专利名称：有机电激发光显示器的制造方法
技术领域：
本发明涉及一种有机电激发光显示器的制造方法。
背景技术：
随着科学技术的飞速发展，人们对显示器的要求越来越高，使 得显示器向更轻、更薄、更省电方向发展，因而产生了有机电激发
光显示器(Organic Lighting Emitting Display, OLED)。因有机电激发
光显示器是自发光显示，相较于液晶显示器，无需能耗较大的背光 模块，且具有视角宽、响应速度快和成本低等优点，因此得到了广 泛应用。
有机电激发光显示器通常包括电子注入层、电子传输层、发光 层、电洞传输层和电洞注入层等多层薄膜结构，该多层薄膜结构采 用成膜方法形成。业界主要包括两种成膜方法。 一种是喷墨(Ink-jet Printing)方法，即将喷头充满待镀液态材料，通过加热产生气泡或 其它方法挤压该液态材料，将其喷到欲镀膜的基底表面上形成 一 层 薄膜。另一种方法是真空蒸镀法，即在真空条件下对蒸镀材料进行 加热，使其熔融、蒸发而后通过喷头均匀沉积在欲镀膜的基底上， 冷却后在该基底表面形成一层薄膜。
请参阅图1，是一种现有技术喷墨装置的示意图。该喷墨装置 10包括一喷墨单元12和一与该喷墨单元12相对设置的基座13。该 喷墨单元12与该基座13设置在一真空空腔11中。该喷墨单元12 包括一喷墨头121和多个喷墨孔1211。该基座13用于放置需被喷 墨的基板14。喷墨单元12的大小和形状随着所需印刷的图案大小 和所填装的材料性质例如溶液浓度、墨滴大小等有所不同。所使用 的对准方式也随着图案所需的精确度而改变，例如机械对准的对准 精度在50微米以上，而光学对准的对准精度在1微米以上。该喷墨 装置10的移动方式可以采取该喷墨单元12固定不动而该基板14移动的方式，也可以釆取该基板14固定不动而该喷墨单元12移动 的方式，还可以采取该基板14和该喷墨单元12同时移动的方式。 当进行喷墨步骤时，该喷墨单元12将墨水从该喷墨孔1211朝该基 板14的像素区(图未示)方向喷出。
然而，该喷墨装置10用于制作有机电激发光显示器的发光层 时，由于受限于该喷墨孔1211的大小和喷墨头121的定位精度而使 喷墨精度不易控制，该喷墨装置IO局限于较低分辨率的应用层面。 该喷墨装置10用于制作较高分辨率的像素时，像素之间容易出现混 色的异常现象。所以，喷墨方法并不适用于制作较高分辨率的有机 电激发光显示器。
发明内容
为了解决喷墨方法不适用于制作较高分辨率的有机电激发光显 示器的问题，有必要提供一种较高分辨率的有机电激发光显示器的 制造方法。
一种有机电激发光显示器的制造方法，其包括以下步骤提供 一基板，在该基板上形成阳极图案；在该基板和阳极图案上形成一 电洞注入层；在该电洞注入层上形成一电洞传输层；采用掩膜工艺 辅助喷墨方法，在该电洞传输层上形成发光层；在该发光层上形成 一电子传输层；在该电子传输层上形成一电子注入层和在该电子注 入层上形成一阴极。
一种有机电激发光显示器的制造方法，其包括以下步骤提供 一基板，在该基板上形成阳极图案；釆用掩膜工艺辅助喷墨方法， 在该阳极图案上形成发光层；在该发光层上形成一阴极。
上述有机电激发光显示器的制造方法由于采用传统的喷墨方法 辅助以掩膜工艺，可以突破传统喷墨(Ink-jetPrinting)方法的精度限 制，从而制造出具有较高分辨率的有机电激发光显示器。
图1是一种现有技术喷墨装置的示意图。
图2至图11是本发明有机电激发光显示器的制造方法各步骤 的示意图。
图12是用图2至图11所示的制造方法制造出的有机电激发光 显示器发光层的平面示意图。
具体实施例方式
请参阅图2至图11,是本发明有机电激发光显示器的制造方法 各步骤的示意图。该有机电激发光显示器的制造方法包括如下步骤
步骤S01:请参阅图2，提供一基板20，采用物理气相沉积法 或化学气相沉积法，在该基板20上沉积一金属氧化物薄膜，例如氧 化铟锡(Indium Tin Oxide, ITO)或氧铟锌(Indium Zinc Oxide, IZO),并在该薄膜上涂覆一第一光致抗蚀剂层。提供一第一掩膜图 案，对该第 一光致抗蚀剂层进行曝光显影并刻蚀该氧化铟锡或氧化 铟锌薄膜形成多个阳极图案21。该多个阳极图案21分别定义多个 第一阳极图案211、多个第二阳极图案212和多个第三阳极图案213。 该第一阳极图案211、该第二阳极图案212和该第三阳极图案213 依序交替排列。该第一该基板20可以是玻璃、石英或塑料等透明绝 缘材料。
步骤S02:请参阅图3，采用旋转涂覆法或真空蒸镀法，在该 基板20和该阳极图案21上依次形成一 电洞注入层22和一电洞传输 层23。该电洞传输层23的材料一般是芳香族胺基高分子化合物， 例如聚苯胺(Polyacrylonitrile， PAn)或溴化十四烷基节基二曱基铵 (1,1 -bis(4-di-p-tolylaminophenyl)-4-phenylcyclohexane， TPAC)、奈胺 衍生物(4,4'-bis[N-naphthyl-N-phenylamino]biphenyl, a-NPD)或繁星 式聚胺 (4,4'，4"-tris(3-methylphenylphenylamino) triphenylamine， m-MTDATA)等。
步骤S03:请参阅图4，采用旋转涂覆法，在该电洞传输层23 上涂覆一第二光致抗蚀剂层241。提供一第二掩膜图案，对该第二 光致抗蚀剂层241进行曝光显影并刻蚀形成多个第一色像素区域 251。该第一色像素区域251的位置对应于该第一阳极图案211。
步骤S04:请参阅图5，采用喷墨方法将第一色发光材料喷涂 到该多个第一色像素区域251,形成多个第一色发光层261。该第一 色发光层261的材料是高分子发光材料，例如聚对苯乙炔 (Para-phenylenevinylene, PPV)系歹'j或纟工安蜂(Rubrene)或甲基-2誦#又
丁基-6-(l，l,7,7-四曱基久咯呢定基-9-烯基)-4H-吡喃(DCJTB)等。
步骤S05:请参阅图6，在适当的硬化后去除剩余的第二光致 抗蚀剂层241,采用旋转涂覆法，在该电洞传输层23上涂覆一第三 光致抗蚀剂层242。提供一第三掩膜图案，对该第三光致抗蚀剂层 进行曝光显影并刻蚀形成多个第二色像素区域252。该第二色像素 区域252的位置对应于该第二阳极图案212。
步骤S06:请参阅图7，采用喷墨方法将第二色发光材料喷涂 到该多个第二色像素区域252，形成多个第二色发光层262。该第二 色发光层262的材料是高分子发光材料，例如聚对苯乙炔 (Para-phenylenevinylene, PPV) 系 歹'J 或铝错化合物 (Aluminum-quinoline Complex, A1Q3)或查丫咬酉同(Quinacridone， QA)等。
步骤S07:请参阅图8，在适当的硬化后去除剩余的第三光致 抗蚀剂层242。采用旋转涂覆法，在该电洞传输层23上涂覆一第四 光致抗蚀剂层243。提供一第四掩膜图案，对该第四光致抗蚀剂层 243进行曝光显影并刻蚀形成多个第三色像素区域253。该第三色像 素区域253的位置对应于该第三阳极图案213。
步骤S08:请参阅图9，采用喷墨方法将第三色发光材料喷涂 到该多个第三色像素区域253，形成多个第三色发光层263。在适当 的硬化后去除剩余的第四光致抗蚀剂层。该第三色发光层263的材 料是高分子发光材料，例如聚对苯乙炔(Para-phenylenevinylene, PPV)系歹寸或铋、4晉4匕合物(Bis(10陽hydroxybenzo[h]quinolinato) Beryllium, BeBq2)等。该第一发光层261、该第二色发光层262和 该第三色发光层263构成一发光层26。
步骤S09:请参阅图10,采用旋转涂覆法或真空蒸镀法，在该 发光层26上依次形成一电子传输层27和一电子注入层28。该电子 传输层27和该电子注入层28的材料是具有大共轭平面的芳香族化 合物等。
步骤S10:请参阅图ll，采用物理气相沉积法或化学气相沉积 法，在该电子注入层28上形成一阴极29,从而完成该有机电激发 光显示器的制造。该阴极的材料可以是银(Ag)、镁(Mg)、铟(In)、 铝(A1)等金属或镁与银的合金等。
请参阅图12,是用上述方法制造出的有才几电激发光显示器的发 光层26的平面示意图。R表示该第一色发光层261, G表示该第二 色发光层262， B表示该第三色发光层263。该R、 G和B的排列是 矩阵形，且每一列是同 一 色的发光层，每一行是RGB三色发光层依 序交替排列。
本发明有机电激发光显示器的制造方法由于采用掩膜工艺辅助 传统的喷墨方法，可以突破传统喷墨(Ink-j et Printing)方法喷墨孔的 大小和喷墨头的定位精度的限制，从而制造出具有较高分辨率的有 机电激发光显示器。
本发明有机电激发光显示器的制造方法并不限于上述实施方式 所述，例如该有机电激发光显示器的各层的材料还可以是其它高分 子发光材料。另外，该有机电激发光显示器的制造方法可以省略形 成该电洞注入层和该电子注入层的步骤。该有机电激发光显示器的 制造方法还可以进一步省略形成该电洞传输层和该电子传输层的步 骤。
权利要求
1. 一种有机电激发光显示器的制造方法，其包括以下步骤提供一基板，在该基板上形成阳极图案；在该基板和阳极图案上形成一电洞注入层；在该电洞注入层上形成一电洞传输层；在该电洞传输层上形成一发光层；在该发光层上形成一电子传输层；在该电子传输层上形成一电子注入层；以及在该电子注入层上形成一阴极；其特征在于在该电洞传输层上形成一发光层是采用掩膜工艺辅助喷墨方法。
2. 如权利要求1所述的有机电激发光显示器的制造方法，其特 征在于采用掩膜工艺辅助喷墨方法，在该电洞传输层上形成发光 层的步骤包括在该电洞传输层上形成一光致抗蚀剂层，采用一掩 膜图案，对该光致抗蚀剂层曝光显影并刻蚀形成多个第 一 色像素区 域；采用喷墨方法在该第一色像素区域形成第一色发光层；去除剩 余光致抗蚀剂；在该电洞传输层上形成另一光致抗蚀剂层，采用一 掩膜图案，对该另 一光致抗蚀剂层曝光显影并刻蚀形成多个第二色 像素区域；采用喷墨方法在该第二色像素区域形成第二色发光层； 去除剩余光致抗蚀剂；在该电洞传输层上形成又 一 光致抗蚀剂层， 采用 一掩膜图案，对该又一光致抗蚀剂层曝光显影并刻蚀形成多个 第三色像素区域；采用喷墨方法在该第三色像素区域形成第三色发 光层；去除剩余光致抗蚀剂。
3. 如权利要求2所述的有机电激发光显示器的制造方法，其特 征在于该第一色发光层的材料是聚对苯乙炔系列或红萤烯或曱基 -2-叔丁基-6-(1，1，7，7-四甲基久咯呢定基-9-烯基)-4H-吡喃。
4. 如权利要求2所述的有机电激发光显示器的制造方法，其特 征在于该第二色发光层的材料是聚对苯乙炔系列或铝错化合物或 奎丫啶酮。
5. 如权利要求2所述的有机电激发光显示器的制造方法，其特 征在于该第三色发光层的材料是聚对苯乙炔系列或铋错化合物。
6. 如权利要求1所述的有机电激发光显示器的制造方法，其特征在于该电洞注入层是采用旋转涂覆法或真空蒸镀法形成。
7. 如权利要求1所述的有机电激发光显示器的制造方法，其特 征在于该电子注入层是采用旋转涂覆法或真空蒸镀法形成。
8. 如权利要求1所述的有机电激发光显示器的制造方法，其特 征在于该电洞传输层是采用旋转涂覆法或真空蒸镀法形成。
9. 一种有机电激发光显示器的制造方法，其包括以下步骤 提供一基板，在该基板上形成阳极图案； 在该阳极图案上形成发光层；以及在该发光层上形成 一 阴极；其特征在于在该阳极图案上形成一发光层是采用掩膜工艺辅 助喷墨方法。IO.如权利要求9所述的有机电激发光显示器的制造方法，其特 征在于采用掩膜工艺辅助喷墨方法，在该阳极图案上形成发光层 的步骤包括在该阳极图案上形成一光致抗蚀剂层，采用一掩膜图 案，对该光致抗蚀剂层曝光显影并刻蚀形成多个第一 色像素区域； 采用喷墨方法在该第一色像素区域形成第一色发光层；去除剩余光 致抗蚀剂；在该阳极图案上形成另一光致抗蚀剂层，采用一掩膜图 案，对该另 一光致抗蚀剂层曝光显影并刻蚀形成多个第二色像素区 域；采用喷墨方法在该第二色像素区域形成第二色发光层；去除剩 余光致抗蚀剂；在该阳极图案上形成又一光致抗蚀剂层，采用一掩 膜图案，对该又 一 光致抗蚀剂层曝光显影并刻蚀形成多个第三色像 素区域；采用喷墨方法在该第三色像素区域形成第三色发光层；去 除剩余光致抗蚀剂。
全文摘要
本发明涉及一种有机电激发光显示器的制造方法，其包括以下步骤提供一基板，在该基板上形成阳极图案；在该基板和阳极图案上形成一电洞注入层；在该电洞注入层上形成一电洞传输层；采用掩膜工艺辅助喷墨方法，在该电洞传输层上形成发光层；在该发光层上形成一电子传输层；在该电子传输层上形成一电子注入层和在该电子注入层上形成一阴极。
文档编号H01L51/50GK101207185SQ200610157870
公开日2008年6月25日 申请日期2006年12月22日 优先权日2006年12月22日
发明者彭家鹏, 赖建廷, 黄荣龙 申请人:群康科技(深圳)有限公司;群创光电股份有限公司