1.一种压块机构，包括：
一摇臂，受一旋转驱动件所驱动而可作旋转摆动；
一压块，设于该摇臂上，并可选择性落置于一间歇直线的搬送流路与一间歇旋转的搬送流路间的定位；
该压块可调整相对于该摇臂位移，使该压块的底部于落置定位后的下抵位置可进行微调。
2.如权利要求1所述的压块机构，其特征在于，该压块落置的位置受该旋转驱动件所设一感测件于该摇臂的旋转摆动连动该感测件摇摆时，与一断接开关形成感应控制。
3.如权利要求1所述的压块机构，其特征在于，该压块落置时，该摇臂落至一垫座上，一近接感应器用以感应该摇臂与该垫座的接近。
4.如权利要求3所述的压块机构，其特征在于，该近接感应器的线路受该摇臂上一第二保护罩所保护。
5.如权利要求1所述的压块机构，其特征在于，该压块的底部设有感应器，其于该压块上的线路受一第一护罩所保护。
6.如权利要求1所述的压块机构，其特征在于，该压块的底部凹设有一余隙区间，其受该压块相对于该摇臂位移的连动，而改变下抵位置。
7.如权利要求1所述的压块机构，其特征在于，该压块的底部朝一侧设有一宽度缩小的凸出状挡抵部，其受该压块相对于该摇臂位移的连动，而改变下抵位置。
8.如权利要求1所述的压块机构，其特征在于，该压块可调整相对于该摇臂位移的位移路径垂直该摇臂。
9.一种入料方法，使用权利要求1至8任一所述的压块机构，包括：使待分选元件由一输送槽道，在负压吸引下，经由一流道，进入一转盘上周缘环列布设多个开口朝外的嵌槽时，经由该压块机构提供一气道，以执行一经由该气道自流道外吸补空气，以减少该负压吸力对该待分选元件的吸力。
10.一种入料方法，使用权利要求1至8任一项所述的压块机构，包括：
一流道形成步骤，使一周缘环列布设多个开口朝外的嵌槽的转盘部分置靠一流道钻座上的一靠置面，于转盘周缘与一输送槽道间的流道钻座的靠置面上形成一段流道区，在该流道区设二侧挡件，使该二侧挡件间形成一可供自输送槽道将待分选元件输入转盘的嵌槽的流道；
一气道形成步骤，使所述压块机构的压块受摇臂连动遮罩在转盘的嵌槽上方，并遮罩在二侧挡件所形成的流道上方；使该压块与二侧挡件间，各形成气体可以进出的气道；
一入料步骤，在负压吸引下，使待分选元件由输送槽道经由二侧挡件所形成的流道进入转盘的嵌槽，所述负压吸引时，经由所述压块与二侧挡件间的气道自流道外吸补空气。
11.一种入料装置，包括：用以执行权利要求9或10所述的入料方法的装置。
12.一种入料装置，使用权利要求1至8任一项所述的压块机构，包括：
一转盘，其周缘环列布设等间距且设有朝外开口的嵌槽；
一输送槽道，将待分选元件输送进入转盘；
一压块机构，以所述压块设于该输送槽道与转盘间；
一流道钻座，位于该转盘下方，该流道钻座形成一供转盘部分置靠其上的靠置面，靠置面于转盘周缘与输送槽道间形成一段狭窄的流道区，在该流道区设有二侧挡件形成一可供自输送槽道将待分选元件输入转盘的嵌槽的流道，该压块与二侧挡件间，各形成气体可以进出的气道。
13.如权利要求12所述的入料装置，其特征在于，该输送槽道靠转盘的一进入端形成一束缩的颈部状；该流道钻座位于朝输送槽道的一侧形成一凹设的嵌槽，该嵌槽供所述输送槽道束缩的颈部状进入端嵌置其中到使进入端与该流道接设。
14.如权利要求12所述的入料装置，其特征在于，该二侧挡件分别于靠流道的一侧形成一逃角部，以形成该气体可以进出的气道。
15.如权利要求12所述的入料装置，其特征在于，该压块的挡抵部朝流道的一侧，该挡抵部遮罩在流道上方，并与二侧挡件间形成气体可以进出的气道。
16.如权利要求12所述的入料装置，其特征在于，该二侧挡件分别于靠流道的一侧形成一逃角部，该压块的底部朝流道的一侧设有一挡抵部，该挡抵部的宽度小于该二侧挡件间的逃角部的上缘宽度，该挡抵部的底面高于该逃角部的下缘的高度，该逃角部的下缘的高度并低于待分选元件的高度。
17.如权利要求12所述的入料装置，其特征在于，该流道钻座的靠置面设有分离针，所述分离针位于该流道中靠嵌槽入口处，并于该流道钻座下方设有以电磁铁作为驱动力以驱动分离针的电磁驱动件。
18.如权利要求17所述的入料装置，其特征在于，该压块底部的余隙区间在压块受连动落下时，位于分离针上方，且余隙区间的长度跨罩涵盖该分离针及其两侧嵌槽及流道一部分的长度，但余隙区间的宽度小于该嵌槽、流道及待分选元件的宽度。