1.一种处理腔室，包括：
圆形气体分配组件，所述圆形气体分配组件定位在所述处理腔室内，所述气体分配组件包括在所述气体分配组件的正面的多个细长气体口，所述多个细长气体口从所述气体分配组件的内径区域向外径区域延伸，所述多个气体口包括反应性气体口、净化气体口以及真空口，所述反应性气体口用于将反应性气体传送到所述处理腔室，所述净化气体口用于将净化气体传送到所述处理腔室，所述真空口用于从所述处理腔室排空气体；
基座组件，所述基座组件在所述处理腔室内以绕旋转轴沿基本上圆形的路径旋转至少一个基板，所述基座组件具有由内周边缘与外周边缘界定的顶表面，所述基座组件定位在所述气体分配组件下方以使得所述基座组件的顶表面面对所述气体分配组件的正面；以及
转向器，所述转向器定位成改变所述反应性气体的流动的方向，以使得当基板在所述基座组件上时，所述反应性气体相对于所述基板表面以小于约90°的角度接触所述基板的表面。
2.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述转向器将所述反应性气体的流动改变为在所述基座组件的旋转的方向上成角度。
3.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述转向器将所述反应性气体的流动改变为在与所述基座组件的旋转相对的方向上成角度。
4.如权利要求1-3所述的处理腔室，其中所述转向器将所述反应性气体的流动改变为朝向所述基座组件的内周边缘成角度。
5.如权利要求1-3所述的处理腔室，其中所述转向器将所述反应性气体的流动改变为朝向所述基座组件的外周边缘成角度。
6.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述转向器将所述反应性气体的流动改变为朝向所述基座组件的内周边缘并且逆着所述基座组件的旋转的方向成角度。
7.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述转向器将所述反应性气体的流动改变为朝向所述基座组件的外周边缘并且沿着所述基座组件的旋转的方向成角度。
8.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述转向器将所述反应性气体的流动改变为朝向所述基座组件的外周边缘并且逆着所述基座组件的旋转的方向成角度。
9.如权利要求1所述的处理腔室，其中所述转向器将所述反应性气体的流动改变为朝向所述基座组件的内周边缘并且沿着所述基座组件的旋转的方向成角度。
10.如权利要求1-3所述的处理腔室，其中所述角度在约70°至约89°的范围内。
11.如权利要求1-3所述的处理腔室，其中所述转向器被插入所述反应性气体口中或者邻近所述反应性气体口定位在所述气体分配组件的正面处。
12.一种处理多个基板的方法，所述方法包括以下步骤：
在处理方向上旋转基座组件以邻近气体分配组件的正面传递所述多个基板中的每一个以将所述基板暴露于来自所述气体分配组件的反应性气体的流动；以及
控制转向器以使所述反应性气体的流动相对于所述基板的表面成小于约90°角。
13.如权利要求14所述的方法，其中控制所述转向器使得所述反应性气体的流动相对于所述基板表面的表面成约70°至约89°的范围内的角度。
14.如权利要求15所述的方法，其中控制所述转向器使得所述反应性气体的流动逆着所述处理方向成角度。
15.如权利要求16所述的方法，其中控制所述转向器使得所述反应性气体的流动朝向所述基座组件的内周边缘或所述基座组件的外周边缘成角度。