曝光系统的制作方法

文档序号:13351265阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明的曝光系统(1000)具备:第1行腔室(3001~3003),在+X侧与设置于地面F上的C/D(9000)相邻而配置;第2行腔室,其等与第1行腔室对向而配置在‑Y侧;及第1控制架(200),在‑X侧与第2行腔室相邻,且与C/D(9000)对向而配置在‑Y侧。在至少一部分的多个腔室的内部,分别形成有进行曝光的曝光室,第1控制架(200)将自地面(F)的下方供应来的公用能源分配至第1行及第2行腔室的各个。

技术研发人员:柴崎祐一
受保护的技术使用者:株式会社尼康
技术研发日:2016.04.15
技术公布日:2018.01.02
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