专利名称：一种半导体传输系统中的真空锁的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种半导体传输系统中的真空锁。
背景技术：
半导体传输系统中的真空锁是用于将硅片(wafer)从大气环境传输到真空腔室的中转站，它由腔体和上盖两部分组成，上盖上设有两个平行的且剖面为矩形的凹口提手，供安装和拆卸时两手抓持。使用时上盖和腔体是固定连接在一起的，对真空锁内部进行维护时则需要把上盖打开。该半导体传输系统中的真空锁存在下列缺点1、真空锁的上盖上没有观察窗，不能实时的观察真空锁中硅片的工作情况。2、当真空锁需要维护时，在维护人员面对两提手的端部情况下可以方便地提起真空锁的上盖，而在维护人员面对两提手的侧面情况下，则将真空锁的上盖提起就非常费劲。
发明内容
本发明的目的是提供一种更方便于提起上盖的半导体传输系统中的真空锁。为实现上述目的，本发明采取以下设计方案
一种半导体传输系统中的真空锁，它包括腔体和固定连接在所述腔体上的
上盖，其特征在于，所述上盖的上表面凹设有一环形槽，使所述上盖的上表面于所述环形槽内部形成一直径上大下小的圆盘形提手。
所述圆盘形提手位于所述上盖的上表面中部。
所述上盖上设有透明的观察窗。
所述观察窗的数量为1-3个，所述观察窗分布于所述上盖的拐角处。
所述观察窗是由树脂制成。
本发明的优点是
1、本发明一种半导体传输系统中的真空锁，它包括腔体和固定连接在所述腔体上的上盖，其中，上盖的上表面凹设有一环形槽，使上盖的上表面于环形槽内部形成一直径上大下小的圆盘形提手。因此，当需要提起上盖时，操作者站在真空锁周围任一位置时提起上盖都非常方便。
2、 本发明一种半导体传输系统中的真空锁，其中圆盘形提手位于上盖的上表面中部，这样在提起上盖时左、右手用力比较均匀，操作比较安全。
3、 本发明一种半导体传输系统中的真空锁，其中上盖上设有透明的观察窗，可以实时观察真空锁内部情况，便于及时发现问题和解决问题。
4、 本发明一种半导体传输系统中的真空锁，其中观察窗的数量为1或2个或3个，观察窗分布于上盖的拐角处以便于多角度观察真空锁内部情况。
4、本发明一种半导体传输系统中的真空锁，其中观察窗是由树脂制成，耐压性较好。
图1为本发明之立体示意图
图2为本发明中的上盖的俯视示意图
图3为本发明中的上盖的立体示意图
具体实施例方式
为便于进一步了解本发明之目的手段，兹附以较佳实施例图详细说明如后
本发明一种半导体传输系统中的真空锁，它包括腔体l和固定连接在腔体上的上盖2，其特征在于，上盖2的上表面凹设有一环形槽3，使上盖2的上表面于环形槽3内部形成一直径上大下小的圆盘形提手4。
圆盘形提手4位于上盖2的上表面中部。
上盖2上设有透明的观察窗5。
观察窗5的数量为1个或2个或3个，观察窗5分布于上盖2的拐角处。观察窗5是由树脂制成。
权利要求
1、一种半导体传输系统中的真空锁，它包括腔体和固定连接在所述腔体上的上盖，其特征在于，所述上盖的上表面凹设有一环形槽，使所述上盖的上表面于所述环形槽内部形成一直径上大下小的圆盘形提手。
2、 如权利要求1所述的一种半导体传输系统中的真空锁，其特征在于，所 述圆盘形提手位于所述上盖的上表面中部。
3、 如权利要求1或2所述的一种半导体传输系统中的真空锁，其特征在于，所述上盖上设有透明的观察窗。
4、 如权利要求3所述的一种半导体传输系统中的真空锁，其特征在于，所 述观察窗的数量为1-3个，所述观察窗分布于所述上盖的拐角处。
5、 如权利要求3所述的一种半导体传输系统中的真空锁，其特征在于，所 述观察窗是由树脂制成。
全文摘要
本发明公开了一种半导体传输系统中的真空锁，它包括腔体和固定连接在所述腔体上的上盖，其中，上盖的上表面凹设有一环形槽，使上盖的上表面于环形槽内部形成一直径上大下小的圆盘形提手。因此，当需要提起上盖时，操作者站在真空锁周围任一位置时提起上盖都非常方便。
文档编号H01L21/67GK101677076SQ20081022241
公开日2010年3月24日 申请日期2008年9月16日 优先权日2008年9月16日
发明者磊 韦 申请人:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司