着力。采用蒸镀或溅镀方式，所得到的im2膜层良品率与附着稳定性等性能更优，附着力可达5b以上。

本实用新型还提供一种触摸显示屏，所述触摸显示屏由下而上依次包括由上述触摸屏构成的触摸模组、第一粘结层、偏光片、第二粘结层与显示模组。所述触摸电极层17设置于所述第一基板的下表面。

在其他的技术方案中，还提供另一种触摸显示屏，所述触摸显示屏由下而上依次包括第二基板、第一粘结层、由上述触摸屏构成的触摸模组、第二粘结层、偏光片、第三粘结层与显示模组。所述触摸模组中包括有第一基板，所述触摸电极层17设置于所述第一基板的上表面。

所述第一基板和第二基板具有透光性，可为玻璃、聚烯烃基材、聚碳酸酯基材、聚丙烯酸酯基材、pet膜(耐高温聚酯薄膜)、芳香族聚醚酮基材、聚醚砜基材、pi膜(聚酰亚胺)等材料中的一种或多种材料构成。

优选的技术方案中，所述第一基板和第二基板为玻璃、pi膜(聚酰亚胺)或pet膜(耐高温聚酯薄膜)。

本实用新型提供一种触摸屏与触摸显示屏，在bm1与bm2之间设置一im2膜层，所述im2膜层可保护表面硬度较低的bm1免受后续工序划伤，同时，所述im2膜层与bm1、bm2之间均具有良好的耐可靠性，形成良好的附着结合效果，可以提升产品的黑化效果与生产良品率。

附图说明

图1是本实用新型的触摸屏的第一结构示意图；

图2是本实用新型的触摸屏的第二结构示意图；

图3是本实用新型的触摸屏的第三结构示意图；

图4是本实用新型的触摸屏的第四结构示意图；

图5是本实用新型的触摸显示屏的第一结构示意图；

图6是本实用新型的触摸显示屏的第二结构示意图。

附图标记：

1—触摸模组、2—第一粘结层、3—偏光片、4—第二粘结层、5—第三粘结层、6—显示模组；

11—第一基板、12—光刻油墨层、13—硬质膜层、14—丝印油墨层、15—光学膜层、16—黑化膜层、17—触摸电极层。

具体实施方式

为说明清楚本实用新型提供的触摸屏与触摸显示屏，以下结合说明书附图及实施例的文字说明进行详细阐述。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

如图1所示，为了实现上述技术目的，本实用新型提供的触摸屏从上至下依次包括第一基板11、触摸电极层17、光刻油墨层12、硬质膜层13、丝印油墨层14，所述光刻油墨层12由投影覆盖于第一基板11四周边缘区域的bm1构成，所述丝印油墨层14同样由投影覆盖于第一基板11四周边缘区域的bm2构成，所述硬质膜层的投影覆盖的区域至少而不限于覆盖所述光刻油墨层的投影所覆盖的区域，所述硬质膜层13的膜厚为10-400nm。

优选的技术方案中，所述硬质膜层13为sio2与nb2o5材料交替叠加的多层材料复合膜层，此时，所述硬质膜层13十分致密，可有效阻隔水汽对bm1的破坏作用，提高产品的耐候性。同时，硬质膜层13硬度在铅笔硬度5h-6h，可以有效保护bm1在后续的蓝膜丝印、切割、bm2丝印等各工序过程中，不被刮伤，提高支撑良率。

所述第一基板11上分为构成的不透光区域(或者叫bm区域)与显示图像的透光区域(或者叫va区域)，所述光刻油墨层12和丝印油墨层14在所述第一基板11上形成的投影覆盖区域为不透光区域，第一基板11上的其他区域为va区域。

由于第一基板11上分为光刻油墨层12或丝印油墨层14的投影覆盖的不透光区域与显示图像的va区域，各区域所发生的光学效应本身不同，难以满足光学均匀性要求，比如一体黑等颜色指标要求。

针对以上问题，如图2所示，所述第一基板11具有触摸面或者观察面，所述触摸面在第一基板11远离所述触摸电极层17的一侧，通常在第一基板11的触摸面或观察面进行光学处理，例如，进行表面镀膜或贴光学膜等方式设置光学膜层15，所述光学膜层15可为消影膜，也可为ar膜(减反射膜)、ag膜(抗眩膜)与af膜(防指纹膜)。

所述ar(减反射膜)可为由高折射率材料tiox、zro2、si3n4、ta2o5、nb2o5等单一或混合材料膜层和低折射率材料sio、sio2、mgf2、mgo等单一或混合材料膜层交替循环镀制于第一基板上构成的复合膜，该复合膜均同时具备滤蓝光和减反射的作用，同时也有一定的消影效果，可适当提高第一基板11表面的光学均匀性。

然而，这种在第一基板11的触摸面或观察面进行表面镀膜或贴光学膜的处理方式对透光区和非透光区同时产生影响，由于第一基板下侧分为光刻油墨层12或丝印油墨层14构成的不透光区域与显示图像的va区域，各区域所发生的光学效应本身不同，在第一基板触摸面和观察面进行光学处理，仍然难以满足光学均匀性要求，比如一体黑等颜色指标要求，而且会明显影响触摸面或观察面的显示体验。

为了解决所述一体黑或光学均匀性问题，如图3所示，可直接在第一基板11的内侧的硬质膜层13上进行光学调整，在所述硬质膜层13远离所述第一基板11的一侧上设置有黑化膜层16。所述黑化膜层16可为消影膜，也可为ar膜，或者为消影膜与ag膜的复合膜，或者为消影膜、af膜的复合膜。

通过设置黑化膜层16，使得从触摸面和观察面方向观察，所述光刻油墨层12或丝印油墨层14构成的不透光区域与显示图像的va区域，均为不透光的黑色，使得产品达到较好的均匀一体黑的外观效果。

当va区域显示图像时，第一基板11下侧的光源仍能有足够有效的光线透过所述va区域的黑化膜层16，可以满足视觉体验要求。

如图4所示，在第一基板11内侧的硬质膜层13上仅对投影覆盖于透光区的区域做单独的光学调整，通过在硬质膜层13上远离所述第一基板11的一侧设置具有黑化效果的黑化膜层16，使得产品达到一体黑等最佳的外观效果。在其他的实施例中，还可以结合第一基板11触摸面和观察面上的光学处理，如设置ar膜、ag膜与af膜等方式提高产品的多方面的的光学性能。

如图5所示，本实用新型还提供一种触摸显示屏，所述触摸显示屏由下而上依次包括由上述触摸屏构成的触摸模组1、第一粘结层2、偏光片3、第二粘结层4与显示模组6。

如图6所示，本实用新型还提供另一种触摸显示屏，所述触摸显示屏由下而上依次包括第二基板7、第一粘结层2、由上述触摸屏构成的触摸模组1、第二粘结层4、偏光片3、第三粘结层5与显示模组6。

以上为本实用新型提供的触摸屏与触摸显示屏的较佳实施例，并不能理解为对本实用新型权利保护范围的限制，本领域的技术人员应知晓，在不冲突的情况下，本文中上述实施例及实施例中的特征还可以相互结合，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可做多种改进或替换，所有的改进或替换都应在本实用新型的权利保护范围内，即本实用新型的权利保护范围应以权利要求为准。