1.一种垂直腔面发射激光器，包括：层叠设置的有源层、功能辅助层和P型分布式布拉格反射镜层，所述功能辅助层和P型分布式布拉格反射镜层构成台面结构；其特征在于，
所述P型分布式布拉格反射镜层设置有沟道；所述台面结构被所述沟道分割成多个次台面结构；
各所述次台面结构的上端设置有与所述次台面结构一一对应的P面电极。
2.如权利要求1所述的垂直腔面发射激光器，其特征在于，所述P面电极包覆部分所述P型分布式布拉格反射镜层和部分所述有源层。
3.如权利要求1所述的垂直腔面发射激光器，其特征在于，各所述次台面结构的大小和形状相同。
4.如权利要求1-3任一项所述的垂直腔面发射激光器，其特征在于，各所述次台面结构的上端刻蚀有表面浮雕。
5.如权利要求1所述的垂直腔面发射激光器，其特征在于，所述台面结构为圆柱形台面结构。
6.如权利要求1所述的垂直腔面发射激光器，其特征在于，还包括：
在所述次台面结构和所述P面电极之间设置有介质薄膜电流限制层。
7.如权利要求6所述的垂直腔面发射激光器，其特征在于，所述介质薄膜电流限制层的中端开有电流限制窗口。
8.如权利要求7所述的垂直腔面发射激光器，其特征在于，所述介质薄膜电流限制层的材料为氮化铝、氮化硅、碳化硅或二氧化硅其中之一或组合。
9.一种如权利要求1-8所述垂直腔面发射激光器的制作方法，其特征在于，包括：
在有源层上依次形成功能辅助层和P型分布式布拉格反射镜层的图形；所述功能辅助层和P型分布式布拉格反射镜层构成台面结构；
在所述P型分布式布拉格反射镜层图形上刻蚀形成沟道的图形；所述台面结构被所述沟道分割成多个次台面结构；
在各所述次台面结构的上端形成与所述次台面结构一一对应的P面电极的图形。
10.如权利要求9所述的垂直腔面发射激光器的制作方法，其特征在于，在所述P型分布式布拉格反射镜层图形上刻蚀形成沟道的图形之后，在各所述次台面结构的上端形成与所述次台面结构一一对应的P面电极的图形之前，还包括：
在各所述次台面结构上形成介质薄膜电流限制层的图形；所述介质薄膜电流限制层图形的中端形成有电流限制窗口。