专利名称：磁复制装置的制作方法
技术领域：
本发明是关于由载带信息的主载体向从属介质进行磁复制的磁复制装置。
背景技术：
在磁记录介质中，一般希望所谓的高速存取的介质，增加信息量，同时能大容量且廉价地记录更多的信息，更好是能在短时间内从所需部位读取地。作为它们中一例，已知有硬盘、高密度软盘，为实现其大容量，使磁头准确地在狭窄磁道宽度上进行扫描，以高S/N比再生信号。所谓跟踪伺服技术，发挥了很大的作用。所谓预格式化，是在盘的1周内，以其间隔，记录跟踪用的伺服信号、地址信息信号、再生时间信号等。
设定磁头，读取这样预格式化信息后，能修正自己的位置准确地在磁道上移动。现在的预格式化，是使用盘专用的光伺服装置，每1张盘，每1个磁道地进行记录制作。然而，光伺服装置价格很昂贵，制作预格式化时需很长时间，该工序的制造费用占据了大部分的费用，所以希望降低成本化。
另一方面，提出了一种不是一个磁道一个磁道地书写预格式化，而是利用磁复制即可实现的方法。作为这种磁复制方法，例如特开昭63-183623号公报、特开平10-40544号公报、特开平10-269566号公报中公开的。磁复制是将主载体和从属介质紧密接触的状态下，施加复制用磁场，进行复制与主载体载带的信息(例如，伺服信号)相对应的磁化图形，不必改变主载体和从属介质的相对位置，静静地即可进行记录，而且能准确地记录下准确的预格式化，也不需要很长时间，短时间内即可完成。
另外，磁复制是将主载体和从属介质紧密接合的状态下，施加复制用磁场，进行复制与主载体上载带信息(例如伺服信号)相对应的磁化图形。作为这种磁复制方法，例如召开在特开昭63-183623号公报、特开平10-40544号公报、特开平10-269566号公报中曾给予报导。
进而，从属介质像硬盘或高密度软盘一类的圆盘状介质时，在使圆盘状的主载体与该从属介质的单面或两面紧密接合的状态下，利用配置在其单侧或两侧的电磁铁装置、永久磁铁装置形成的磁场施加装置，施加复制磁场。
为了提高这种磁复制中的复制质量，最重要的问题是使从属介质和主载体紧密接合，不能留有任何细微间隙。即，当紧密接合不好时，会产生没有引起磁复制的区域，当未引起磁复制时，向从属介质复制的磁信息会产生信号遗漏，导致信号质量降低，在记录信号为伺服信号时，得不到充分的跟踪功能，存在信赖性降低的问题。
由以上诸点，在磁复制中，为了使主载体和从属介质形成均匀的紧密接合，没有任何细微间隙，到目前为止提出的方法(特愿2001-144296等)，是提高保持主载体的夹持器表面平面度，将该面作为基准对主载体进行真空吸引，提高主载体自身的平面度，可确保主载体和从属介质的紧密接合。
发明内容
本发明就是鉴于这种问题，其目的是提供一种磁复制装置，通过在主载体和夹持器间设置具有弹性的材料，在磁复制中提高了主载体和从属介质的紧密接合性，提高了复制信号的质量。
另外，在以前的磁复制装置中，为了提高从属介质和主载体的紧密接合性，利用挤压装置施加挤压力，相对于主载体挤压从属介质。这种机械压的施加紧密接合力的方式，就获得较大的压力，最适宜，但对主载体和从属介质的紧密接合面，难以施加均匀的压力。
就这一点平讲，对装有主载体和从属介质的夹持器内进行真空吸引，被从属介质和主载体获得紧密接合力的真空吸引方式，由于能对整个夹持器的面施加均匀的压力，所以能实现均匀的紧密接合状态，最为理想。然而，上述真空吸引方式中，夹持器内外部分最大压力差为1个大气压，在这种状态下，在主载体和从属介质之间不可能确保充分的紧密接合力。
因此，对在真空吸引方式中组合利用螺栓等施加机械的压力，提高紧密接合力进行了研究，但如前所述，施加机械的力时，压力分布会不均匀，存在对复制信号质量产生影响的问题。作为使主载体和从属介质紧密接合的方法，使用具有腔室的真空吸引方式时，由于夹持器的构造，很难提高紧密接合力，同时，紧密接合也不均等，存在产生局部信号遗漏的危险。例如，夹持器具有固定主载体的下侧腔室、和将从属介质向主载体上挤压的上侧腔室，下侧腔室的上面和上侧腔室的下面，通过O环型等密封材料进行接触，使盛放空间形成密闭。在此结构中，当提高内部真空度时，密封材料会被损坏，两上腔室形成直接接触，不可能施加更高的力。由此，紧密接合形成不均等，很容易产生局部的信号遗漏。
本发明就是鉴于上述诸点，其目的是提供一种磁复制装置，在夹持器内只通过真空吸引，就在从属介质和主载体的紧密接合中获得充分的紧密接合力，进行良好的磁复制。
上述主载体和从属介质紧密接合不好，有时因主载体和从属介质之间存在附着物而引起，在该附着部分附近，主载体和从属介质之间产生空间，形成紧密接合不好，产生不引起磁复制区域。可知因这种附着物产生的信号遗漏，当多次实施复制时，大多发生在主载体和从属介质紧密接合面的外周部分。分析该附着物的结果，可知多数是与为了提高主载体和从属介质的紧密接合性，盛装两者时介于相对紧密接合的夹持器和从属介质之间的弹性材料相同元素构成的粒子。上述弹性构件是与每次磁复制更换的从属介质相接触的，由于反复进行其接合和脱离，粒状物就会从弹性部件表面脱离下来，形成尘埃，附着在紧密接合面上，导致紧密接合不好。
本发明就是鉴于此类问题，其目的是提供一种磁复制装置，在磁复制时可减少信号遗漏的发生，提高信号质量。
进而，以前的磁复制是将主载体和从属介质紧密接合进行，这时，在主载体和从属介质紧密接合的状态下，需要进行位置确定，在位置确定时，主载体和从属介质会发生磨擦，伴随着反复磁复制，主载体载带信息的图形面形状(凹凸图形形状)受到摩损，造成复制精度降低。一般讲，凹凸图形的构成是具有凹凸图形的基板上被复上磁性层和润滑层等膜，反复多次与从属介质接合和脱离后，图形上的磁性层等一部分会损落，有时从基板上剥离下来，当凹凸图形的摩损，磁性层的剥离引起复制精度降低时，主载体必须更换，但是，这种主载体的价格很高，使用1张主载体能复制多少张从属介质，在控制磁记录介质的制造费用时，就成为极为重量的问题。
本发明鉴于上述情况，其目的是提供一种磁复制方法，用1张主载体可对更多的从属介质进行磁复制，而且能获得良好的复制信号。
另外，在主载体分别与从属介质的两个面紧密接合，向两个面施加复制用磁场，同时对两个面进行磁复制时，从属介质的两个面必须分别与主载体形成均的紧密接合，要求更高的紧密接合精度，上述从属介质和主载体装入夹持器内，虽然是形成相对的紧密接合，除对主载体要求其精度外，还要求夹持器的精度，向夹持器内保持的精度。
在夹持器的上夹持器和下夹持器之间，配置盛放1张从属介质，其两侧配置2张主载体，施加紧密接合力，形成相对紧密接合后，施加复制用磁场，同时对两面进行磁复制，对复制在从属介质上的磁化图形，研究其信号遗漏的结果，可在两侧的主载体彼此间的位置关系对信号遗漏产生很大的影响。
本发明鉴于这样的问题，其目的是提供一种磁复制装置，在对两面同时进行磁复制时，可提高主载体和从属介质的紧密接合性，并提高了复制信号的质量。
本发明的磁复制装置，其特征是在将载带复制信息的主载体和接受复制的从属介质相对紧密接合，装入夹持器内后，施加复制用磁场进行磁复制的磁复制装置中，在上述夹持器和主载体之间装有具有弹性特性的材料。
上述具有弹性特性材料的杨氏模量，最好在5.0×10-5Pa以上，3.0×10-2Pa以下的范围。上述具有弹性特性的材料厚度，最好在0.01mm以上，1.0mm以下的范围。
根据本发明的磁复制装置，特征是具有将载带复制信息的主载体、接受复制的从属介质相对紧密接合装入密闭空间的夹持器、对该夹持器的密闭空间进行真空吸引，使从属介质和主载体获得紧密接合力的真空吸引装置、和施加复制用磁场的磁场施加装置，上述夹持器的真空吸引区域有效面积SV、和主载体与从属介质的接触面积SD，必须满足如下关系，
1.2≤(SV/SD)≤16.0
即，本发明中，为了只以真空吸引获得规定的紧密接合力，要增大密闭空间中真空吸引区域的面积，将该面积作为参量进行分析的结果，设定真空吸引区域的有效面积SV、和主载体与从属介质的接触面积SD，必须满足上述1.2≤(SV/SD)≤16.0的关系，可确保均匀的紧密接合性。在1.2＞(SV/SD)的区域内，紧密接合力不足，形成信号质量降低的大问题。反之(SV/SD)＞16.0的区域内，虽然能确保信号质量，但由于施加压力过高，造成主载体变形、导致图形受损。
另外，上述夹持器最好形成筒体结构，具有下侧腔室、可与该下侧腔室作接合脱离移动的上侧腔室、和与两腔室的接合脱离移动方向平行面滑动接触并使上侧腔室和下侧腔室的内部空间形成密闭的密封材料。
另外，本发明的磁复制装置，特征是在将载带信息信号的主载体和接受复制的从属介质相对紧密接合装入夹持器内后，施加复制用磁场进行磁复制的磁复制装置中，最好在上述夹持器和上述从属介质之间装有弹性部件，来自该弹性部件表面的0.5μm以上的粒子尘埃量为0个/cm2，而0.3μm以上0.5μm以下的粒子尘埃量在5个/cm2以下。这时，设定上述弹性部件，由低尘埃性材料构成，或实施净化处理除尘，反复与从属介质接合、脱离时，使0.5μm以上的粒子尘埃量为0个/cm2，而0.3μm以上0.5μm以下的尘埃量在5个/cm2以下。关于0.3μm以下的粒子，根据复制信息的图形尺寸等的关系，难以成为产生信号遗漏的原因。
上述弹性部件的杨氏模量最好在5.0×10-5Pa以上，3.0×10-2Pa以下。上述磁复制时的施加压最好在9.8×10-5Pa以上，4.9×10-3Pa以下。上述弹性部件的厚度最好在0.1mm以上，6mm以下。
另外，进行磁复制时，预先在形成面内记录的面内磁道方向上，或在形成垂直记录的垂直方向上，使从属介质形成初期直流磁化。将该从属介质和在与复制信息相对应的细微凹凸图形上形成磁性层的磁复制用主载体紧密接合，在与初期直流磁化方向略呈逆向的磁道方向上或垂直方向上，施加复制用磁场进行磁复制。作为上述信息最好是伺服信号。
进而，本发明的磁复制方法，特征是将表面具有向从属介质的磁性导复制信息的凹凸图形的主载体，和上述从属介质以相对状态，施加复制用磁场，在磁场下将上述信息复制到上述从属介质的磁性层上，在这种磁复制方法中，施加上述复制用磁场时上述主载体和上述从属介质的间距为1-100nm。此处所说的“上述主载体和上述从属介质的间距”，是指从上述主载体表面的凹凸图形的凸部表面到从属介质表面的距离，所说的“将间距取为1-100nm”，最好使主载体和从属介质相对面的整个区域内为一样的距离，由于主载体和从属介质自身的挠曲很难保持距离一致，这种间隔，两者间的间距最好在1nm以上，100nm以下。
为了使主载体和从属介质的间距取为1-100nm，例如，在磁复制用主载体的向从属介质复制信息的凹凸图形复制区域以外的非复制区域内，具有表面比上述凹凸图形的凸部表面高的支撑用凸部，通过使该支撑用凸部与从属介质表面紧密接合，以规定距离的间隔形成支撑，这样主载体的凹凸图形和从属介质表面不会形成紧密接合。或者采用以规定间距支撑磁复制用主载体和从属介质的夹持器等支撑装置。
另外，本发明的磁复制装置，特征是在将载带复制信息的主载体分别与接受复制从属介质的两侧记录面相对紧密接合装入夹持器内后，施加复制用磁场，同时向两个面上进行磁复制的磁复制装置中，上述两侧主载体的平行度偏差在50μm以下，最好在5μm以下。这时，保持各主载体的两个夹持器的表面间平行度偏差在50μm以下，更好在5μm以下。上述两侧主载体的中心位置偏差在10μm以下。保持各主载体的两个夹持器中心位置偏差最好在10μm以下。所谓上述平行度偏差，是指将两侧主载体或两夹持器相对时，最近距离和最远距离之差。
根据本发明，在夹持器和主载体之间装配具有弹性特性的材料，使主载体和从属介质形成紧密接合时，允许其压力使主载体稍有变形，必须使主载体自身在弹性区域内变形，才能确保主载体和从属介质形成均匀的紧密接合。
将上述具有弹性特性材料的杨氏模量，设定在5.0×10-5-3.0×10-2Pa之间，可确保良好的紧密接合状态。该杨氏模量小于5.0×10-5Pa时，主载体和从属介质的力会被弹性材料所吸收，不可能确保充分的紧密接合性。当杨氏模量大于3.0×10-2Pa时，在紧密接合的压力下，主载体不能平稳变形，反而加大了间隙，成为信号遗漏的原因。
另外，将上述具有弹性特征材料的厚度设定在0.01-1.0mm之间，可进一步确保良好的紧密接合特性。其厚度小于0.01mm时，主载体变形受到限制，紧密接合性不足，超过1.0mm时，主载体的变形量增大，会引起塑性变形，有可能导致主载体不能使用。
另外，本发明中，对夹持器的密闭空间进行真空吸引，使装入夹持器内的主载体和从属介质获得紧密接合力时，可施加均匀的压力，同时将夹持器的真空吸引区域有效面积SV和主载体与从属介质接触面积SD的面积比SV/SD取为1.2-16.0之间，可以所要求的紧密接合力，对从属介质和主载体均匀地进行紧密接合，实施高质量信号的良好磁复制，当增大上述面积比SV/SD，使夹持器的密闭空间面积大于从属介质的紧密接合面积时，作用于未保持主载体部位上的压力，要高于主载体和从属介质紧密接合时施加的紧密接合力。将上述面积比取为1.2倍以上，可得到所需要的均匀紧密接合力，提高了紧密接合性，确保没有局部信号遗漏的良好复制信号质量，取为16倍以下，施加压力不能过大，可防止主载体变形，和产生图形损伤，并能提高耐久性。
另外，当将夹持器的构造形成筒体结构时，由真空吸引产生的压力，有效作用于主载体和从属介质的紧密接合面，提高了紧密接合力，利用所要求的紧密接合力可获得均匀的紧密接合状态。该紧密接合力的均匀性比施加机械压力得到显著提高，不会发生局部信号遗漏。
另外，本发明中，将主载体和从属介质相对紧密接合装入夹持器后，进行磁复制时，在夹持器和从属介质之间装配0.5μm以上的粒子为0个/cm2，而0.3μm以上0.5μm以下的尘埃量为5个/cm2以下的弹性部件时，可减少由弹性部件的尘埃形成的附着物，抑制接合不良现象发生，大幅度减少信号遗漏，同时，施加紧密接合压力时，弹性部件使附着物的形状变形，使附着物周围主载体和从属介质间的间隙形成范围变得狭窄，减小了信号遗漏的发生范围，进而提高了复制信号质量。
进而，本发明的磁复制方法，在将主载体和从属介质的间距取为1-100nm的状态下，施加复制用磁场进行磁复制时，可减轻从属介质和主载体的凹凸图形之间产生的磨擦，特别是，认为凹凸图形磨损的主要原因是在确定和从属介质的位置时从属介质和凹凸图形之间产生的磨擦，这种磨擦可将减轻，并能有效地防止凹凸图形的磨损。由于主载体的凹凸图形和从属介质没有形成紧密接合，从而可防止因主载体和从属介质反复进行接合、脱离产生的磁性层等脱落、剥离等。因此，能延长主载体的寿命，可更多次地向从属介质进行磁复制。至此，可削减磁复制时的费用，并能以低价格提供完成预格式化的从属介质。
另外，本发明中，将主载体分别与从属介质两侧记录面相对紧密接合，同时向两个面进行磁复制时，两侧主载体的平行度偏差在50μm以下，最好在5μm以下时，可得到均匀的全面紧密接合，可消除因部分接合不良引起的信号遗漏，可同时向两面进行复制，得到高质量的复制信号。
图1是本发明一实施例中显示磁复制装置复制状态的主要部分斜视图。
图2是图1中夹持器的分解斜视图。
图3是本发明另一实施例的夹持器分解斜视图。
图4是显示主载体间平行度偏差说明图。
图5是本发明一实施例中显示磁复制装置复制状态的主要部分斜视图。
图6是夹持器的断面图。
图7是本发明一实施例中显示磁复制装置中附着物的部分图。
图8是本发明实施例中磁复制的基本过程图。
图9是本发明一实施例中使用主载体的磁复制方法示意图。
图10是本发明一实施例中主载体的俯视图和剖视图。
图11是本发明另一实施例的主载体俯视图。
具体实施例方式
以下对本发明的实施例作详细说明。图1是本发明一实施例中显示这种磁复制装置复制状态的主要部分斜视图。图2是夹持器的分解斜视图。
图1和图2所示磁复制装置1是利用面内记录方式同时进行两面复制的装置，将主载体3，4相对紧密接合在从属介质2上下的夹持器10，一边旋转，一边由配设在该夹持器10上下的磁场施加装置5(电磁铁装置)施加复制用磁场，在磁场下将主载体3，4载带的信息同时复制记录在从属介质2的两个面上。
夹持器10，具有筒体结构的下侧压接部件8和上侧压接部件9，盛装有向从属介质2的下侧记录面复制伺服信号等信息的下侧主载体3、向从属介质2的上侧记录面复制伺服信号等信息的上侧主载体4、介于下侧主载体3和下侧压接部件8之间的下侧弹性部件6、和介于上侧主载体4和上侧压接部件9之间的上侧弹性部件7，这些在使中心位置一致的状态下进行压接，使下侧主载体3和上侧主载体4与从属介质2的两个面相对紧密接合。此处所说的相对紧密接合是指接触紧密接合，空有极细微间隙相对的双方任何一个。
设置可使下侧压接部件8和上侧压接部件9中的一方或两方沿轴向移动的未图示的开闭机构，通过该开闭机构进行打开和关闭。上述夹持器10还具有未图示的真空吸引装置，对由下侧压接部件8和上侧压接部件9的滑动连接形成的内部空间中的空气进行真空吸引，使内部形成减压状态，使上述从属介质2和上下主载体3，4获得紧密接合力。
图2的情况下，虽然示出了使主载体3，4与从属介质2的两个面相对紧密接合，同时向两个面复制的形态，但也可以使主载体与从属介质2的一个面相对紧密接合，一个面一个面地进行复制。
图示的从属介质2是由圆盘状记录介质2a中心部位的插孔2b进行固定的软盘，记录介质2a在由弹性的聚对苯二甲酸乙二酯等形成圆盘状的基质两个面上具有形成磁性体层的记录面。该从属介质也可以是硬盘。在硬盘时，下侧压接部件8或上侧压接部件9上设有位置确定销，可同时确定主载体3，4的位置。
上述下侧主载体3和上侧主载体4形成圆盘状盘，在其单面上具有与上述从属介质2的记录面紧密接合，由磁性体图形形成的复制信息载带面，与其相反侧面，由真空吸附等保持在下侧弹性部件6和上侧弹性部件7上。
夹持器10的下侧压接部件8为圆盘状，具有比主载体3外径大的圆形状上面，在该上面中央部分上装配层状的下侧弹性部件6，在其上面用吸附等保持下侧主载体3。上侧压接部件9为圆盘状，同样具有比主载体4外径大的下面，在该下面上装配片状的上侧弹性部件7，利用吸附等将上侧主载体4保持在其下面上，在下侧压接部件8的中心部位上设有与从属介质2插孔2b的中心孔相配合的位置确定销8b。
在下侧压接部件8的外周设有向上方突出的凸缘部分8a，在上侧压接部件9的外周上设有向下方突出的凸缘部分9a，虽然没有详细图示，但上侧压接部件9的凸缘9a外周面的直径小于下侧压接部件8的凸缘8a外周面的直径，在下侧压接部件8的凸缘8a的内周侧，设有可插入的上侧压接部件9的凸缘9a。(相反的大小关系也可以)，将由O环等形成的未图示密封材料装配在上侧压接部件9的凸缘9a外周上，将上侧压接部件9向下侧压接部件8侧移动时，该密封材料与下侧压接部件8的凸缘8a的内周面滑动连接，与接合脱离移动方向(轴方向)平行的面彼此间形成密封，使两个压接部件8，9间的内部空间形成密封。密封材料也可以装配在下侧压接部件8上。
在上述内部空间形成密封状态下，设计成下侧压接部件8和上侧压接部件9可接合脱离移动的筒体结构，改变从属介质2、主载体3、弹性材料4的厚度，可以变更从属介质2和主载体3的紧密接合高度，确保密闭状态。该下侧压接部件8和上侧压接部件9与未图示的旋转机构连接，形成一体驱动旋转。
在夹持器10的内面具有向内部空间形成开口的真空吸引装置的吸引口，与该吸引口连通的空气通路，在下侧压接部件8或上侧压接部件9内形成，引出到外部与真空泵连接，由该真空吸引装置对空气进行真空抽吸，可将夹持器10内的内部空间控制在规定的真空度。
在磁复制时，伴随着上述真空吸引，由形成的压力，使上侧压接部件9和下侧压接部件8开始移动，相互接近，通过上下弹性部件6，7，上下主载体3，4的信息载带面和从属介质2的磁记录面相对紧密接合，在该主载体3，4和从属介质2紧密接合状态下，由磁场施加装置5施加复制用磁场，在磁场下，将伺服信号等信息进行复制记录。施加紧密接合力的施加方式，除了上述真空吸引方式外，或者取代它，也可采用从外部施加机械压力的方式。
上述弹性部件6，7的材料具有如下特性，即，杨氏模量为5.0×10-5Pa以上，3.0×10-2Pa以下，施加紧密接合压力时，允许主载体3，4的弹性变形，使从属介质2和主载体3，4的表面形状一致，提高了紧密接合性，在释放紧密接合力后，可恢复到原来的状态。杨氏模量小一5.0×10-5Pa，主载体3，4和从属介质2之间的力被弹性部件6，7吸收，不能确保充分的紧密接合性。当杨氏模量超过3.0×10-2Pa时，在紧密接合压力下，主载体3，4不能进行平稳变形，反而存在扩大间隙的危险。
作为弹性部件6，7的具体材料，可使用硅橡胶、聚氨酯橡胶、氟橡胶、丁二烯橡胶、乙烯丙烯橡胶等。作为橡胶硬度，可使用10-100范围的，最好40-80范围的。上述杨氏模量最好为5.8×10-5-3.0×10-2Pa的范围，更好为9.8×10-5-4.9×10-3Pa的范围。
弹性部件6，7，为0.01-1.0mm的范围，该厚度小于0.01mm时，主载体3，4的变形受到限制，不能充分确保紧密接合性，超过1.0mm时，主载体3，4变形很大，有可能导致塑性变形。
来自上述弹性部分44表面的尘埃量，其大小在0.5μm以上的粒子为0个/cm2，粒子大小在0.3μm以上不到0.5μm的，在5个/cm2以下。这相当于，例如，将除尘的弹性部件44试料紧密接合，并剥离后，附着在试料上的粒子0.5μm以上的为0个/cm2，而0.3μm以上0.5以下的在5个/cm2以下。想要达到上述的尘埃量，最好用低尘埃性的材料形成弹性部件44，或者实施净化处理进行除尘，即使与从属介质42反复进行接合，脱离，也会减少由该弹性部件44引发尘埃向主载体43和从属介质42的紧密接合面上的附着物，从而减少因紧密接合不当引发信号的遗漏。
弹性部件6，7与从属介质2的接触面形状，可形成与主载体3，4平行的平面形状或凸形状。作为凸形状，最好是圆弧形状，也可以是所谓的圆锥形状。圆弧形状或圆锥形状时，中心和缘部的高度差(凸部的高度)，相对于弹性部件6，7的直接最好在5％以下。
进行磁复制时，从属介质2的磁化，沿形成面内记录的面内磁道方向，或沿形成垂直记录的垂直方向，预先进行初期直流磁化。使该从属介质2与主载体3，4紧密接合，在与初期直流磁化方向略呈逆向的磁道方向上或垂直方向上施加复制用磁场。
从属介质2，可使用在两个面或单面上形成磁记录部分(磁性层)的硬盘、高密度软盘等圆盘状磁记录介质。该磁性层是由涂布型磁记录层或金属薄膜型磁记录层构成。
主载体3，4是在基板上形成的细微凹凸图形上被履磁性体形成复制图形。作为主载体3，4的基板，可使用镍、硅、石英板、玻璃、铝、合金、陶瓷、合成树脂等。凹凸图形的形成，利用溅射等方法进行。软磁性体的形成，是将磁性材料，利用真空蒸镀法、喷溅法、离子镀法等真空成膜装置、电镀法等进行成膜。在面内记录和垂直记录时，使用大致一样的主载体。
施加复制用磁场和初期磁场的磁场施加装置5，在面内记录时，例如，在具有沿从属介质2半径方向延伸的狭缝的芯子上卷绕线圈的环形磁头电磁铁，配置在上下两侧，在上下相同的方向上，施加与磁道方向平行产生的复制用磁场。使夹持器10旋转，从属介质2和主载体3的整个面上施加复制用磁场。也可设计成使磁场施加装置5可旋转移动。磁场施加装置5可只配设在单侧，也可将永久磁铁装置配设在两侧或单侧上。
垂直记录时的磁场施加装置，可将极性不同的电磁铁或永久磁铁配置在夹持器10的上下，在垂直方向上施加并产生复制磁场。在施加部分磁场时，可移动夹持器10或移动磁场，进行全面的磁复制。
在上述磁复制装置1中，利用相同的主载体3，4可对数个从属介质2实施磁复制，首先，将弹性部件6，7和主载带3，4保持在夹持器10的下侧压接部件8和上侧压接部件9上，使位置吻合一致。在使上侧压接部件9和下侧压接部件8相间开的状态下，设置在面内方向或垂直方向的一个方向上预先进行初期磁化的从属介质2，使其中位置一致后，移动上侧压接部件9与下侧压接部件8接近。
然后，利用两压接部件8，9的凸部8a，9b的嵌合滑动连接，使夹持器10内形成密闭空间。利用真空吸引装置进行减压，排出内部空间的空气，形成规定的真空度。这样，上侧压接部件9在真空度的作用下，由外力(大气压)形成的压力，向下侧压接部件8，通过弹性部件6，7施加紧密接合力，由上下主载体3，4夹持着从属介质2，受弹性部件6，7的作用，主载体3，4发生弹性变形，相对于从属介质2以均等的规定紧密接合压力进行紧密接合。
随后，使上下磁场施加装置5靠近夹持器10的上下面，一边旋转夹持器10，一边由磁场施加装置5沿着大致与初期磁化相反的方向施加复制用磁场。这种施加的复制用磁场，被主载体3，4的复制图形中的由与从属介质2紧密接合的磁性体形成的凸部图形所吸收，在面内记录时，该部分的初期磁化不发生反转，其他部分的初期磁化则发生反转，在垂直记录时，该部分的初期磁化发生反转，而其他部分的初期磁化则不发生反转，结果是根据主载体3，4的复制图形的磁化图形复制记录在从属介质2上。
根据本实施例，在将主载体3，4与从属介质2的两个面紧密接合时，各个主载体3，4通过弹性部件6，7，由以真空吸引方式的夹持器10均匀作用的紧密接合力形成挤压，由弹性部件6，7在允许范围内，使主载体3，4发生弹性变形，与从属介质2的接触面一致，可在整个面上形成均等的紧密接合，在从属介质2和主载体3，4之间不能产生间隙，准确地将与主载体3，4形成的复制图形相对应的磁化图形复制记录在从属介质2上。
并且，在上述夹持器10的下夹持器8中心部位，设有与从属介质2的中心插孔2b相吻合的位置确定销8b，下夹持器8和下侧主载体3的位置确定，和上夹持器9和上侧主载体4的位置确定，使其他步骤中的测定显微镜等，使两者的中心位置吻合并固定，或者分别设置位置确定机构，进行下上夹持器8，9和主载体3，4的位置确定。另外，在下夹持器8和上夹持器9之间设置位置确定机构，例如，在一方夹持器上设置未图示的位置确定销，在另一方夹持器上设置与该位置确定销吻合的位置确定穴，进行下夹持器8和上夹持器9的中心位置确定。
在上述由夹持器10形成的紧密接合构件中，保持在下夹持器8上的下侧主载体3的信息载带面(上面)和保持在夹持器9上的上侧主载体4的信息载带面(下面)的平行度偏差，设定在50μm以下，最好设定在5μm以下。
以下详细说明本发明的另一实施例。图3是本发明另一实施例的夹持器分解斜视图。图4是说明主载体间平行度偏差的图。图中对与图1和图2相同的部分不再说明。
在上述所说的“平行度的偏差”，如图4所示，是将保持在下夹持器18上的下侧主载体13，和保持在上夹持器19上的上侧主载体14相对时，例如以下侧主载体13的信息载带面作为基准面向上侧主载体14的信息载带面倾斜时离开部分的最大高度h，该值最好在50μm以下，更好在5μm以下。即，两个主载体13，14的最近距离和最远距离之差。
下夹持器18的上面(吸附面16a)和上夹持器19的下面(吸附面)的平行度偏差，同样设定在50μm以下，最好5μm以下。这是因为主载体13，14的厚度设定均匀，同时平坦性得到矫正，上述下侧主载体13和上侧主载体14的平行度偏差，实际上是夹持器20中的下夹持器18的上面和上夹持器19的下面形成的平行度。
为了确保上述平行度，要求两个主载体13，14自身的形成精度，向下夹持器18和上夹持器19安装的精度，同时，除了夹持器20的下夹持器18和上夹持器19的形成精度外，还要求其设置精度。
进而，在由上述夹持器20形成的紧密接合结构中，保持在下夹持器18上的下侧主载体13的中心位置，和保持在上夹持器19上的上侧主载体14的中心位置的偏差，设定在10μm以下。
另外，下夹持器18的上面(吸附面16a)和上夹持器19的下面(吸附面)的中心位置偏差，也设定在10μm以下。
根据本实施例，在将上下主载体13，14与从属介质12，21的两个面相对紧密接合的夹持器20形成的紧密接合结构中，相对的下侧主载体13和上侧主载体14的平行度偏差，和，下夹持器18的上面和上夹持器19的下面的平行度偏差，设定在50μm以下，最好设定在5μm以下，在主载体13，14和从属介质12，21的接触区域内，实现了由均匀紧密接合力形成的全面紧密接合，从而能防止因部分接合不良引起的信号遗漏。
在紧密接合的结构中，下侧主载体1 3的中心位置和上侧主载体14的中心位置的偏差，和，上夹持器19的下面和下夹持器18的上面的中心位置偏差，通过设定在10μm以下，除了能防止信号遗漏外，还能防止向从属介质12，21施加局部的紧密接合力，还能防止主载体13，14的边缘接触不当引起从属介质12，21表面受到损伤。
据此，即使在紧密接合不良引起信号遗漏，显著发生从属介质损伤，将主载体13，14与从属介质12，21的两个面紧密接合，同时向两个面复制中，只要通过调整平行度的偏差和中心位置的偏差在上述范围内，就能实现良好的两面磁复制。
进而，在将主载体13，14与从属介质12，21的两个面紧密接合时，通过由吸附部件16，17将各主载体13，14真空吸附在平坦度高的吸附面上，矫正并搞高了平坦性，所以能获得良好的全面紧密接合，准确地将与主载体13，14上形成的图形相对应的磁化图形复制记录在从属介质12的记录面上。
以下，对本发明另一实施例作详细说明。图5是一实施例中显示这种磁复制装置的复制状态的主要部分斜视图。图6是夹持器的截面图。各图是模式图，各部分的尺寸以与实际不同的比率示出。
图5中所示的磁复制装置30具有由下侧腔室31和上侧腔室32形成的筒体结构，图6所示，在内部形成的密闭空间26内具有如下部分，即，配置从属介质22，主载体23，弹性材料4，在使中心位置相吻合的状态下，将从属介质22和主载体23相对紧密接合的夹持器25，对夹持器25内的密闭空间26进行真空抽吸空气，使内部形成减压状态，获得紧密接合力的真空吸引装置27、和一边旋转夹持器25，一边施加复制用磁场的磁场施加装置28。
图6的情况，虽然示出了使主载体23与从属介质22的单面相对紧密接合的单面逐次复制的形态，但也可以是在从属介质22的上下分别配置主载体，与两个面相对紧密接合，两面同时进行复制。此处，所谓相对紧密接合是指接触紧密接合，空有细微间隙，相对的双方中任何一个。
夹持器25的下侧腔室31为圆盘状，具有比主载体23的外径大的圆形状的上面31a，通过吸附等将主载体23的下面保持在该上面31a的中央部分上。上侧腔室32为圆盘状，具有比从属介质22的外径大的下面32a，在该下面32a上安装片状弹性材料24，将从属介质22保持在该弹性材料24的下面。上侧腔室32相对于下侧腔室31，在上下方向上可接合脱离移动，从属介质22被挤压在主载体23上，形成相对紧密接合，从属介质22也可以设置在主载体23上。
在下侧腔室31的外周上设有向上方突出的凸缘31b，在上侧腔室32的外周上设有向下方突出的凸缘32b。设计上侧腔室32的凸缘32b外周面直径小于下侧腔室31的凸缘31b内周面直径，使上侧腔室32的凸缘32b可插入到下侧腔室31的凸缘31b内周侧中(也可以是相反的大小关系)。将O环形成的密封材料33装配在上侧腔室32的凸缘32b外周上，在使上侧腔室32向下侧腔室31侧移动时，该密封材料33与下侧腔室31的凸缘31b内周面进行滑动连接，与接合脱离移动方向(轴向)平行的面彼此形成密封，使两个腔室31，32之间形成密闭空间26。密封材料33也可以装配在下侧腔室31内。
在由上述密封材料33形成密闭空间26的状态下，设计成下侧腔室31和上侧腔室32可接合脱离移动的筒体结构。改变从属介质22、主载体23、弹性材料24的厚度，可变更从属介质22和主载体23紧密接合的高度，并能确保密闭状态。
在下侧腔室31的底面和上侧腔室32的上面，突出设置旋转轴部分31c，32c。该下侧腔室31和上侧腔室32与未图示的旋转机构相连，形成一体的旋转驱动。
另外，在下侧腔室31的凸缘部分31b的内周侧，主载体23外周部分的上面31a上开有真空吸引装置27的吸引口27a。在下侧腔室31内形成与该吸引口27a连通的空气通路27，通过旋转轴部31c引出到外部，与未图示的真空泵连接。
通过利用该真空吸引装置27以空气进行真空抽吸，将由上侧腔室32和下侧腔室31形成的密闭空间26，控制在规定的真空度。这样，可对从属介质22和主载体23设定成规定的紧密接合力。
若设定上述紧密接合压力，上述夹持器25的真空吸引区域的有效面积SV，和主载体23与从属介质22的接触面积SD，必须满足1.2≤(SV/SD)≤16.0的关系。
上述真空吸引区域的有效面积SV，图6的情况下，是下侧腔室31的凸缘部分31b向内周侧部分密闭空间26的投影面积，接触面积SD是主载体23和从属介质22的实际紧密接合的面积，设定吸引面积SV比该接触面积SD大1.2-16.0倍，可根据真空度获得规定的紧密接合力。
以下对本发明的又一实施例作详细说明。图7是本发明该实施例中，显示利用这种磁复制进行复制状态的图。图8是本发明利用面内记录进行磁复制的基本过程图，(a)是沿一定方向施加磁场对从属介质进行初期直流磁化的过程、(b)是将主载体和从属介质紧密接合，沿相反方向施加磁场的过程、(c)是显示磁复制后的状态图。各图为模式图，其厚度等以与实际尺寸不同的比率示出。图中与上述实施例中相同的部分不再进行说明。
以下对本发明的磁复制方法实施例进行说明。图9是本发明实施例中的磁复制方法的过程示意图。首先，如图9(a)所示，在磁道方向的某一方向上对从属介质52施加初期磁场Hin，对该磁记录再生层52d进行初期直流磁化。之后，如图9(b)所示，使该从属介质52的磁记录再生层52d表面和主载体53上形成凹凸图形的信息载带面，以Δh＝1nm-100nm的间隔相对，在从属介质52的磁道方向上与初期磁场Hin相反的方向施加复制磁场Hdu，进行磁复制。其结果如图9(c)所示，在磁场下，主载体53的信息载带面上凹凸图形相对应的信息(例如伺服信号)，复制记录在从属介质52的磁记录再生层52d上。图11中，为了简单，只示出了从属介质52单面的磁记录再生层52d，但是，从属介质52是在支撑体的单面或双面上具有由磁性层形成磁记录再生层的盘状介质。
在使从属介质和磁复制用主载体的凹凸图形，在间隔为Δh的状态下施加复制用磁场，所用的磁复制用主载体的具体形状如图10所示。图10(a)是主载体的上面图，图10(b)是同图(a)中I-I线的断面图。
如图10(a)所示，主载体53形成盘状，其中由虚线围绕的环形区域是向从属介质复制信息的形成凹凸图形的复制区域54。该复制区域54的内周侧和外周侧区域是非复制区域55，56，在该非复制区域55，56的一部分中形成支持用的凹凸部57，58。凸部部分57是沿着内侧非复制区域55的边缘形成的环状，凸部分58是沿着外侧非复制区域56的边缘形成的环状。
如图10(b)所示，在主载体53的内周侧非复制区域55，外周侧非复制区域56中，分别形成支持用的凸部57，58表面，分别高于凹凸图形的凸部表面，该凸部表面和凹凸图形的凸部表面的高低差Δh为1-100nm。
在图10(b)中，在主载体53上，由点横线表示的从属介质52。如图10(b)所示，使从属介质52内外周缘使用者不使用的区域与主载体53的支持用凸部57，58相接触，主载体53的凹凸图形和从属介质表面在离开的状态下，进行磁复制。因此，能抑制磁复制时凹凸图形与从属介质52发生磨擦，防止凹凸形状磨损，延长了主载体的寿命。主载体和从属介质只是凸部相接触的状态下，两者很容易脱离，从而能减少润滑剂和磁性层的剥离等。
图10所示主载体53，在其非复制区域55，56内具有环状凸部分57，58，但为了防止主载体的凹凸图形和从属介质相接触，而形成的凸部也可以是点状的、圆弧状的，可以在内周侧非复制区域，外周侧非复制区域两个区域内形成，也可以只在一个区域内形成。
另外，图11示出了另一个磁复制用主载体53’的实例。是利用磁复制向磁记录介质复制的信息为伺服信号等伺服信息的情况，这种伺服信息一般是以一定角度，记录在盘中完整规则配置的伺服区内(伺服信息是由记录的伺服区构成)。与主载体53’上的伺服区相对应的区域，在上述主载体53中所示复制区域54内，是图11中线状所示区域59。只在该区域59中形成与伺服信息相对应的凹凸图形，其他部分不载带信息，以前是形成平面状。在本磁复制用主载体53’中，形成的是，在这以前形成平面状的部位具有支持用的凸部分60，其具有的表面高于凹凸图形的凸部表面。形成该凸部60的区域与磁盘上的数据区域相对应。主载体53’的支持用凸部60与从属介质52的数据区域相接触，使主载体53’载带伺服信息的凹凸图形和从属介质52表面相离开的状态下，进行磁复制，可获得与上述情况相同的效果。在与该数据区域相对应部分具有支持用的凸部60，也可以在图10所示的内外周缘上具有支持用的凸部。
以下对上述主载体的制作进行说明，作为主载体的基板，可使用镍、硅、石英板、玻璃、铝、合金、陶瓷、合成树脂等。凹凸图形的形成可利用喷溅法，光制作法等进行。
喷溅法是在平滑表面的玻璃板(或石英板)上利用旋转涂布等形成光致抗蚀膜，一边旋转该玻璃板，一边照射与伺服信号相对应进行调变的激光(或电子束)，在整个光致抗蚀膜面上对规定的图形，例如，与各磁道上的旋转中心向半径方向线状延伸的伺服信号相当的图形，在与圆周上各框架相对应部分上进行曝光。随后，对光致抗蚀膜进行显像处理，除去曝光部分，得到具有由光致抗蚀膜形成凹凸形状的原盘。接着，对原盘表面的凹凸图形，其表面实施电镀(电铸)制作成具有阳凹凸图形的Ni基板，并从原盘上剥离下来。将该基板原样用作主载体，或者，根据需要在凹凸图形上被覆软磁性层，保护膜，用作主载体。
另外，对上述原盘实施电镀，制作成第2个原盘，使用这第2个原盘进行电镀，也可制作成具阴凹凸图形的基板，进而对第2个原盘进行电镀，或挤压上树脂液，进行固化制作成第3个原盘，对第3个原盘进行电镀，也可制作成具有阳凹凸图形的基板。
另一方面，在上述玻璃上形成由光致抗蚀膜形成的图形后，利用腐蚀，在玻璃板上形成穴，除去光致抗蚀膜得到原盘，以下和上述一样，也可形成基板。
作为由金属形成基板的材料，也可使用Ni或Ni合金，制作该基板的上述电镀，可使用包括无电解电镀、电铸、喷溅、离子镀在内的各种金属成膜法。基板上凹凸图形的深度(凸部的高度)最好为80-800nm，更好为100-600nm。该凹凸图形为伺服信号时，在半径方向上形成长形的。例如，半径方向的长度为0.3-20μm，圆周方向最好为0.2-5μm，在该范围内，半径方向一方选为长形图形，作为载带伺服信号的信息图形，最为理想。
基板由Ni等强磁性体形成时，只对该基板就可进行磁复制，若设置复制特性好的磁性层时，可进行更好的磁复制。基板为非磁性体时，必须设置磁性层。
上述磁性层(软磁性层)的形成，可利用真空蒸镀法、喷溅法、离子镀法等真空成膜装置、电镀法等，使磁性材料成膜。作为磁性层的磁性材料，可使用Co、Co合金(CoNi、CoNiZr、CoNbTaZr等)、Fe、Fe合金(FeCo、FeCoNi、FeNiMo、FeAlSi、FeAl、FeTaN)、Ni、Ni合金(NiFe)。最好是FeCo、FeCoNi。磁性层的厚度最好为50-500nm，更好为100-400nm。
最好在磁性层上设置类似金刚石的碳(DLC)等保护膜，也可设置润滑层。作为保护膜最好存在5-30nm的DLC膜和润滑层。磁性层和保护膜之间也可设置Si等紧密接合强化层。利用该保护膜可提高接触耐久性，进行更多次磁复制。
使用上述原盘制作树脂基板，也可以在其表面上设置磁性层作为主载体。作为树脂基板的树脂材料，可使用聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸树脂，聚氯乙烯、氯乙烯共聚物等氯乙烯树脂，环氧树脂，非晶型聚烯烃和聚酯等。从耐湿性、尺寸稳定性和价格等方向考虑，最好是聚碳酸酯。成形品若有毛刺时，可利用抛光或打光除去。使用紫外线固化树脂、电子线固化树脂等，可在原盘上利用旋转涂布，棒涂布法形成。树脂基板上图形凸部的高度最好为50-1000nm，更好为100-500nm。
在上述树脂基板表面的细微图形上被覆磁性层，得到主载体。磁性层的形成，可利用真空蒸镀法、喷溅法、离子镀法等真空成膜装置、电镀法等，将磁性材料成膜。
另一方面，照相化学腐蚀制作法是，例如，将光致抗蚀剂涂布在平板状基板的平滑表面上，使用与伺服信号图形相对应的光罩进行曝光、显像处理，形成与信息相对应的图形。接着，利用腐蚀工序，根据图形对基板进行腐蚀，形成相当于磁性层厚度的深穴。接着，利用真空蒸镀法、喷溅法、离子镀法等真空成膜装置、电镀法将磁性材料进行成膜，使磁性材料到达基板表面，厚度与形成穴相对应。接着用飞升法除去光致抗蚀剂，对表面进行研磨，若有毛刺时，去除，并形成平滑的表面。
在垂直记录方式时，使用和上述面内记录大致相同的主载体。在这种垂直记录时，将该从属介质磁化，在垂直方向上预先进行初期直流磁化，与主载体紧密接合，在与初期直流磁化方向略呈反向的垂直方向上施加复制用磁场，进行磁复制，这种复制用磁场被主载体的紧密接合突部磁性层所吸收，与紧密接合突部相对应的部分的垂直磁化发生反转，与凹凸图形相对应的磁化图形则记录在从属介质上。
以下对从属介质作叙述，从属介质是使用在两面或单面上形成磁记录部(磁性层)分的高密度软盘、硬盘等圆盘状磁记录介质，该磁记录部分由涂布型磁记录层或金属薄膜型磁记录层构成，作为金属薄膜型磁记录层的磁性材料，可使用Co、Co合金(CoPtCr、CoCr、CoPtCr、CoPtCrNbTa、CoCrB、CoNi等)、Fe、Fe合金(FeCo、FePt、FeCoNi)。这些磁束密度大，具有与施加磁场方向同方向(形成面内记录的面内方向、形成垂直记录的垂直方向)的各向异性的磁性，可进行清晰的复制，最为理想。同样，在磁性材料之下(支撑体侧)，为了附加必要的各向异性的磁性，最好设置非磁性的衬底层。结晶结构和晶格常数必须与磁性层一致。为此，可使用Cr、CrTi、CoCr、CrTa、CrMo、NiAl、Ru等。
另外，制作原盘时，在与主载体基板的非复制区域相对应的部位，形成比凹凸图形的沟深的沟，若使用这种原盘，很容易获得具有凸部表面高于凹凸图形凸部表面的基板。
另一方面，使用如上述不具有支持用凸部的以前的主载体，例如，使主载体面和从属介质面相对，作为支撑的夹持器使用了可支撑的，使主载体的凹凸图形和从属介质表面的间距保持在1-100nm，也可进行磁复制。
以下对根据上述实施例进行磁性复制的从属介质复制信号和主载体的耐久性研究结果进行说明。
准备复制图形反转间距分别为0.1、0.3和0.5μm的主载体，使用各个主载体，在将主载体和从属介质之间的间距(从主载体凹凸图形凸部表面到从属介质表面的距离)Δh取为0、1、20、40、80、100、120、150nm的状态下，分别进行磁复制。在各条件下进行磁复制的各从属介质的复制信号，利用MR(磁阻效果)磁头进行C/N测定。此处，用光谱分析仪对读取信号进行频率分析，测定1次信号的峰强度(c)和外插的介质噪音(N)之比C/N。主载体和从属介质完全紧密接合时，两者间的间距为0时的C/N值，取为0dB，求出改变间距时的相对值ΔC/N(dB)，结果示于表1。
表1
从表1所示可知，与主载体的凹凸图形和从属介质的间距Δh存在着依赖结果，Δh增大，C/N反而减小。根据实验结果，主载体和从属介质的间距超过100nm时，复制精度降低增大，没有耐实用性。
另一方面，为研究主载体的耐久性和从属介质上损伤发生情况，准备在同一条件下制造的数个主载体，将主载体和从属介质的间距分别取为0、1、20、40、80、100、120、150nm，进行数次磁复制，结果示于表2。
表2
如表2所示可知将主载体和从属介质紧密接合进行磁复制时，主载体使用100次出现缺陷，不能再使用，另一方面，使主载体和从属介质形成间距，可复制1000次以上。
当将主载体和从属介质紧密接合进行磁复制时，从属介质上产生损伤，但以一定间距进行磁复制时，从属介质不产生损伤。
从以上结果可知，磁复制时，主载体和从属介质的离开间距为1-100nm，比较适宜。
以下对变更上述各实施例中弹性材料和紧密接合条件等各种条件进行磁复制实施例的评价实验进行说明。
(主载体的制作)
在主载体制作中使用了喷溅法。在主载体上，从中心到半径方向20-40mm位置的位长0.5μm、磁道宽度10μm、磁道间隔12μm的凹凸图形。
在Ni基板上，作为软磁性层，形成FeCo 30at％层。膜厚取为200nm，Ar溅射压取为1.5×10-4Pa(1.08m Torr)，设入电子为2.80W/cm2。
(从属介质的制作)
在真空成膜装置(芝蒲机电社S-50S溅射装置)中，室温下，减压到1.33×10-5Pa(10-7Torr)后，通入氩气，在0.4Pa(3×10-3Torr)的条件下，将铝板加热到200℃，制作成CrTi 60nm、CoCrPt 25nm、磁束密度MS5.7 T(4500 Gruss)、保磁力Hcs199KA/m(2500 Oe)的3.5英寸型圆盘状磁记录介质(硬盘)，用作从属介质。
(磁复制试验方法)
使用峰磁场强度达到398KA/m(5000 Oe从属介质保磁力Hcs的2倍)的电磁铁装置，对从属介质进行初期直流磁化。接着，将初期直流磁化的从属介质和主载体紧密接合，使用电磁铁装置，施加199KA/m(2500 Oe)的复制用磁场，进行磁复制。在主载体和从属介质紧密接合时，在夹持器和主载体之间装配下表3所示特性的弹性材料。其他的紧密接合条件也列于表3。
(弹性材料尘埃量的测定方法)
将弹性材料在Si片上滚动50次后，将Si片表面以50倍放大率进行观察，随意100处，确认尘埃物的位置，使用微分干涉显微镜观察各尘埃体的大小，统计出0.3μm以上的尘埃数。由尘埃数和观察面积计算出尘埃体的面积密度。
(信号遗漏·紧密接合评价方法)
将稀释10倍的磁显像液(西格马高化学社制σ-che-Q)滴加在进行磁复制的从属介质上，干燥，评价显像的磁复制信号端的变动量。用微分干涉型显微镜以50倍放大率，随意观测100处从属介质上存在的信号遗漏，评价该100处中信号遗漏在5处以下为好(○)，5-10处为可以(△)，11处以上为不好(×)，结果示于表3。
(耐久性测定)
将主载体和从属介质重复1000次接触剥离时，用微分干涉显微镜以480倍放大率对主载体表面随意观测50处。在这50处中，磁性层磨损，龟裂处在2处以下为好(○)，3-5处为可以(△)，6处以上为不好(×)，结果示于表3。
表权利要求
1.一种磁复制装置，是在将载带复制信息的主载体和接受复制的从属介质相对紧密接合装入夹持器内后，施加复制用磁场进行复制，其特征在于，
在上述夹持器和主载体之间装配有具有弹性特性的材料。
2.根据权利要求1所述的磁复制装置，其特征在于所述具有弹性特性的材料的杨氏模量为5.0×10-5以上，3.0×10-2Pa以下。
3.根据权利要求1所述的磁复制装置，其特征在于所述具有弹性特性的材料的厚度为0.1mm以上，1.0mm以下。
4.根据权利要求1所述的磁复制装置，其特征在于所述夹持器与所述从属介质之间所加装的、所述具有弹性特性的材料的表面的0.5μm以上粒子的尘埃量为0个/cm2。
5.根据权利要求1所述的磁复制装置，其特征在于所述夹持器与所述从属介质之间所加装的、所述具有弹性特性的材料的表面的0.3μm以上及0.5μm以下粒子的尘埃量为5个/cm2以下。
6.一种磁复制装置，其特征在于是具有将载带复制信息的主载体、接受复制的从属介质相对紧密接合装入密闭空间的夹持器、对该夹持器的密闭空间进行真空吸引，使从属介质和主载体获得紧密接合力的真空吸引装置、和施加复制用磁场的磁场施加装置，上述夹持器的真空吸引区域有效面积SV、和主载体与从属介质的接触面积SD，必须满足如下关系，
1.2≤(SV/SD)≤16.0。
7.一种磁复制装置，是在将载带复制信息的主载体和接受复制的从属介质相对紧密接合装入夹持器内后，施加复制用磁场进行复制，其特征在于在施加所述复制用磁场时的所述主载体与所述从属介质之间的间隔为1-100nm。
全文摘要
一种磁复制装置，是在将载带复制信息的主载体(3、4)和接受复制的从属介质(2)相对紧密接合装入夹持器(10)内后，利用磁场施加装置(5)施加复制磁场，进行磁复制的装置，在夹持器(10)和主载体(3、4)之间装配具有弹性特性的材料(6、7)，允许主载体(3、4)产生微小弹性变形，提高与从属介质(2)的紧密接合性。这种磁复制装置在将载带复制信息的主载体和接受复制的从属介质相对紧密接合装入夹持器内时，均匀无间隙紧密接合，准确进行无信息遗漏等的磁复制。
文档编号G11B17/00GK1393854SQ0212263
公开日2003年1月29日 申请日期2002年6月19日 优先权日2001年6月21日
发明者西川正一, 新妻一弘 申请人:富士胶片株式会社