专利名称：磁复制用主载体的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种载置有磁复制在从属介质上的复制信息的磁复制用主载体。
背景技术：
在磁记录介质中，通常，随着信息量的增加，希望有记录许多信息的大容量、廉价并且最好在短时间内可读出所需部位的所谓可高速存取的介质。作为这样的一个实例，已知在硬盘装置或软盘装置中使用的高密度磁记录介质(磁盘介质)，为了实现其大容量化，磁头准确地扫描狭窄的磁道宽度，用高的S/N比再生信号的所谓跟踪伺服技术发挥了很大的作用。为了进行这种跟踪伺服，在磁盘中，以某种间隔记录跟踪用的伺服信号、地址信息信号、再生时钟信号等作为所谓的预格式化。
作为准确而有效地进行这种预格式化的方法，将主载体载置的伺服信号等信息磁复制在磁记录介质上的磁复制方法已在特开昭63-183623号公报、特开平10-40544号公报、特开平10-269566号公报等中公开。
这种磁复制通过准备具有与要复制到磁盘介质等磁记录介质(从属介质)上的信息相对应的、由表面有磁性层的多个凸部构成的图形的主载体，在将该主载体与从属介质密合的状态下，施加复制用磁场，从而将与主载体的凸部图形载置的信息(例如伺服信号)相对应的磁性图形复制到从属介质上，从而可使主载体与从属介质的相对位置不变化地进行静音记录，可准确地进行预格式化记录，并且具有记录所需时间非常短的优点。
磁复制中使用的主载体通过在硅基板、玻璃基板等上进行照相化学腐蚀制造法、溅射、蚀刻等处理，形成磁性体的凹凸图形而成。
另外，认为可以应用在半导体等中使用的平版印刷技术或者制造光盘刻印机中使用的刻印制作技术，制作磁复制用主载体。
为了提高上述磁复制中的复制品质，如何使主载体与从属介质无间隙地密合成为重要的课题。也就是说，如果密合不良，会产生未进行磁复制的区域，一旦没有进行磁复制，则在复制到从属介质上的磁信息中会发生信号遗漏，信号质量下降，记录的信号为伺服信号时，存在不能充分获得跟踪功能，可靠性下降的问题。
另外，在上述磁复制中，为了由平坦的主载体以从单侧或两侧夹持地方式压接从属介质，并使之密合，必须以高标准除去尘埃。这是因为在密合部，如果存在尘埃，则不仅不能稳定地进行磁复制，也会存在损伤主载体或从属介质的可能性。
另外，在磁复制中，为了对主载体和从属介质施加较强的压力，实现全面密合，反复进行多次磁复制，密合次数增多时，则通过该工序，在基板上制作的软磁性层剥落，其存在于密合部，复制信号质量降低，同时，成为主载体的耐久性劣化的主要原因。
作为主载体的磁性层发生剥离等的原因，例如磁性层与从属介质的磁性层、保护层、润滑剂层的化学亲和力大、磁性层自身对外力脆等。即，使主载体与从属介质密合，进行磁复制后，与该从属介质剥离之际，作为密合部的主载体的磁性层与从属介质的润滑剂层、保护层、磁性层间的化学亲和力大，因此在主载体的磁性层上施加与基板侧相反的力，反复进行该操作，会产生剥离，另外，反复使用中，主载体因承受冲击等外力，磁性层也会产生局部剥离或脱落。
作为减少主载体的磁性层剥离等的方法，在特开2000-195048公报或特开2001-14665公报等中公开了在主载体的磁性层表面设置DLC膜(类金刚石碳膜，diamond like carbon)的方法，或者再在成为与从属介质的接触面的最上层设置润滑剂层的方法等。通过设置DLC膜或润滑剂层，能够在某种程度上减少主载体的磁性层的剥离等，不言而喻，充分提高了耐久性，磁性层的剥离等并不是变得完全没有。另外，以往的磁性层多由于因剥离等导致的剥离物等的尺寸变大，一旦产生剥离，由于这种剥离物等，发生复制不良，复制性能降低。
另外，在磁性层剥离等的场所遍布范围较宽时，复制信号的脱落量超过容许范围，主载体变得不能使用。该主载体为昂贵的主载体，用1块主载体可以在几块从属介质上进行复制，这对于抑制制造成本非常重要。
另一方面，即使在磁性层剥离等情况下，剥离等的场所小，剥离物、脱落物的尺寸小的情况下，对复制信号的欠缺、密合性不良导致的复制不良等的影响也小，因而与复制品质的降低无关，即使作为主载体也认为可继续使用。
发明内容
本发明鉴于上述事实，其目的在于提供一种耐久性提高并且抑制了复制不良的磁复制用主载体。
本发明的磁复制用主载体在形成于基板上的图形上设有软磁性层，其特征在于，所述基板与软磁性层的附着力为1×109N/m2以上，同时，所述基板的软磁性层侧表面的氧元素浓度Do随着离开表面的距离加大而变少，相对于图形形成深度部位的氧元素浓度Dh，成为Do＞Dh的关系。
优选对所述基板的软磁性层侧表面实施氧化处理，软磁性层侧表面的氧元素浓度Do与图形形成深度部位中的氧元素浓度Dh之比Dh/Do在0.05以上0.8以下的范围。另外，优选从基板表面到图形形成深度部位的沿深度方向的平均氧元素浓度为15at％以下。
基板与软磁性层的附着力为1×109N/m2以上时，即使反复进行磁复制时的密合，软磁性层也不会剥落。研究各种材料的结果可知，对于提高密合力，陶瓷材料非常有效。但是，陶瓷材料具有非常大的内部应力。如果在基板上设置陶瓷层，则软磁性层与陶瓷层的密合提高，但在陶瓷层与基板表面之间由于陶瓷层的内部应力，存在发生膜剥落的可能性。为了提高该陶瓷层与基板的密合，通过氧化处理基板表面自身，形成同结晶系的氧化物，可大幅度改善密合力，另外，通过提高基板表面的氧元素浓度，可使陶瓷膜厚变薄，不会发生因内部应力导致的膜剥落。
一种磁复制用主载体，在基板上设有至少表面有磁性层的多个凸部构成的图形而成，其特征在于，所述磁性层至少在表面有氧化、氮化和/或碳化的部分。
“……有氧化、氮化和/或碳化的部分”的意思为，可以同时具有氧化的部分、氮化的部分、碳化的部分，也可以只有这些中的任意一种，或者也可以组合具有任意两种。
磁性层优选不仅具有表面，而且遍布整个区域具有氮化、氧化和/或碳化的部分。
另外，所述磁性层的表面侧的氧化、氮化和/或碳化量比所述磁性层的所述基板侧的氧化、氮化和/或碳化量大，即，希望软磁性层的表面侧的氧元素、氮元素和/或碳元素浓度比基板侧的氧元素、氮元素和/或碳元素浓度大，此时，也使表面侧的氧化、氮化和/或碳化量比磁性层全体的氧化、氮化和/或碳化量的平均值大。
此外，所述氧化、氮化和/或碳化部分的氧元素、氮元素和/或碳元素的总量相对于所述软磁性层的所有元素量为0.5～40at％，优选为1～30at％。
如果采用如上所述的本发明的主载体，基板与软磁性层的附着力高，并且，基板的软磁性层侧表面的氧元素浓度在表面高，在内部低，从而与磁复制对应，即使主载体与从属介质在强压力下反复进行全面密合，软磁性层也不会剥落，不会发生因存在破损片的复制不良引起的记录信号遗漏，可抑制复制信号质量的下降，同时，可提高主载体的耐久性，增大复制次数。
另外，在基板与软磁性层之间存在陶瓷层提高密合力之际，也氧化处理基板表面自身，形成同结晶系的氧化物，提高表面部分的氧元素浓度，从而可使陶瓷膜厚变薄，防止内部应力导致的膜剥落。
另外，主载体由在表面有磁性层的多个凸部构成的图形的该磁性层至少在表面有氧化、氮化和/或碳化的部分，则与作为从属介质的磁记录介质的润滑剂层、保护层、磁性层表面的化学亲和力与以往的相比变小。
该氧化、氮化和/或碳化的部分与没有氧化等的磁性层相比，变得强韧，通过在磁性层上具有局部或全部进行了这种氧化等的部分，磁性层骨架自身与以往的相比，变得强韧，因而对外力的耐性高。
另外，即使一部分发生剥离、脱落等，由来源于氧化、氮化和/或碳化的磁性层的剥离物、脱落物的凝聚性小，其尺寸也小，从而不会影响复制品质。即，来自以往的磁性层的剥离物尺寸大，因而产生复制品质显著劣化，但来自本发明主载体磁性层的剥离物的尺寸小，因而可抑制复制品质的劣化。
另外，通过上述效果，可提高磁复制用主载体的耐久性，延长寿命，结果，可抑制磁复制后磁记录介质的制造成本。
使所述磁性层的表面侧的氧化、氮化和/或碳化量比所述磁性层的所述基板侧的氧化、氮化和/或碳化量大，则可有效地实现抑制磁性层全体的氧化、氮化和/或碳化量，同时，表面的耐性提高，与从属介质的润滑剂层、保护层、磁性层的化学亲和力降低。
另外，使所述氧化、氮化和/或碳化部分的氧元素、氮元素和/或碳元素总量相对于所述软磁性层的所有元素量在0.5～40at％的范围内，则可充分获得上述效果，并且，可成为不会对磁特性产生不良影响的磁性层。
图1是表示使用本发明一实施方式的主载体的磁复制方法的工序的图。
图2是另一实施方式的主载体的主要部分的剖视图。
图3是又一实施方式的主载体的主要部分的剖视图。
其中，2-从属介质，2-磁记录介质(从属介质)，2a-支持体，2b-磁性层(记录再生层)，3，4，10-磁复制用主载体，11-基板，12-软磁性层，15-表面有软磁性层的凸部，31，41-基板，32，42-软磁性层，43-陶瓷层。
具体实施例方式
下面，详细说明本发明的实施方式。图1是表示使用本发明一实施方式的主载体的磁复制方法的工序的图。另外，图1所示的方式为面内记录方式。另外，视图为模式图，各部的尺寸以与实际不同的比率示出。
面内记录的磁复制方法的概要如下所述。首先，如图1(a)所示，最初，在具有基板2a和磁性层(磁记录面)2b的从属介质2上沿磁道方向的一个方向施加初期静磁场Hin，预先进行初期磁化。之后，如图1(b)所示，将该从属介质2的磁记录面与在主载体3的基板31的微细凹凸图形上覆盖软磁性层32而成的信息载置面的凸部图形32a的顶面密合，在从属介质2的磁道方向上，沿与前述初期磁场Hin相反方向施加复制用磁场Hdu，进行磁复制。复制用磁场Hdu吸入至凸部图形32a的软磁性层32，该部分的磁化不颠倒，其他部分的磁场颠倒，结果，如图1(c)所示，在从属介质2的磁道上，复制记录有与主载体3的信息载置面的软磁性层32的密合凸部图形32a和凹部空间形成的图形相对应的磁化图形。
主载体3形成圆盘状，在其单面具有复制信息载置面，该载置面形成与伺服信号相对应的由软磁性层32引起的微细凹凸图形，在与其相反侧的面上保持图中未示出的夹具，与从属介质2密合。图1只示出从属介质2的单面2b，但作为从属介质2，可以是在基板2a的两面均有磁性层的介质，此时有在每个单面密合主载体，对单面逐次进行复制的情况，和在从属介质2的两面分别密合主载体，对两面同时进行复制的情况。
在上述主载体3中，基板31和软磁性层32的附着力在1×109N/m2以上。另外，对该基板31的表面部分实施氧化处理，相对于基板31的软磁性层侧表面(凹凸图形的凸部顶面)中的氧元素浓度Do，从表面朝底面方向的距离逐渐增大，氧元素浓度降低，图形形成深度部位h(凹凸图形的凹部底面高度)中的氧元素浓度Dh为Do＞Dh的关系。此时，软磁性层侧表面的氧元素浓度Do与图形形成深度部位h处的氧元素浓度Dh之比，Dh/Do在0.05以上0.8以下的范围内。另外，处理成从基板31的表面到图形形成深度部位h的沿深度方向的平均氧元素浓度为15at％以下。
作为上述氧化处理，可采用离子注入法、其他干式加工或湿式加工的氧化方法，例如，轻度反溅射基板3 1的表面后，在高浓度的臭氧环境下暴露一定时间，从而部分氧化接近表面的部分。
通过主载体3的基板31表面部分的氧化，氧元素浓度变高，从而提高了与软磁性层32的密合性，基板31与软磁性层32的附着力达到1×109N/m2以上，即使反复进行磁复制，软磁性层32也不会脱落，不会成为产生灰尘的主要原因，可确保复制信号质量，同时，提高主载体3的耐久性。
另外，上述主载体3的基板31的凹凸图形即使为与图1的阳型图形相反凹凸形状的阴型图形时，通过使初期磁场Hin的方向和复制用磁场Hdu的方向与上述方向相反，也可复制记录同样的磁性图形。
另外，优选在软磁性层32上设有类金刚石碳(DLC)等保护膜，也可设有润滑剂层。另外，作为保护膜，更优选存在5～30nm的DLC膜和润滑剂层。另外，在软磁性层32与保护膜之间，可设有Si等的密合强化层。润滑剂用于改善补正与从属介质2接触过程中产生的错位时，因摩擦产生的损伤等导致的耐久性劣化。
作为主载体3的基板31，使用镍、硅、铝、合金等。通过刻印法等形成凹凸图形。
刻印法在表面平滑的玻璃板(或石英板)上通过旋转涂覆等形成光致抗蚀剂，使该玻璃板旋转的同时，与伺服信号相对应，照射调制的激光(或电子束)，在光致抗蚀剂整个面上，在与圆周上的各构架相对应的部分露光规定的图形，例如相当于伺服信号的图形。之后，显影处理光致抗蚀剂，除去露光部分，得到具有光致抗蚀剂凹凸形状的原盘。接着，以原盘表面的凹凸图形为基础，对该表面实施电镀(电铸)，制成有阳型状凹凸图形的Ni基板，从原盘上剥离。对该基板实施氧化处理后，在凹凸图形上覆盖软磁性层、保护膜，制成主载体。
另外，对前述原盘实施电镀，作成第2原盘，使用该第2原盘，实施电镀，可制成具有阴型状凹凸图形的基板。而且，对第2原盘实施电镀，或推压树脂液，进行硬化，作成第3原盘，对第3原盘实施电镀，可制成有阳型状凹凸图形的基板。
另一方面，在前述玻璃板上形成光致抗蚀剂的图形后，进行蚀刻，在玻璃板上形成孔，得到除去了光致抗蚀剂的原盘，以下与前述同样可形成基板。
基板31的凹凸图形的深度(突起高度)优选在80nm～800nm的范围内，更优选100nm～600nm。
前述软磁性层32的形成可通过真空蒸镀法、溅射法、离子镀法等真空成膜方法、电镀法等使磁性材料成膜。作为这种磁性材料，可使用Co、Co合金(CoNi、CoNiZr、CoNbTaZr等)，Fe、Fe合金(FeCo、FeCoNi、FeNiMo、FeAlSi、FeAl、FeTaN)，Ni、Ni合金(NiFe)。特别优选FeCo、FeCoNi。软磁性层32的厚度优选在50nm～500nm的范围内，更优选100nm～400nm。
在垂直记录方式的场合也可使用与上述面内记录基本同样的主载体3。这种垂直记录的场合，预先在垂直方向的一方向上将从属介质2初期直流磁化，与主载体3密合，并且在与该初期直流磁化方向大致反向的垂直方向上施加复制用磁场，实施磁复制，该磁复制用磁场被吸入主载体3的凸部图形32a的软磁性层32，与凸部图形32a相对应部分的垂直磁化颠倒，与凹凸图形相对应的磁化图形可记录于从属介质2上。
施加初期磁场和复制用磁场的磁场生成装置，在面内记录时，例如，在具有沿从属介质2半径方向延伸的间隙的铁芯上卷绕线圈的环型电磁铁装置设置在上下两侧，在上下相同的方向上，施加与磁道方向平行产生的复制用磁场。施加磁场时，使从属介质2与主载体3的密合体旋转的同时，由磁场生成装置施加复制用磁场。也可设置成使磁场生成装置旋转移动。前述磁场生成装置可只设置在单侧，也可将永久磁铁装置设置在两侧或单侧。
垂直记录时的磁场生成装置将极性不同的电磁铁或永久磁铁设置在从属介质2与主载体3的密合体的上下，在垂直方向产生、施加磁场。部分施加磁场时，使从属介质2与主载体3的密合体移动，或使磁场移动，以实现全面的磁复制。
接着，图2为另一实施方式的主载体的剖视图。在该实施方式中，在主载体4的基板41上，预先在凹凸形状的图形上覆盖薄的陶瓷层43，在其上层压软磁性层42。
在图示的场合，上述陶瓷层43和软磁性层42通过溅射等形成规定厚度的膜，在基板41的凹凸图形的凸部顶面与凹部底面上层压成膜。为了提高陶瓷层43和软磁性层42的附着力，提高陶瓷层43和基板41(基材)表面的附着力，对基板41(基材)的表面实施与前述同样的氧化处理，使表面部分氧化，或形成与陶瓷层43同结晶系的氧化物。
由此，基板41的陶瓷层43与软磁性层42的附着力以及陶瓷层43与基板41(基材)的附着力达到1×109N/m2以上。另外，相对于包含陶瓷层43的基板41的软磁性层侧表面(凸部顶面)中的氧元素浓度Do，随着从表面向底面方向的距离的增大，氧元素浓度降低，图形形成深度部位h(凹部底面高度)处的氧元素浓度Dh为Do＞Dh的关系。此时，软磁性层侧表面的氧元素浓度Do与图形形成深度部位h处的氧元素浓度Dh之比，Dh/Do在0.05以上0.8以下的范围内。而且，从基板41的表面到图形形成深度部位h的沿深度方向的平均氧元素浓度在15at％以下。
通过上述陶瓷层43可提高与软磁性层42的密合力。另一方面，陶瓷层43具有较大的内部应力，由此，在陶瓷层43与基板41(基材)之间存在发生膜剥离的可能性，但通过对基板41表面自身进行氧化处理，形成同结晶系的氧化物，可大幅度地提高密合力。另外，通过提高基板41表面的氧元素浓度，可使陶瓷层43的膜厚变薄，进而能够防止内部应力引起的膜剥离。
接着，图3为又一实施方式的主载体的剖视图。在该实施方式中，主载体10如图3(a)所示，具有表面有与要复制的信息(例如伺服信号)相对应的凸部图形的基板11，以及形成于该基板11的凸部图形的凸部11a上面和凹部11b上面的软磁性层12。通过在基板11的凸部图形上形成软磁性层12，结果，主载体10成为具备由表面有软磁性层的多个凸部15构成的图形的主载体。另外，主载体10的构成并不限于本实施方式的构成，软磁性层也可以只在基板的凸部图形的凸部11a上面形成。而且，在平面状的基板表面上图形状地形成了由软磁性层构成的凸部的凸部自身可由磁性层构成。
该软磁性层12部分氧化、氮化和/或碳化，该氧化、氮化和/或碳化量形成为从表面侧向基板侧慢慢变小。在此，作为一例，软磁性层12为只进行了氧化的物质。
图3(b)示出软磁性层的膜厚方向中的氧化量分布，示出主载体的局部放大图，使主载体10的软磁性层12的膜厚方向为横轴。如图所示，软磁性层12的表面侧的氧元素量Ds比基板侧的氧元素量Dm大，氧元素量从表面侧向基板侧慢慢变小。另外，相对于软磁性层的所有元素，全部氧元素量优选在0.5at％～40at％的范围内，更优选1at％～30at％。在软磁性层12不只有氧化，还有氮化、碳化部分的情况下，使氧元素量、氮元素量和碳元素量的总和量相对于软磁性层的所有元素在前述范围内。
在具有凸部图形的基板11上形成软磁性层12，可通过将磁性材料进行真空蒸镀法、溅射法、离子镀法等真空成膜方法而成。通过在该软磁性层12的成膜过程中导入反应气体，可制成有氧化、氮化和/或碳化部分的软磁性层。例如，在溅射成膜时，使用在Ar中添加了氧化性气体(例如氧)的气体进行反应性溅射，从而可使有氧化部分的软磁性层成膜。为了使之氮化，可使用在Ar中添加了氮气的气体，为了使之碳化，可使用在Ar中添加了甲烷等烃的气体。另外，通过调整成膜过程中的气体流量，在软磁性层的膜厚方向可容易地分布氧元素量。
或者，也可以不用反应气体，通过通常的方法在成膜软磁性层后，进行部分氧化、氮化和/或碳化。此时，以离子注入法为主，可用干式或湿式的氧化、氮化、碳化方法。例如，轻度反溅射形成溅射成膜后的软磁性层表面并进行清洗后，在高浓度臭氧环境下暴露一定时间，从而能够容易地使接近表面处(例如距离表面10～30nm的区域)部分氧化。此外，也可以将采用反应性溅射的成膜与成膜后的氧化、氮化、碳化处理组合进行。
采用软磁性层被氧化、氮化和/或碳化的本实施方式的磁复制用主载体，构成凸部的软磁性层与以往的相比变得强韧，因而耐冲击等外力，与从属介质的磁性层的化学亲和力小，因而可抑制与从属介质的密合剥离时的软磁性层的剥离，相对于多个磁记录介质，可在以往以上地反复使用。并且，假如即使凸部表面的软磁性层发生剥离等，其剥离物等的碎片小，因而可不对复制品质产生不良影响地进行使用。如此，可提高磁复制用主载体的耐久性，延长寿命。结果，可抑制磁复制后的磁记录介质的制造成本。
实施例下面，使用本发明的磁复制用主载体的实施例，说明反复进行磁复制后进行耐久性实验的结果。
首先，对作为实施例使用的主载体的制作进行说明。
作为实施例的主载体基板，使用通过刻印制作法制作的Ni基板。具体地说，使用通过平版印刷术在距离圆盘中心沿半径方向为20～40mm的范围内，位长度为0.5μm、磁道宽度为10μm、磁道间距为12μm的圆盘状Ni基板。
基板表面的氧化处理通过暴露在Ni基板的表面氧等离子体中而进行。在此，使用氩气与氧气的混合气体，对于溅射压力，氩气、氧气一起设定为1.16Pa(8.7mTorr)。
之后，在表面处理后的基板上，在25℃下形成软磁性层FeCo30at％层。软磁性层的膜厚为200nm，采用溅射形成时的Ar溅射压力为1.5×10-1Pa(1.08mTorr)。
实施例1～3和比较例1、2分别在前述基板表面的氧化处理中，通过改变暴露时间等进行制作，使表面的氧元素浓度Do与图形形成深度部位中的氧元素浓度Dh的关系，以及从基板表面到图形形成深度部位的沿深度方向的平均氧元素浓度(at％)不同。
实施例1的主载体为下述主载体，即对基板进行表面处理，使表面氧元素浓度与图形形成部位中的氧元素浓度之比Dh/Do为0.05，即Do＞Dh，并且平均氧元素浓度为3at％，在该基板上形成软磁性层，使该基板与设置在其上层上的软磁性层的附着力为1.2×109N/m2。
实施例2的主载体为下述主载体，即对基板进行表面处理，使Dh/Do为0.7，即Do＞Dh，并且平均氧元素浓度为10at％，在该基板上形成软磁性层，使该基板与设置在其上层上的软磁性层的附着力为1.2×109N/m2。
实施例3的主载体为下述主载体，即对基板进行表面处理，使Dh/Do为0.7，即Do＞Dh，并且平均氧元素浓度为17at％，在该基板上形成软磁性层，使该基板与设置在其上层上的软磁性层的附着力为1.2×109N/m2。
比较例1的主载体为下述主载体，即使用与实施例1的主载体同样的基板，形成软磁性层，使该基板与设置在其上层上的软磁性层的附着力为8.8×108N/m2。
比较例2的主载体为下述主载体，即对基板进行表面处理，使Dh/Do为1，即Do＝Dh，并且平均氧元素浓度为100at％，在该基板上形成软磁性层，使该基板与设置在其上层上的软磁性层的附着力为1.2×109N/m2。
另外，作为从属介质，通过真空成膜装置(芝浦MecatronicsS-50S溅射装置)，在室温下减压到1.33×10-5Pa(10-7Torr)后，导入氩气，在0.4Pa(3×10-3Torr)的条件下，将铝板加热到200℃，依次层压CrTi60nm、CoCrPt25nm，制作饱和磁化Ms5.7T(4700Gauss)、顽磁力Hcs199KA/m(25000e)的3.5英寸型圆盘状磁记录介质，进行使用。
使用电磁铁装置，使峰值磁场强度为398KA/m(50000e从属介质顽磁力Hcs的2倍)，进行从属介质的初期直流磁化，接着，将初期直流磁化了的从属介质与磁复制用主载体密合，使用电磁铁装置，施加199KA/m(25000e)的磁场，进行磁复制。
作为耐久性的评价方法，使主载体与从属介质的接触压力为0.49MPa(5.0kgf/cm2)，反复进行1000次接触、剥离后，用微分干涉型显微镜在480倍的放大率下随机观察主载体表面50视野。该50视野中，磁性层的磨损、龟裂场所如在2处以下，评价为可实现良好磁复制的状态(○)，如为3处～5处，则为可磁复制的状态(△)，如在5处以上，则为磁复制精度不良的状态(×)。
使用各实施例和比较例的主载体，进行对上述从属介质的磁复制，进行耐久性评价。其结果如表1所示。
表1
如表1所示，如实施例1～3那样，满足Do＞Dh、基板与软磁性层的附着力为1.0×10-9N/m2以上的本发明主载体的条件的主载体，在1000次磁复制后，也维持可使用的状态，特别是，平均氧元素浓度分别为3at％、10at％的实施例1、2，磁性层的摩擦、龟裂场所非常少，为0或1，作为主载体可维持良好的状况。另一方面，比较例1、2为不满足本发明条件的主载体，在进行1000次磁复制后，磨损、龟裂场所为8处、12处，与实施例1～3比较，磨损、龟裂的场所大量出现。
权利要求
1.一种磁复制用主载体，在基板上设有由至少表面有磁性层的多个凸部构成的图形，其特征在于，所述磁性层至少表面具有氧化、氮化和/或碳化的部分。
2.按照权利要求1所述的磁复制用主载体，其特征在于，所述磁性层遍布整个区域具有氮化、氧化和/或碳化的部分。
3.按照权利要求2所述的磁复制用主载体，其特征在于，所述磁性层的表面侧的氧化、氮化和/或碳化量比所述磁性层的所述基板侧的氧化、氮化和/或碳化量大。
4.按照权利要求3所述的磁复制用主载体，其特征在于，所述磁性层的表面侧的氧化、氮化和/或碳化量比所述磁性层全部的氧化、氮化和/或碳化量的平均值大。
5.按照权利要求1所述的磁复制用主载体，其特征在于，所述氧化、氮化和/或碳化部分的氧元素、氮元素和/或碳元素的总量相对于所述磁性层的所有元素量为0.5at％以上，40at％以下。
6.按照权利要求5所述的磁复制用主载体，其特征在于，所述氧化、氮化和/或碳化部分的氧元素、氮元素和/或碳元素的总量相对于所述磁性层的所有元素量为1at％以上，30at％以下。
全文摘要
本发明涉及一种磁复制用主载体，使主载体与从属介质密合，施加复制用磁场进行磁复制时，增大设置在主载体中基板的图形表面上的软磁性层的附着力，防止该软磁性层的脱落，提高耐久性并抑制复制不良。主载体3在形成于基板31上的图形上具有软磁性层32，基板31与软磁性层32的附着力为1×10
文档编号G11B5/86GK1652210SQ20051000788
公开日2005年8月10日 申请日期2002年6月25日 优先权日2001年6月25日
发明者西川正一, 安永正 申请人:富士胶片株式会社