专利名称：光信息媒体及其评价方法
技术领域：
本发明涉及重放专用光盘和光记录盘等光信息媒体，和评价光信息媒体的耐擦伤性的方法。
近年来，为了在光信息媒体中收入动画图像信息等大量信息而力求进一步提高记录密度，为了记录容量的高密度化而广泛地进行研究开发。作为其中之一，如在DVD(数字通用盘)中所看到的那样，提出缩短记录/重放波长，加大物镜的数值孔径(NA)，减小记录/重放光的聚焦光点直径。实际上，如果与CD(光盘)比较，则把记录/重放波长λ取为780nm至650nm，把数值孔径取为0.45至0.60，借此实现6～8倍的记录容量(4.7GB/面)。
此外，最近，作为用来长时间记录高品位的动画图像的方法，进行了进一步把记录/重放波长缩短到400nm左右，把数值孔径提高到0.85，借此实现DVD的4倍以上的记录容量的尝试。
然而，在像这样实现高NA化的记录/重放系统时，产生一些问题。例如，可以举出对媒体的信息记录层的倾斜的允许量减少。也就是说，记录/重放波长为λ，基板的厚度为t时的倾斜裕度，也就是信息记录层对入射光的倾斜的允许度与λ/[t×(NA)3]成比例是公知的，随着NA的增大，倾斜裕度急剧地减少。
此外，如果在光记录媒体中产生倾斜，则发生波阵面像差(彗形像差)。波阵面像差系数W由下述式I表示。
(式I) W＝(1/2)×t×[n2×sinθcosθ]NA3/(n2-sin2θ)-5/2上述式I中，n是用来记录/重放的激光束到达信息记录层之前透射的透明基板(在本说明书中称为透光性基体)的折射率，θ是倾斜角。根据上述式I，为了确保倾斜裕度而减薄透光性基体的厚度成为必要。
根据上述情况，在DVD中把透光性基体的厚度取为现有的CD基板的厚度(1.2mm左右)的大约一半(0.6mm左右)，借此来确保倾斜裕度，进而在NA＝0.85的系统中把透光性基体的厚度减薄到大约0.1mm。
此外，作为加大NA引起的其他问题，可以举出焦点深度变浅，进而透光性基体表面与物镜的工作距离减少。焦点深度与(NA)2成反比地变浅，因此聚焦伺服机构容易变得不稳定，结果变得对透光性基体表面的机械精度、损伤、污染非常敏感。进而，如果物镜直径恒定，则工作距离随着NA的增大而变短，传感器壳体或物镜碰撞透光性基体表面的危险增加。例如在NA＝0.85的系统中焦点深度为±0.3μm，工作距离为100～300μm左右，聚焦伺服机构非常容易变得不稳定。
此外，虽然物镜由塑料或玻璃制成，但是考虑透镜与透光性基体表面接触的场合，一般在透镜的周围设保护板。在塑料透镜的场合，为了保护透镜表面，整体形成称为护罩的保护板，此外，在玻璃透镜中用丙烯酸系树脂或聚丙烯等塑料制成的板作为保护板(透镜保护器)，安装在透镜周围。因此，一般设计成即使在传感器万一与光盘接触的场合，也是该保护板部分接触而物镜表面不受损伤。
可是，目前正在产品化的光盘中的多数，作为透光性基体使用由聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等热塑性树脂制成的刚性基板。也就是说，激光束从这些树脂制基板表面入射到信息记录层，借此来进行信息的记录/重放。这些树脂虽然光学上是均质的且透明性高，成形性、机械强度等方面优良，但是存在着表面硬度很低，容易产生擦伤等的缺点。因此，一般在前述树脂制基板的表面上作为擦伤防止层设置某种硬覆盖层。作为形成这种硬覆盖层的方法，最一般地是采用在基板表面上涂布在分子中具有两个以上丙烯酰基等的粘合性功能基的粘合固化型化合物，借助于紫外线等活性能量线使之固化成硬覆盖层的方法。
然而，这些紫外线固化型树脂与以聚碳酸酯为首的热塑性树脂相比虽然耐磨损性优良，但是在能实现的表面硬度方面却有限，在用作光信息媒体时不一定得到所需的足够的耐磨损性。此外，随着记录/重放光学系统的高NA化，在追求高密度化的系统中，不仅要求在用户进行光盘的处置时不产生损伤，而且要求也不发生如上所述的传感器的撞击引起的损伤。因而，需要与前述紫外线固化型树脂相比大幅度提高硬度的硬覆盖层。
为了解决这种课题，提出了形成以无机化合物为主要成分的硬覆盖层的方法。
例如，在日本专利特开平11-203726号公报中公开了在基板上依次层积记录层、透光层，使光从透光层一侧入射而进行记录和/或重放类型的光盘，在透光层表面上通过离子束溅射法等覆盖作为两层以上的层的SiN或SiO等无机材料，以此作为保护膜(硬覆盖层)的方法。但是，用这种溅射或气相沉积等方法形成的无机膜内部应力加大。因此，为了实现足够的耐磨损性而制成数百纳米以上的膜厚时容易自己损坏。因而，在这种无机膜中实质上实现具有满意的耐磨损性的硬覆盖层是困难的。
在特开平8-263878号公报中提出了用烷烃基硅烷等的溶液通过溶胶凝胶法在基板表面上形成以二氧化硅为主要成分的薄膜，以此作为保护膜(硬覆盖层)的方法。然而，在通过这种溶胶凝胶法形成无机化合物膜的场合，为了充分地进行反应而形成致密的膜，不得不在远高于100℃的高温下进行烧结。因而，很难用到由耐热性低的树脂成分的透光性基体的表面上。
在特开2000-132865号公报中，记载了带有由聚硅氮烷制成分的保护层的信息记录媒体。该公报记载的发明的对象为具有盘状或带状支撑体的信息记录媒体。但是，该公报中没有记载使用于光盘的具体例子。
可是，用作前述硬覆盖层的树脂材料或无机材料耐磨损性指标的表面硬度，一般由维氏硬度等压痕硬度，或划痕硬度，或者磨损试验等来测定。这些测定方法当中，例如关于磨损试验，往往用试验片的质量、厚度、或透光率等各种参数的变化量来量化因磨损而产生的试验片的磨损量。在像光信息媒体的硬覆盖层材料这样，光学上透明而且表面硬度比较高的材料的场合，由透光率或光散射的变化量来量化最合适。具体地说，一般用使白色平行光入射前述试验片，测定其混浊度(浊度值，haze value)的方法等。
利用混浊度的测定的试验片的硬度评价方法，作为量化磨损引起的试验片的视觉恶化的方法是优良的。然而，该评价方法是用非相干光的宏观评价，也就是用非聚焦光的评价，与磨损引起的光信息媒体的记录/重放特性的恶化程度不一定有相关性。因而，作为光信息媒体的硬覆盖层的性能评价不能说是适当的。此外，用混浊度的测定的评价方法因为测定透明试验片的透射光，所以在评价光信息媒体的硬覆盖层时，如果不准备与前述硬覆盖层等效的独立薄膜则当然无法测定。另一方面，虽然硬覆盖层的耐磨损性依存于硬覆盖层的表面性、摩擦系数、膜厚、硬覆盖层构成材料的弹性率，但是影响耐磨损性的因素不止这些。例如，硬覆盖层所设置的基材的硬度也对设在其上的硬覆盖层表面的耐磨损性有很大影响。因而，从这些情况来考虑也是，为了正确地评价硬覆盖层的性能，最好是按在实际的光信息媒体上形成硬覆盖层的状态来进行评价。
满足上述种种要求的硬覆盖层的评价方法或检查方法过去并不存在，因此不可能把握硬覆盖层的正确性能。然而，在实现目前正在研究着实用化的记录/重放光学系统的短波长化和高NA化产生的大容量化的光盘系统中，与现行的CD或DVD相比，变得对透光性基体表面的损伤、污染更加敏感。因而，对前述硬覆盖层的耐磨损性、耐擦伤性等的要求也比现有情况更加严格，强烈地需要适于这些特性的量化的方法。
此外，在不仅在透光性基体表面上设置硬覆盖层而且由高硬度材料来构成整个透光性基体的场合也是，通过一边形成记录层一边贴合于另一个基体等，透光性基体的耐擦伤性可以变化。因而，在该场合也是，希望有能够在与实际的媒体相同条件下评价透光性基体的耐擦伤性的方法。
本发明是鉴于这种实际情况而提出的，其目的在于提供一种在用户处置时不容易发生损伤，进而在随着记录/重放光学系统的高NA化而实现高密度化的光信息媒体中也是，在其记录和/或重放时不容易发生传感器的撞击引起的损伤的光信息媒体。本发明的另一个目的在于提供一种能够简便地，而且以反映实际使用环境的形式量化光信息媒体的记录/重放光入射侧表面的耐擦伤性的评价方法。
上述目的可以借助于下述(1)～(11)的本发明来实现。
(1)一种光信息媒体，是具有透光性基体和信息记录层，借助于从前述透光性基体入射到前述信息记录层的激光束光学地进行记录和/或重放的光信息媒体，其中在前述透光性基体的激光束入射侧有聚硅氮烷固化膜，前述透光性基体的拉伸弹性率，或者前述聚硅氮烷固化膜一体化的状态下的前述透光性基体的拉伸弹性率超过200 MPa。
(2)上述(1)的光信息媒体，其中前述透光性基体包含厚度30～300μm的树脂层。
(3)上述(1)或(2)的光信息媒体，其中前述聚硅氮烷固化膜的厚度为0.2～50μm。
(4)上述(1)～(3)中任何一项的光信息媒体，其中激光束入射侧表面的铅笔硬度在HB以上。
(5)上述(1)～(4)中任何一项的光信息媒体，其中前述聚硅氮烷固化膜为把成分不同的多个膜叠层而成，从激光束入射侧观看前述聚硅氮烷固化膜时，无机聚硅氮烷固化膜与导入有机基的聚硅氮烷固化膜按该顺序存在。
(6)上述(1)～(5)中任何一项的光信息媒体，其中在前述聚硅氮烷固化膜的激光束入射侧有具有从润滑性、防水性和防油性中选择的至少一种功能的功能层。
(7)上述(6)的光信息媒体，其中前述功能层的厚度在500nm以下。
(8)上述(6)或(7)的光信息媒体，其中前述功能层为由具有水解性甲硅烷基的化合物来形成者。
(9)一种光信息媒体的评价方法，是针对有透光性基体和信息记录层，借助于从前述透光性基体入射到前述信息记录层的激光束光学地进行记录和/或重放的光信息媒体，进行关于激光束入射侧表面的耐擦伤性的评价的方法，其中故意地使光信息媒体的激光束入射侧表面磨损之后，测定记录/重放特性，基于该测定值来评价激光束入射侧表面的耐擦伤性。
(10)上述(9)的光信息媒体的评价方法，其中作为故意地使光信息媒体的激光束入射侧表面磨损的机构，使用ISO 9352中所规定的磨损轮。
(11)上述(9)的光信息媒体的评价方法，其中作为故意地使光信息媒体的激光束入射侧表面磨损的机构，使用#0000的钢丝绒。
本发明者们探索适于保护光信息媒体表面的硬覆盖层的结果，发现通过固化聚硅氮烷形成的膜是合适的。把聚硅氮烷固化膜使用于信息媒体的保护层在前述特开2000-132865号公报中述及。但是，该公报中作为实施例示出的仅是在厚度20μm的聚甲基对苯二酸酯支撑体上设置含有色素和树脂粘合剂的厚度0.2μm的红色感应层，在该红色感应层上设置由聚硅氮烷制成的厚度0.1μm的保护层的媒体。在该公报中，述及保护层的适宜的干燥膜厚为0.001～0.02μm，更好的是干燥膜厚为0.05～0.15μm的情况。在该公报中没有述及限定于上述膜厚范围的理由。
在该公报的实施例中，因为在把带状媒体装入带盒来进行评价，故处置时带状媒体不与带盒以外接触， 带状媒体不容易损伤。此外，在该公报中，对于在光盘中成为问题之类传感器的撞击未予注意。与此相反，因为光盘不封入盘盒的类型是主流，故激光束入射侧表面容易损伤。此外，如前所述在使用于高NA的记录/重放系统的光盘中，传感器容易撞击于激光束入射侧表面。因而，对光盘的激光束入射侧表面要求优良的耐磨损性、耐擦伤性。聚硅氮烷固化膜虽然硬度高，但是为了得到对光盘的激光束入射侧表面所要求的耐磨损性、耐擦伤性，用前述特开2000-132865号公报中述及的0.1μm的厚度是不够的。
但是，根据本发明者们的实验查明，聚硅氮烷固化膜内部应力很高，因此，如果加厚地形成聚硅氮烷固化膜则容易产生自己损坏。为了防止聚硅氮烷固化膜的自己损坏，本发明者们反复实验的结果查明，产生自己损坏的容易程度依存于成为聚硅氮烷固化膜的底子的透光性基体的拉伸弹性率。因此在本发明中，限定透光性基体的拉伸弹性率，借此把聚硅氮烷固化膜形成足够的厚度成为可能，结果实现激光束入射侧表面具有足够的耐磨损性、耐擦伤性的光信息媒体。
在本发明的评价方法中，可以简便地，而且以反映实际使用环境的形式量化地评价光信息媒体的激光束入射侧表面的耐擦伤性。
图1是表示本发明的光信息媒体的一个构成例的局部剖视图。
图2是表示本发明的光信息媒体的另一个构成例的局部剖视图。
图3是表示本发明的光信息媒体的另一个构成例的局部剖视图。
图4是表示本发明的光信息媒体的另一个构成例的局部剖视图。
图5是表示本发明的光信息媒体的另一个构成例的局部剖视图。
图6是表示本发明的光信息媒体的另一个构成例的局部剖视图。
图7是表示磨损循环数与媒体反射率下降率的关系的曲线图。
图8是表示磨损循环数与媒体重放输出值下降率的关系的曲线图。
图9是表示磨损循环数与媒体的跳动的关系的曲线图。
光信息媒体本发明采用的光信息媒体有透光性基体和信息记录层，激光束从前述透光性基体一侧入射到信息记录层，光学地进行记录和/或重放。作为这种光信息媒体的具体例子，可以举出如图1和图2中所示例子。
图1中所示的光信息媒体是相变型记录媒体，在支撑基体20的一个表面上，依次形成反射层5、第2介电体层32、作为信息记录层的记录层4、第1介电体层31、透光性基体21和聚硅氮烷固化膜22。透光性基体21是通过树脂片的粘贴或树脂的涂布而形成的树脂层。记录和/或重放用的激光束经由透光性基体21入射到记录层4。图1中所示结构的媒体，因为可以减薄透光性基体2L故能够适应记录/重放光学系统的物镜的高NA化，适于高密度记录。在图1中所示的结构中，透光性基体21和聚硅氮烷固化膜22的合计厚度优选为30～300μm，更好的是30～200μm。如果该厚度过薄，则附着在媒体的激光束入射侧表面上的尘埃引起的光学影响加大。另一方面，如果该厚度过厚，则难以实现高NA产生的高记录密度。
图2中所示的媒体，在透光性基体21的一个表面上依次形成第1介电体层31、记录层4、第2介电体层32、反射层5和保护层6，在透光性基体21的另一个表面上形成聚硅氮烷固化膜22。在该结构中，用厚度0.4～2μm左右的刚性比较高的透光性基体21。在图2中所示的结构中，从激光束入射侧观看的各层的排列，除了保护层6之外与图1中所示的媒体相同。
图2中所示的结构，是DVD-RAM或DVD-RW等市场上销售的光盘正在采用的结构。另一方面，图1中所示的结构，反射层、记录层等各层的叠层顺序与图2相反。在本说明书中，把图1中所示结构的媒体称为逆叠层型。
本发明可以与记录层的种类无关地使用。也就是说，除了图示的相变型记录媒体之外，也可以使用于例如凹坑形成型记录媒体或光磁性记录媒体。此外，本发明不限于图示的这种可记录型，也可以使用于重放专用型。在该场合，与支撑基体20整体形成的凹坑列和在其上形成的反射层构成信息记录层。
在本发明中，如图1和图2中所示，在透光性基体21的激光束入射侧有聚硅氮烷固化膜22。聚硅氮烷固化膜22含有来自聚硅氮烷的二氧化硅、或者其和聚硅氮烷一起。因此，聚硅氮烷固化膜22硬度十分高且在耐磨损性、耐擦伤性方面优良。在图1中所示的逆叠层型媒体中，由于记录/重放光学系统的物镜的高NA化而工作距离减小的结果，传感器容易撞击透光性基体21而造成损伤。此外，在逆叠层型中，因为透光性基体21很薄，故透光性基体21表面的瑕疵的影响加大。因而本发明特别适合于逆叠层型媒体。
聚硅氮烷固化膜22可以是全体由来自聚硅氮烷的二氧化硅、或者其和聚硅氮烷构成，也可以是在全体中分散或者含有来自聚硅氮烷的二氧化硅、或者其和聚硅氮烷。
聚硅氮烷固化膜22的厚度，优选为0.05μm以上，更好的是0.2μm以上，更加好的是0.25μm以上，最好是0.5μm以上。如果聚硅氮烷固化膜过薄，则不能得到充分的耐磨损效果。
聚硅氮烷固化膜因为内部应力高，故越厚越容易自己损坏。但是，为了得到充分的媒体保护效果，有必要把聚硅氮烷固化膜取为比较厚。此外，虽然聚硅氮烷固化膜本身致密且硬度高，但是有时因作为其底层的透光性基体21的物性使聚硅氮烷固化膜的媒体保护效果不充分。因此在本发明中，把透光性基体21的拉伸弹性率取为200MPa以上，最好是取为400MPa以上。如果透光性基体21的拉伸弹性率处于该范围，则即使把聚硅氮烷固化膜22取为比较厚，具体地说即使把聚硅氮烷固化膜22的厚度取为0.2μm以上，此外即使取为0.25μm以上，进而即使取为0.5μm以上，也不容易发生自己损坏。但是由于如果聚硅氮烷固化膜22显著加厚则毕竟还是容易发生自己损坏，所以聚硅氮烷固化膜22的厚度宜取为50μm以下，更好的是取为10μm以下，更加好的是取为5μm以下。此外，如果透光性基体21的拉伸弹性率处于上述范围内，则聚硅氮烷固化膜22的媒体保护效果充分地提高。具体地说，聚硅氮烷固化膜22存在的激光束入射侧表面的铅笔硬度可以取为HB以上。再者，本说明书中的铅笔硬度是ISO/DIS151841996中所规定的铅笔硬度。
再者，因为一旦形成聚硅氮烷固化膜22从透光性基体21剥离是困难的，故在形成了聚硅氮烷固化膜22之后难以测定透光性基体21的拉伸弹性率。但是，因为聚硅氮烷固化膜22与透光性基体21相比极其薄，故不剥离聚硅氮烷固化膜22而测定的透光性基体21的拉伸弹性率与透光性基体21单独的拉伸弹性率相差无几。因而在本发明中，聚硅氮烷固化膜22一体化的状态下的透光性基体21的拉伸弹性率为200MPa以上， 最好是400MPa以上就可以了。
透光性基体22的拉伸弹性率或者聚硅氮烷固化膜22一体化的状态下的透光性基体21的拉伸弹性率的上限虽然未特别限定，但是在由一般能够利用的材料来构成透光性基体21的场合，通常前述上限为3000MPa左右。
再者，本说明书中的拉伸弹性率是JIS K7127-1989中所规定的，在测定它时，取试验片的长度60mm，试验片的宽度10mm，标线间距离40±1mm，夹具间距离44±1mm，拉伸速度30mm/min其他测定条件按JIS K7127-1989的规定就可以了。把这些条件取为与JIS K7127-1989不同者是因为考虑媒体(光盘)的尺寸(通常直径12cm左右)，以便能够针对从媒体剥离的透光性基体来测定的缘故。
聚硅氮烷固化膜22是通过把聚硅氮烷溶液涂布在透光性基体21的激光束入射侧表面上，对其加热进行固化来形成的。聚硅氮烷在大气中进行加热处理，借此来进行空气中的水分引起的水解，形成纯度极高的致密的二氧化硅，这是公知的。此外，把金属催化剂预先添加于聚硅氮烷溶液，借此即使100℃左右的加热也能良好地进行反应，转化成高纯度的二氧化硅。此时的加热温度优选为25～130℃，更好的是50～120℃，加热时间优选为10分～10小时，更好的是10分～5小时。如果加热温度低而且加热时间短，则有时不能充分地进行固化。但是，聚硅氮烷的涂膜即使在室温下放置也能固化。聚硅氮烷溶液的涂布方法未特别限定，也可以用例如凹版印刷涂层法、浸涂法、喷涂法、旋转涂层法等中的某一种。
本发明中用的聚硅氮烷可以是有Si-N-Si结合者，可以使用历来公知的各种聚硅氮烷。作为最好的聚硅氮烷，可以举出例如有(-Si(H)2-NH-)n的结构，n＝100～50000的环形无机聚硅氮烷、链形无机聚硅氮烷或者它们的混合物，或用有机基置换这些无机聚硅氮烷中的结合于硅原子的氢原子的一部分或全部的聚有机氢化硅氮烷。此外，也可以使用通过与分子中含有氧的聚硅氧烷、烷氧基金属等的反应生成的聚甲基硅氮烷、通过与有机硼化物的反应生成的聚硼硅氮烷等。此外，市场上销售的聚硅氮烷溶液，例如N-L110(东燃ゼネラル石油有限公司制)也可以使用。
聚硅氮烷固化膜也可以是把成分不同的多个膜叠层。无机聚硅氮烷的固化物本身虽然硬度极高，但是为了充分地提高作为膜的硬度需要一定以上的厚度。可是，如果用无机聚硅氮烷形成厚膜，则容易自己损坏。另一方面，引入有机基的聚硅氮烷的固化物，虽然其本身的硬度稍低，但是即使加厚地形成也不容易自己损坏。因此，如果作为底层把引入有机基的聚硅氮烷的固化膜形成得比较厚，在其上作为表面层把无机聚硅氮烷的固化膜形成得比较薄，则因为作为叠层膜总体得到足够的厚度故叠层膜的硬度足够高，而且叠层膜的表面硬度也足够高。再者，在该场合为了得到足够的表面硬度，无机聚硅氮烷的固化膜的厚度优选为0.05μm以上，更好的是0.2μm以上。
聚硅氮烷固化膜因为以致密的高纯度二氧化硅为主要成分，故具有极高的硬度。此外，因为聚硅氮烷的结合于硅原子或氮原子的氢原子作为活性氢而作用，所以该固化膜与透光性基体21表面的粘合性非常好。再者，在聚硅氮烷固化膜上也可以不存在聚硅氮烷转化成一部分二氧化硅的情况。此外，在用引入有机基的聚硅氮烷的场合，通常在聚硅氮烷固化膜中也存在有机基。
作为在调制聚硅氮烷溶液时用的溶剂，例如可以举出苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃系溶剂，或者醚、四氢呋喃、二氯甲烷、四氯化碳等。但是，在把聚硅氮烷溶液直接涂布于透光性基体21表面的场合，有必要选择不侵蚀透光性基体21构成材料的溶剂。作为透光性基体21构成材料虽然最好是用聚碳酸酯，但是能够作为不侵蚀聚碳酸酯且作为聚硅氮烷的稀释溶剂使用的溶剂，可以举出例如丁醚等醚系溶剂。
透光性基体21，在图1中所示的逆叠层型中是树脂层，按图2中所示的结构中是刚性比较高的板形体。图1中的透光性基体21，例如可以通过树脂片的粘贴或树脂的涂布来形成。此外，也可以在粘贴的树脂片上，进而涂布树脂，也可以制成把多个树脂涂膜叠层的构成。图2中的透光性基体21可以通过例如注射成形、2P(光聚合物)法来形成。
透光性基体21最好是由聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等热塑性树脂，或丙烯基系紫外线固化型树脂等活性能量线固化型树脂来构成。在图2中所示的结构中，也可以由玻璃来构成透光性基体21，在其表面上通过2P法设置沟槽或凹坑等图案。
透光性基体21也可以由构成材料不同的多个层来构成。图3和图4中所示的媒体是把透光性基体21制成基体主体21A和阻挡层21B的叠层结构，此外分别与图1和图2中所示的结构相同。阻挡层21B设在基体主体21A与聚硅氮烷固化膜22之间，在涂布聚硅氮烷溶液时，保护基体主体21A免遭涂布溶剂之害。例如，因为有机溶剂的二甲苯侵蚀聚碳酸酯，故在图1中所示的结构中把透光性基体21取为由聚碳酸酯成分的树脂片的场合，在聚硅氮烷固化膜形成时的涂布溶剂中不能用二甲苯。与此相反在图3中所示的结构中，如果由聚碳酸酯来构成基体主体21A，由二甲苯不侵蚀的树脂，例如丙烯基系树脂等活性能量线固化型树脂来构成阻挡层，则作为涂布溶剂可以使用二甲苯，涂布溶剂选择的自由度提高。
阻挡层21B的构成材料未特别限定，除了紫外线固化型树脂等活性能量线固化型树脂之外，可以根据涂布溶剂的种类适当选择在这类树脂中分散胶体二氧化硅者，通过溅射形成的SiO2膜等无机薄膜等。
阻挡层的厚度虽然设定成得到对涂布溶剂充分的防护效果就可以了，但是通常最好是从50nm～200μm的范围选择，在如图3中所示透光性基体21为薄的逆叠层型的场合，最好是从50nm～10μm的范围选择。
再者，把透光性基体21取为叠层结构未限定于上述这种设置阻挡层的场合。例如，在透光性基体21中为了同时实现良好的光学特性和高的强度，也可以是把比较软的层和比较硬的层叠层的场合等，用于透光性基体21的物性控制。
对于聚硅氮烷固化膜22的底层表面，也就是透光性基体21的表面，也可以根据需要通过等离子体或电晕放电、紫外线等高能量线处理来进行表面改性。此外，在前述底子由活性能量线固化型树脂来构成的场合，也可以施加适当地控制活性能量线的照射量中途使前述底子的聚合反应一度停止，在前述底子表面上涂布聚硅氮烷溶液之后，再次照射活性能量线使前述底子的聚合反应完结的处理。上述任何处理都有效地提高聚硅氮烷固化膜与其底子之间的粘合性，结果可以更加提高聚硅氮烷固化膜的表面硬度。
聚硅氮烷固化膜虽然仅靠该膜就能实现极高的耐磨损性，但是也可以根据需要在聚硅氮烷固化膜表面上设置其他层。作为前述其他层最好是具有从润滑性、防水性和防油性中选择的至少一种功能的功能层。图5和图6中所示的媒体在聚硅氮烷固化膜22的表面上设置功能层23，除此之外分别与图1和图4中所示的结构相同。例如如果用具有润滑性的功能层23来覆盖聚硅氮烷固化膜22表面，则可以进一步提高表面的耐磨损性或对传感器的撞击的耐受性。此外，如果用具有防水性或防油性的功能层23来覆盖聚硅氮烷固化膜22，则污染物不容易附着，此外即使附着也容易拭去。
具有润滑性的功能层的表面，ISO 82951995中所规定的动摩擦系数为0.4以下，最好是0.3以下。再者，测定时作为配对材料使用平滑的玻璃板。虽然动摩擦系数的下限未特别限定，但是通常把动摩擦系数取为0.03以下是困难的。另一方面，防水性和防油性可以由作为该物质的表面自由能的指标的临界表面张力(γc/mNm-1)表示。这可以根据接触角的实侧值来求出，针对几种表面张力已知的饱和烃液体(表面张力γ1/mNm-1)测定平滑的物质表面的接触角(θ/rad)，在cosθ与γ1的关系曲线中cosθ＝1处外插值为γc。要使某种物质排斥液体，需要该物质的γc低于液体的表面张力γ1。
功能层构成材料可以用通用的材料。作为其具体例子可以举出硬脂酸丁基酯或十四酸丁基酯之类高级脂肪酸酯或其衍生物，二甲基硅氧烷衍生物中典型的硅油或这些经变性的材料，氟化烃系润滑剂或其衍生物等。此外，因为功能层设在聚硅氮烷固化膜表面上，故最好是由氟化烃系硅烷耦合剂来构成功能层。该硅烷耦合剂一般来说具有氟化烃链结合于水解性甲硅烷基的结构。由于前述甲硅烷基与聚硅氮烷固化膜表面通过水解反应形成强固的化学结合，所以由前述硅烷耦合剂成分的功能层，耐久性方面优良。在本发明中，从这些中适当选择就可以了，可以用具有从润滑性、防水性和防油性选择的两种以上的功能的材料。关于具有润滑性、防水性、防油性的材料，例如在特开平11-213444号公报和特开平6-187663号公报等中公开。
功能层的厚度，优选为500nm以下，更好的是100nm以下。功能层如果过厚，则存在着聚硅氮烷固化膜的表面硬度不反映于媒体表面的危险，此外，还担心功能层的光学的透明性恶化。但是，为了充分发挥润滑性、防水性、防油性等功能，功能层的厚度最好是1nm以上。
光信息媒体的评价方法下面就评价光信息媒体的记录/重放光入射侧表面的耐擦伤性的方法进行说明。
本发明者们针对通过种种方法使表面磨损的透光性基体的磨损程度与使透光性基体磨损后的光信息媒体的记录/重放特性的相关进行锐意研究的结果确认了在透光性基体的磨损度与磨损后的记录/重放时的反射率、跳动、出错率等之间存在着比较强的相关。
也就是说，在选择了适当的磨损方法的场合，光信息媒体的反射率、跳动等诸特性，可以表达成磨损时间等磨损条件的函数。因而，在本发明的评价方法中，用规定的磨损方法故意地使光信息媒体的透光性基体表面磨损之后，评价反射率、跳动、以及出错率等电气特性，借此可以量化现实的光信息媒体中的透光性基体的耐磨损性和耐擦伤性。
在前述媒体的透光性基体的评价中，故意使表面磨损的方法和用于磨损的机构，只要能再现性好地产生磨损并不特别限定。但是由于不希望评价时间过长，所以最好是采用通过优选为1～60分，更好的是1～30分左右的磨损处理，产生超过光信息媒体在实际使用环境中产生的磨损之类的方法和机构。
作为具体的磨损方法最好是例如ISO 9352中所规定的用磨损轮的磨损试验方法，或JIS K7205中所规定的用磨损料的磨损试验方法等标准化的试验方法，或者借助于钢丝绒使之磨损的方法。
ISO 9352中所规定的所谓用磨损轮的磨损试验方法，一般来说是称为锥形磨损试验的试验方法，通过以下的方法来实施。在该方法中，用两个称为磨损轮的车轮形磨石配置在旋转台上的规定位置的试验机，把试样放在该旋转台上。然后，在磨损轮上施加规定载荷，靠电动机使旋转台旋转。此时，成为磨损轮相对于旋转台的旋转方向保持一定的倾斜而磨削试样表面的结构。磨损轮准备数种其材质或磨石粒度不同者，适当选择磨损轮的种类、磨损时的载荷、以及旋转台的转速等，借此可以得知试样的耐磨损性。再者，光信息媒体中的一般的硬覆盖层的场合，最好是用CS-10、CS-10F和CS-17中的某种弹性的磨损轮，在2.5N以上9.8N以下的载荷下使旋转台以10转以上500转以下的范围旋转而进行磨损。
另一方面，在用钢丝绒的磨损方法中，作为研磨用的钢丝绒用#0000，一般采用以规定载荷使之压住试样，往复一定次数的方法。
在上述试验方法中，因为试验结果的再现性良好，通过磨损轮的种类或施加的载荷的选择可以使用于比较广泛的材料种类，是国际上标准化的试验方法，所以最好是采用用磨损轮的磨损试验方法。但是因为不需要特别的装置，简便等，所以也可以采用靠钢丝绒使之磨损的方法。
虽然现在一般采用的方法中，通常是借助于试样的厚度、质量、光学的散射量等各种参数的变化量来量化通过上述各种磨损试验方法来磨损的试样的磨损度，但是在本发明的评价方法中，借助于光盘驱动装置直接评价磨损了的光信息媒体。
在本发明的评价方法中，作为评价对象的记录/重放特性虽然未特别限定，但是具体地说可以举出例如媒体重放时的反射率、调制度、或射频信号平坦度；关于记录结束信号、地址信号、和追记信号的某一个的跳动、输出值、CN比(载波/噪声比)、或者出错率；记录时或重放时的线速度中的聚焦敏感度曲线的p-p(峰峰)值，聚焦误差信号的残留误差分量、或者前述p-p值与前述残留误差分量的比率；等。可以以这些当中的一种或多种为评价对象来进行测定。再者，聚焦敏感度曲线通常称为S字曲线，例如ラジオ技术社1989年2月10日出版的《光盘技术》第81页上述及。根据该聚焦敏感度曲线求出聚焦误差信号输出的p-p值，也就是正侧输出的峰值与负侧输出的峰值之差并用F表示之，另一方面，求出聚焦误差信号的残留误差分量的输出p-p值并用R表示之时，如果R/F小，具体地说如果R/F小于10％，则重放时的跳动变得足够小，此外写入误差也变得足够小。
本发明的评价方法所使用的光信息媒体有信息记录层和透光性基体，只要是用来记录和/或重放的激光束经由该透光性基体入射到前述信息记录层就未特别限定。也就是说，是与前述本发明的光信息媒体同样的构成。
下面示出本发明的具体的实施例。但是，本发明不由以下的实施例来限定。一并示出比较例。
(第1实施例(逆叠层型))媒体1按以下步骤制作除了作为重放专用型之外具有与图1同样的结构的媒体1。
首先，以随机信号信息预先作为预制凹坑在表面上形成的聚碳酸酯基板(外径120mm，厚度1.2mm)为支撑基体20，在该支撑基体20的预制凹坑所设置的表面上通过溅射法形成由铝成分的厚度100nm的反射层。接着，在此上通过旋转涂层法涂布100μm厚紫外线固化型树脂(大日本印墨化学工业社制的SD301)的膜并通过紫外线固化形成透光性基体21。再者，把固化后的透光性基体21从反射层剥离而测定拉伸弹性率时，为970MPa。
接着，在透光性基体21上，通过旋转涂层法涂布无机聚硅氮烷的二甲苯溶液(东燃ゼネラル石油有限公司制的N-L110，固态成分浓度20％质量百分比)，在室温下放置1分后，在100℃下加热30分，借此使之固化而形成聚硅氮烷固化膜22。聚硅氮烷固化膜22的厚度为0.2μm。在该媒体1中，激光束从聚硅氮烷固化膜22一侧入射到前述反射层，借此来进行信号的重放。
在该媒体中，激光束入射侧表面的铅笔硬度为H。
媒体2(比较)除了不设置聚硅氮烷固化膜以外，与媒体1同样地制作媒体2。在该媒体中，激光束入射侧表面的铅笔硬度为B。
媒体3制作除了作为重放专用型之外具有与图5同样的结构的媒体3。该媒体3是在媒体1的聚硅氮烷固化膜22的表面上，通过旋转涂层法形成由硅油(日本信越硅公司制的KF96，黏度10000cP)成分的厚度约100nm的功能层23。功能层23表面的按ISO 82951995的动摩擦系数为0.25。再者，激光束入射侧表面的铅笔硬度即使设置功能层23也未变化。
评价把上述各媒体插入光盘驱动器，测定重放信号的位出错率(BER)。再者，评价中用的光盘驱动器的激光波长为650nm。接着，把媒体1放在锥形磨损试验机上，用磨损轮CS-10F，在载荷4.9N下使旋转台旋转10转使之磨损之后，与上述同样地测定磨损后的BER。然后，对于该盘，用上述磨损轮使旋转台进一步旋转40转(合计50转)使之磨损，同样地进行BER的测定。BER与损伤的发生有相关关系，BER随着损伤的发生而上升。关于初期、10转磨损后和50转磨损后各自的BER，令不足1.0×10-4的场合为○，而且令超过1.0×10-4的场合为×。结果示于表1。
此外，为了评价在重放工作中传感器撞击媒体的场合的影响，改造日本パルステツク工业有限公司制的DDU-1000，在媒体旋转中传感器故意接触媒体。一边使媒体以一定线速度(6.0m/s)旋转一边使传感器接触于媒体的半径40mm的位置滑动3分后，确认聚焦误差信号，进行在传感器的滑动前后波形中有无紊乱的确认。令聚焦误差信号中未发现变化的场合为○，令信号中存在若干紊乱的场合为○，令信号中大量出现噪声的场合为×，结果示于表1。再者，在该评价中接触于盘表面的是前述透镜保护器，其材质为聚丙烯。
表1BER聚硅氮 10转 50转聚焦误阻挡层 烷硬化功能层 初期磨损后 磨损后 差信号膜媒体1 -有- ○ ○ ○ ○媒体 2(比 -- - ○ × × ×较)媒体3 -有有 ○ ○ ○ ○从表1可以看出，在设置了聚硅氮烷固化膜的媒体1中，即使磨损也几乎不发生损伤，也看不出BER的恶化。与此相反在未设置聚硅氮烷固化膜的媒体2中，BER的恶化显著，判明耐磨损性差。此外判明，与媒体1中即使因传感器的接触、滑动信号的紊乱也很少的情况相反，在媒体2中噪声显著地发生。此外查明，在设置由硅油成分的功能层的媒体3中，在传感器滑动后，聚焦误差信号的紊乱比媒体1还少。
接着，除了按以下步骤形成聚硅氮烷固化膜之外与媒体1同样地制作媒体1A。在该媒体1A中，首先，在透光性基体21上厚度为1μm地形成导入有机基的聚硅氮烷(东燃ゼネラル石油(有限公司)制N-L710)的固化膜。接着，在该固化膜上，与媒体1同样厚度为0.2μm地形成无机聚硅氮烷的固化膜。在该媒体1A中，激光束入射侧表面的铅笔硬度与媒体1同等。针对该媒体1A与上述媒体1，进行用锥形磨损试验机的上述评价。但是，为了加严评价条件，使旋转台旋转100转。结果，磨损后的BER在媒体1中虽然为1.0×10-4以上，但是在媒体1A中不足1.0×10-4，可以确认加厚形成聚硅氮烷固化膜产生的效果。
此外，除了由拉伸弹性率150MPa的紫外线固化型树脂层来构成透光性基体21之外与媒体1A同样地制作媒体1B。在该媒体1B中，在聚硅氮烷固化膜中产生自己损坏(开裂)。
此外，除了把聚硅氮烷固化膜22的厚度取为0.5μm之外与媒体1同样地制作媒体1C。针对该媒体1C与媒体1同样地进行评价时，得到与媒体1A同样的结果。另一方面，除了由拉伸弹性率150MPa的紫外线固化型树脂层来构成透光性基体21之外与媒体1C同样地制作媒体1D。在该媒体1D中，在聚硅氮烷固化膜中产生自己损坏(开裂)。
(第2实施例)媒体4准备市场上销售的DVD-RAM(记录容量2.6 GB/面)。DVD-RAM是相变型记录媒体，具有与图2中所示的媒体几乎同样的结构，是把该结构者的保护层6彼此粘贴的构成。记录层4主要由Ge、Sb和Te来成分，透光性基体21为厚度0.6nm的聚碳酸酯基板。
用该DVD-RAM按以下步骤来制作具有图4中所示的结构的媒体4。首先，以DVD-RAM的聚碳酸酯基板为基体主体21A，在其激光束入射侧表面上通过旋转涂层法涂布紫外线固化型丙烯基树脂(日本化药有限公司制的HOD-3200)，通过紫外线照射(高压水银灯，照射量300mJ/cm2)使之固化，形成厚度3.3μm的阻挡层21B。透光性基体21的拉伸弹性率为1340MPa。
接着，在阻挡层21B的表面上，与媒体1同样地形成聚硅氮烷固化膜22。接着，经由聚硅氮烷固化膜22照射1.0J/cm2的紫外线，完全固化阻挡层21B。在该媒体中，激光束入射侧表面的铅笔硬度为H。
对于该媒体4，在半径39.5～57.5mm的范围内进行随机信号的记录，然后进行与媒体1同样的评价时，得到与媒体1同样良好的结果。再者，关于传感器滑动后的聚焦误差信号的结果示于表2。
媒体5(比较)除了不设置聚硅氮烷固化膜22，而且把阻挡层21B形成时的紫外线照射量取为1.0J/cm2之外，与媒体4同样地制作媒体5。在该媒体中，激光束入射侧表面的铅笔硬度为2B。
对该媒体5与媒体4同样地进行评价时，表现出与未设置聚硅氮烷固化膜的媒体2同样的结果，与媒体4相比明显地恶化。再者，关于传感器滑动后的聚焦误差信号的结果示于表2。
媒体6制作具有图6中所示的结构的媒体6。该媒体6是在媒体4的聚硅氮烷固化膜22的表面上形成厚度约10nm的功能层23者。功能层23通过旋转涂层法来涂布防水·防油性硅烷耦合剂(日本ダイキン工业有限公司制的DSX)的0.1％(质量百分比)全氟代己烷溶液，在大气中在60℃下加热10小时使之化学吸附来形成。
该媒体的功能层23表面的根据ISO 82951995的动摩擦系数为0.20。此外，水对功能层23表面的接触角为114.0度，n-十六烷的接触角为63.8度。再者，激光束入射侧表面的铅笔硬度即使设置功能层23也未变化。
针对该媒体，与媒体1同样地进行评价时，关于磨损后的BER与媒体4同样良好。此外，虽然关于传感器滑动后的聚焦误差信号示于表2，但是确认比媒体4更抑制噪声。进而，查明在媒体6中表面上不容易附着指纹等污染，此外即使附着时拭去性方面也优良。
表2聚硅氮烷 聚焦误阻挡层 固化膜 功能层 差信号媒体4 有 有 - ○媒体5(比较)有 -- ×媒体6 有 有 有 ○再者，除了分别与第1实施例的媒体1A和媒体1C同样地形成聚硅氮烷固化膜22之外与媒体4同样地制作媒体时，在这些媒体中，得到与媒体1A和媒体1C同样优良的耐磨损性。
关于上述媒体6和第1实施例的媒体3，使干燥的布头(日本旭化成工业有限公司制ベンコツトリントフリ-CT-8)在功能层23表面上往复滑动。滑动时的载荷取为约10N。在滑动的前后测定功能层23表面的水的接触角时，在媒体3中滑动前为98.3度，滑动后为83.5度，查明硅油被布头拭去相当多。另一方面，在媒体6中滑动前为114.0度，滑动后为112.5度，可以确认硅烷耦合剂对拭去的耐性很高。
(第3实施例)媒体7按以下步骤制作除了作为重放专用型之外具有与图6同样结构的媒体7。
首先，以随机信号信息预先作为预制凹坑在表面上形成的聚碳酸酯基板(外径120mm，厚度0.6mm)为基体主体21A，在该预制凹坑形成面的对峙侧形成与媒体4相同的阻挡层21B。透光性基体21的拉伸弹性率为1340MPa。接着，在阻挡层21B的表面上与媒体1同样地形成聚硅氮烷固化膜22。
接着，在该基板的预制凹坑形成面上通过溅射法形成铝反射层(厚度100nm)。接着，在该反射层表面上借助于紫外线固化型粘合剂(丙烯基系，固化后粘合剂层的厚度5.0μm)粘贴未设预制凹坑的聚碳酸酯基板(外径120mm，厚度0.6mm)制成光盘。以此作为媒体7。再者，在该媒体7中，使激光束从前述聚硅氮烷固化膜表面入射到反射层，借此来进行信号的重放。
针对该媒体7与媒体1同样地进行评价时，得到与媒体1同样的结果。此外，除了分别与第1实施例的媒体1A和媒体1C同样地形成聚硅氮烷固化膜22之外与媒体7同样地制作媒体时，在这些媒体中，得到与媒体1A和媒体1C同样优良的耐磨损性。
媒体8(比较)除了不设置聚硅氮烷固化膜，而且把阻挡层形成时的紫外线照射量取为1.0J/cm2之外，与媒体7同样地制作媒体。再者，在该媒体8中，使激光束从前述阻挡层表面入射到反射层，借此来进行信号的重放。
针对该媒体8与媒体1同样地进行评价时，查明是与未设置聚硅氮烷固化膜的媒体2同样的，比媒体7明显地恶化。
(第4实施例(耐擦伤性的评价))试样№1按以下步骤来制作图4中所示结构的光记录盘试样。
首先，以形成沟槽的盘形基体(聚碳酸酯制，直径120mm，厚度0.6mm)为透光性基体21的基体主体21A，在其未形成沟槽的面上，与媒体7同样地形成阻挡层21B。接着，在阻挡层21B的表面上形成聚硅氮烷固化膜22，制成硬覆盖层。沟槽深度取为18nm，记录径迹间距取为0.74μm。
接着，在透光性基体21的沟槽形成一侧上通过溅射法形成两层结构的第1介电体层31。两层当中存在于透光性基体21一侧的层，成分为ZnS(80摩尔％)-SiO2(20摩尔％)，厚度取为80nm。另一方面，存在于记录层4一侧的层，成分为ZnS(50摩尔％)-SiO2(50摩尔％)，厚度取为5nm。
接着，用由相变材料成分的合金靶，通过溅射法来形成厚度18nm的记录层4。记录层4的成分(原子比)为Sb74Tb18Ge7In1。
接着，用ZnS(50摩尔％)-SiO2(50摩尔％)靶，通过溅射法来形成厚度19nm的第2介电体层32。
接着，通过溅射法来形成由Al98Cr2(原子比)成分的反射层5。
接着，通过旋转涂层法涂布紫外线固化型树脂(索尼化学公司制SK5110)，通过照射紫外线形成厚度5μm的保护层6。然后，在保护层上借助于紫外线固化型粘合剂来粘贴聚碳酸酯制的空白基体(直径120mm，厚度0.6mm)，制成光记录盘试样。
试样№2代替聚硅氮烷固化膜，通过旋转涂层法把紫外线固化型树脂(大日本印墨化学工业社制的SD318)涂布成固化后的膜厚为2.51μm通过固化形成硬覆盖层。此外，不设置阻挡层。除此之外与试样№1同样地制成，制作光记录盘试样。
试样№3除了不设置阻挡层和硬覆盖层之外与试样№1同样地制成，制作光记录盘试样。
评价在靠整盘消除器把这样制作的各试样的记录层初始化(结晶化)之后，放在光记录媒体评价装置上，在激光波长650nm，激光功率1.0mW，物镜数值孔径NA0.60，线速度3.5m/s，的条件下，一边跟踪沟槽一边测定未记录部分的反射率。接着在沟槽中记录1～7调制信号(最短信号长2T)后，测定重放信号的输出值和跳动。这些结果示于表3。再者，该跳动借助于时间间隔分析器(横河电机有限公司制)来测定重放信号求出“信号波动(σ)”，令检测窗宽度为Tw，根据σ/Tw(％)来计算。虽然如果该跳动小于13％则误差就落在允许范围内，但是为了充分地确保各种裕度，该跳动宜小于10％，更好的是小于9％。
接着，把前述各试样放在錐形磨损试验机上，用磨损轮CS-10F以载荷4.9 N使试样的激光束入射侧表面磨损。磨损循环数(旋转台的转数)示于表3。然后，与上述同样地测定磨损部位的未记录部分的反射率、以及磨损前记录的信号的输出值和跳动。这些结果示于表3。再者，表3中的输出值是以磨损前的值为100进行归一化的相对值。此外，在表3中还示出磨损后的反射率和输出值对磨损前的反射率和输出值的下降率。
再者，在示于表3的各测定值当中针对反射率的下降率、输出值的下降率和跳动表示与磨损循环数的关系的曲线分别示于图7、图8和图9。
表3
从表3和图7～图9可以看出，通过由聚硅氮烷固化膜来构成光盘的激光束入射侧表面，得到优良的耐磨损性。
此外，从图7可以确认，在本发明的评价方法中的用ISO 9352中所规定的磨损轮试验作为磨损方法的场合，在任何媒体中反射率的下降率都与磨损循环数(也就是磨损时间)的平方根成比例。此外，从图8可以确认，关于输出值的下降率也是与磨损循环数的平方根成比例。另一方面，关于跳动值，从图9可以看出与磨损循环数具有线性关系。
根据上述结果可以看出，即使在把反射率、输出值、和跳动中的某一项作为评价对象来采用的场合，其变化也表达为磨损时间的函数，而且显著地反映透光性基体表面的耐擦伤性。也就是说，可以看出，本发明的评价方法作为光信息媒体中的透光性基体的耐擦伤性、耐磨损性的评价方法是有用的。
权利要求
1.一种光信息媒体，具有透光性基体和信息记录层，借助于从前述透光性基体入射到前述信息记录层的激光束光学地进行记录和/或重放，其中在前述透光性基体的激光束入射侧具有聚硅氮烷固化膜，前述透光性基体的拉伸弹性率，或者前述聚硅氮烷固化膜一体化的状态下的前述透光性基体的拉伸弹性率，为200 MPa以上。
2.权利要求1的光信息媒体，其中前述透光性基体包含厚度30～300μm的树脂层。
3.权利要求1或2的光信息媒体，其中前述聚硅氮烷固化膜的厚度为0.2～50μm。
4.权利要求1～3中任何一项的光信息媒体，其中激光束入射侧表面的铅笔硬度为HB以上。
5.权利要求1～4中任何一项的光信息媒体，其中前述聚硅氮烷固化膜为把成分不同的多个膜叠层而成，从激光束入射侧观看前述聚硅氮烷固化膜时，无机聚硅氮烷固化膜与导入有机基的聚硅氮烷固化膜按该顺序存在。
6.权利要求1～5中任何一项的光信息媒体，其中在前述聚硅氮烷固化膜的激光束入射侧有具有从润滑性、防水性和防油性中选择的至少一种功能的功能层。
7.权利要求6的光信息媒体，其中前述功能层的厚度为500 nm以下。
8.权利要求6或7的光信息媒体，其中前述功能层由具有水解性甲硅烷基的化合物形成。
9.一种光信息媒体的评价方法，是针对具有透光性基体和信息记录层、并借助于从前述透光性基体入射到前述信息记录层的激光束光学地进行记录和/或重放的光信息媒体，进行关于激光束入射侧表面的耐擦伤性的评价的方法，其中故意地使光信息媒体的激光束入射侧表面磨损之后，测定记录/重放特性，基于该测定值评价激光束入射侧表面的耐擦伤性。
10.权利要求9的光信息媒体的评价方法，其中作为故意地使光信息媒体的激光束入射侧表面磨损的机构，使用ISO 9352中所规定的磨损轮。
11.权利要求9的光信息媒体的评价方法，其中作为故意地使光信息媒体的激光束入射侧表面磨损的机构，使用#0000的钢丝绒。
全文摘要
提供一种用于记录/重放的激光束入射侧表面的耐擦伤性良好的媒体和评价前述耐擦伤性的评价方法。该媒体具有透光性基体和信息记录层,借助于从前述透光性基体一侧入射到前述信息记录层的激光束进行光学地记录和/或重放,其中在前述透光性基体的激光束入射侧有聚硅氮烷固化膜,且前述透光性基体的拉伸弹性率,或者前述聚硅氮烷固化膜一体化状态下的前述透光性基体的拉伸弹性率为200MPa以上。
文档编号G11B7/0037GK1336656SQ0112181
公开日2002年2月20日 申请日期2001年6月28日 优先权日2000年6月28日
发明者林田直树, 平田秀树, 田中敏文 申请人:Tdk株式会社