果，优选在 第一硬涂层10与PET基材层20之间具有第一预涂层，在第二硬涂层30与基材层20之间 具有第二预涂层，第一预涂层与第二第二硬涂层的折射率在1. 575-1. 580之间。
[0037] 为了保证PET基材层20对ITO导电层的保护作用，同时避免PET基材层20太厚 导致PET基材层20具有较大的收缩率，优选上述PET基材层20的厚度为100~150ym。
[0038] 本申请的又一种实施例中，优选上述双面硬化膜还包括保护膜40，如图3所示，上 述保护膜40设置在上述第二硬涂层30的远离上述PET基材层20的表面上，上述保护膜40 的厚度为30~80ym，进一步优选上述保护膜40的厚度为50ym，这样的保护膜40能够有 效保护双面硬化膜的其它结构层，提高双面硬化膜的使用寿命，同时该保护膜40的厚度较 小，不会导致双面硬化膜的收缩率增大，进而使得电容式触摸屏的立体纹较明显。
[0039] 本申请又一种实施方式中，提供了一种电容式触摸屏，包括ITO导电膜与双面硬 化膜，上述ITO导电膜设置在双面硬化膜的表面上，双面硬化膜为上述的双面硬化膜。
[0040] 上述电容式触摸屏中的双面硬化膜中的第二硬涂层的收缩率较小，使得ITO导电 层纹路的变形程度较小，蚀刻凹坑与ITO导电层的色差不明显，进而使得电容式触摸屏的 立体纹数量较少，能够满足客户的需求。
[0041] 为了使得本领域技术人员能够更加清楚地了解本申请的技术方案，以下将结合实 施例与对比例进行说明。
[0042] 实施例1
[0043] 首先，设置PET基材层，该PET基材层机械方向的收缩率为0. 5%，垂直于拉伸方向 的收缩率为0.05%。
[0044] 然后进行第二硬涂层的制备，将硬化液（日本荒川：FZ001)加入到甲基异丁酮溶 剂中搅拌1小时，控制硬化液的固含量（有效成分含量）为30%，通过涂布工艺，在PET基 材层的一表面上形成厚度2. 0ym的第二硬涂层。
[0045] 接着，在PET基材层的远离第二硬涂层的表面上设置第一硬涂层。
[0046] 将粒径为50nm的二氧化硅粒子与硬化液（日本荒川：FZ001)混合，并将混合液加 入到甲基异丁酮溶剂中搅拌1小时，控制混合液的固含量为30%，通过涂布工艺，在PET基 材层形成厚度4. 0ym的第一硬涂层，形成双面硬化膜，具体结构参数见表1。
[0047] 最后，下游客户在第一硬涂层的表面上镀高折层、低折层及ITO导电层后，通过油 墨网印蚀刻ITO导电层，然后经过130°C，60min烘烤，形成实施例1的电容式触摸屏。
[0048] 实施例2
[0049] 采用与实施例1相同的流程形成实施例2的双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结 构参数见表1，立体纹效果与雾度见表2。
[0050]实施例3
[0051]采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0052] 实施例4
[0053] 采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0054] 实施例5
[0055] 采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0056] 实施例6
[0057]采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0058]实施例7
[0059]采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0060]实施例8
[0061]采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0062] 实施例9
[0063] 采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0064] 实施例10
[0065]采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0066]实施例11
[0067]采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0068]实施例12
[0069]采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0070]实施例13
[0071]采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0072]实施例14
[0073]采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0074]实施例15
[0075]采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0076]实施例16
[0077] 采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0078]实施例17
[0079] 采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0080] 实施例18
[0081] 采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0082] 实施例19
[0083] 采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0084] 对比例1
[0085] 采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0086] 对比例2
[0087] 采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0088] 对比例3
[0089] 采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表 1，立体纹效果与雾度见表2。
[0090] 采用150°C，60min方法测定第二硬涂层的收缩率与第一硬涂层的收缩率，采用 NDH200N测定双面硬化膜的雾度，采用肉眼观察测定立体纹的程度。测量的结果见表2,表 2中的A-、A、B、与C表示不同的立体纹明显程度，立体纹的明显程度按照A-、A、B、C的顺序 逐渐增强。
[0091]表1
[0092]
【主权项】
1. 一种双面硬化膜，包括： 第一硬涂层（10); PET基材层（20)，所述PET基材层（20)设置在所述第一硬涂层（10)的表面上； 第二硬涂层（30)，所述第二硬涂层（30)设置在所述PET基材层（20)的远离所述第一 硬涂层（10)的表面上，其特征在于，所述第二硬涂层（30)的厚度为1.5~2.5ym。
2. 根据权利要求1所述的双面硬化膜，其特征在于，所述第二硬涂层（30)的厚度为 1. 5 ~2. 0ym，优选为I. 8ym。
3. 根据权利要求1所述的双面硬化膜，其特征在于，所述第一硬涂层（10)的厚度为 1. 5~2. 5ym，优选为1. 5~2. 0ym，更优选为I. 8ym。
4. 根据权利要求1所述的双面硬化膜，其特征在于，所述第二硬涂层（30)包括第二涂 层主体和分散在所述第二涂层主体中的第二氧化物粒子，优选所述第二涂层主体为丙烯酸 酯聚合物层。
5. 根据权利要求4所述的双面硬化膜，其特征在于，所述第二氧化物粒子的含量为1~ 20wt%，优选为1~8wt%。
6. 根据权利要求4所述的双面硬化膜，其特征在于，所述第一硬涂层（10)包括第一涂 层主体和分散在所述第一涂层主体中的第一氧化物粒子，优选所述第一涂层主体为丙烯酸 酯聚合物层。
7. 根据权利要求6所述的双面硬化膜，其特征在于，所述第一氧化物粒子的含量为1~ 20wt%，优选为1~8wt%。
8. 根据权利要求6所述的双面硬化膜，其特征在于，所述第二氧化物粒子为二氧化硅 粒子或支链改性的PMMA粒子，所述第一氧化物粒子为二氧化硅粒子或支链改性的PMMA粒 子。
9. 根据权利要求1所述的双面硬化膜，其特征在于，所述PET基材层（20)机械拉伸方 向的收缩率为〇. 0001~〇. 5%，垂直于机械拉伸方向的收缩率为0. 0001~0. 2%，优选所 述PET基材层（20)机械拉伸方向的收缩率为0. 0001~0. 4%，优选所述垂直于机械拉伸方 向的收缩率为〇. 0001~〇. 1 %。
10. 根据权利要求1所述的双面硬化膜，其特征在于，所述PET基材层（20)的折射率为 L63~L65,优选所述PET基材层（20)的厚度为100~150ym。
11. 根据权利要求1所述的双面硬化膜，其特征在于，所述双面硬化膜还包括保护膜 (40)，所述保护膜（40)设置在所述第二硬涂层（30)的远离所述PET基材层（20)的表面上， 所述保护膜（40)的厚度为30~80ym，优选为50ym。
12. -种电容式触摸屏，包括ITO导电膜与双面硬化膜，所述ITO导电膜设置在所述双 面硬化膜的表面上，其特征在于，所述双面硬化膜为权利要求1~11中任一项所述的双面 硬化膜。
【专利摘要】本发明提供了一种双面硬化膜与包含该双面硬化膜的电容式触摸屏。该双面硬化膜包括：第一硬涂层、PET基材层与第二硬涂层，PET基材层设置在第一硬涂层的表面上；第二硬涂层设置在PET基材层的远离第一硬涂层的表面上，其中，第二硬涂层的厚度为1.5～2.5μm。该双面硬化膜第二硬涂层的厚度较小，这样能够有效地减小第二硬涂层在高温下的变形，减少刻蚀烘烤后的ITO导电层纹路的变形程度，进而避免蚀刻凹坑与ITO导电层的色差变得明显，有效改善了电容式触摸屏的立体纹，进而满足了客户的需求。
【IPC分类】G06F3-044
【公开号】CN104793826
【申请号】CN201510216940
【发明人】徐金龙, 翁畅健, 陈庆松
【申请人】张家港康得新光电材料有限公司
【公开日】2015年7月22日
【申请日】2015年5月1日