专利名称：制程腔室上的连接装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及半导体制造领域的制程腔室(chamber),尤其涉及一种制 程腔室上的连接装置。
背景技术：
制程腔体是半导体器件制造领域的重要设备，其用于淀积、干法蚀刻等等 工艺中。在晶圓的各种处理工艺中，制程腔体的内壁上会粘上很多淀积物。为 了避免这些淀积物脱落对晶圓表面的影响，需要定期对制程腔体内壁上进行清 洗。但是有的时候，当清洗完毕将各部件安装后，制程腔体的电源环路仍然不 通。
检验后发现，导致电源环路发生断路的原因是连接电源线和等离子产生源 的连接装置出现问题。参阅图1结合图2,图1为现有一种用于制程腔体上的连 接装置l，用于连接电源线3以及制程腔体内的等离子体产生源(未图示)。该 连接装置1包括与线圈连接的连接器12、连接电源线3和连接器12的螺栓10 以及螺母11。由于所述螺栓10仅与螺母配合的部分具有螺紋，所以如果螺母 11与螺栓IO之间的配合松动，电源线3与连接器12发生断路，导致电源环路 出现问题。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型解决的技术问题是提供一种连接稳定性高的连接装置。
为解决上述技术问题，本实用新型提供了制程腔室上的连接装置，用于连 接电源线和等离子产生源。该连接装置包括与等离子产生源连接的连接器、穿 过电源线与连接器的螺栓以及与螺栓配合将电源线与连接器固定的螺母；所述 螺栓与电源线和连接器螺紋配合。
本实用新型提供的连接装置，通过螺栓与电源线和连接器螺紋配合提高了 连接装置的稳定性；即使螺母和螺栓配合松动，也不会发生断路的情况。
图1为现有的制程腔体上的连接装置的示意图； 图2为图l所示螺栓的放大示意图； 图3为本实用新型实施例中的连接装置的示意图； 图4为图3所示螺栓的放大示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的连接装置其中 一 实施例进行描述，以进一步 理解本实用新型的目的、具体结构特征和优点。
请参阅图3结合图4，连接装置2用于连接电源线3以及位于制程腔体内的 等离子产生源(未图示)，其中该等离子产生源可以是线圏也可以是电极板。连 接装置2包括连接器22、螺栓20以及螺母23。所述螺栓20竖直穿过连接器22 的连接部221和电源线3，然后通过螺母23与螺栓20的螺紋配合将连接部221 与电源线3固定实现两者之间的电性连接。需要说明的是，所述螺栓20的螺紋 部较长，这样该螺栓20与连接部221和电源线3也是螺紋配合。采用该连接装 置2，即使螺母23与螺栓20的配合松动，在水平方向，连接部221和电源线3 断开连接；但是，在垂直方向，两者通过螺栓20的螺紋配合实现电性连接，避 免了因连接装置发生断路，影响制程腔体产生等离子体的现象。
上述描述，仅是对本实用新型较佳实施例的描述，并非对本实用新型的任 何限定，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据上述揭示内容进行简单修 改、添加、变换，且均属于权利要求书中保护的内容。
权利要求1.一种制程腔室上的连接装置，用于连接电源线与制程腔室内的等离子产生源，所述连接装置包括与等离子产生源连接的连接器、穿过电源线与连接器的螺栓以及与螺栓配合将电源线与连接器固定的螺母；其特征在于，所述螺栓与电源线和连接器螺纹配合。
2. 如权利要求1所述的制程腔室上的连接装置，其特征在于，所述连接器包括 与电源线平行的连接部，所述螺栓与电源线和所述连接部螺紋配合。
专利摘要本实用新型提供了一种制程腔室上的连接装置，用于连接电源线和等离子产生源。该连接装置包括与等离子产生源连接的连接器、穿过电源线与连接器的螺栓以及与螺栓配合将电源线与连接器固定的螺母；所述螺栓与电源线和连接器螺纹配合。相较现有技术，本实用新型提供的连接装置，通过螺栓与电源线和连接器螺纹配合提高了连接装置的稳定性。
文档编号H01L21/00GK201188464SQ20082005769
公开日2009年1月28日 申请日期2008年4月24日 优先权日2008年4月24日
发明者毛国胤, 胡凯峰, 胡旭峰, 亮 陈 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司