显示面板和显示装置的制作方法

本发明涉及显示技术领域，具体地说，涉及一种显示面板和显示装置。

背景技术

有机电致发光(oled)显示面板具有功耗低、轻便、亮度高、视野宽和反应快等特点，使其能够广泛应用于便携式电子设备、穿戴式电子设备、车载电子设备等诸多领域中。

参照图1，现有oled显示面板100包括：基板101；位于基板101上的薄膜晶体管层102，薄膜晶体管层102具有多个薄膜晶体管(未示出)；位于薄膜晶体管层102上的平坦化层103；位于平坦化层103上的像素定义层104，像素定义层104将oled显示面板100划分为多个像素区域，例如红色(r)像素区域100a、绿色(g)像素区域100b和蓝色(b)像素区域100c；位于平坦化层103上的且位于像素区域的阳极层105，阳极层105通过过孔与薄膜晶体管电性连接；位于阳极层105和像素定义层104上的空穴注入层106；位于空穴注入层106上的空穴传输层107；位于空穴传输层107上的且位于像素区域的发光层108；位于发光层108上的电子传输层109；位于电子传输层109上的阴极层110。通过向阳极层105和阴极层110施加一定的电压，空穴从阳极层105通过空穴注入层106注入到空穴传输层107，并传输到发光层108，电子从阴极层110注入到电子传输层109，并传输到发光层108，空穴和电子在发光层108中相遇形成激子复合发光。

现有oled显示面板中，由材料本身的性质决定，空穴注入层106的空穴迁移率很高，使得空穴在空穴注入层106中存在横向和纵向两种迁移方向。由于r/g/b三种像素的启亮电压依次增大，同时，由于空穴注入层106是一有机公共层(又称共通层)，换言之，r/g/b三种像素区域共用同一空穴注入层106，当点亮高启亮电压像素时，例如b像素，空穴能够在空穴注入层106中横向迁移到达r像素区域或g像素区域，能够微微点亮启亮电压低的像素，使得显示面板在较低灰阶点亮时会出现一定程度的色彩失真。

为避免上述情况出现，现有技术中已公开多种方法，例如通过降低空穴注入层106中掺杂比以降低空穴迁移率，以及减薄空穴注入层106的厚度以降低空穴的横向导电能力等。上述方法虽然能够在一定程度上降低空穴的横向迁移能力，但这些方法或多或少会影响到显示面板的性能，例如使得电压升高或效率降低。

技术实现要素：

针对现有技术中存在的问题，本发明一方面提供一种显示面板，包括：

基板；

像素定义层，位于所述基板上，所述像素定义层将所述显示面板划分为多个像素区域，所述像素区域间的所述像素定义层具有沿垂直于其延伸方向的异型截面，所述异型截面具有至少一个远离所述基板的尖端；

有机公共层，位于所述像素区域上和所述像素定义层上，所述有机公共层在所述像素定义层的异型截面的尖端处断开。

在一些实施例中，所述尖端的截面夹角小于90度。

在一些实施例中，所述有机公共层为空穴注入层。

在一些实施例中，所述显示面板还包括位于所述空穴注入层和所述基板之间的阳极层、以及依次位于所述空穴注入层上的空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极层。

在一些实施例中，所述多个像素区域包括红色像素区域、绿色像素区域和蓝色像素区域，所述空穴传输层分别对应于所述红色像素区域、所述绿色像素区域和所述蓝色像素区域的厚度依次减小。

在一些实施例中，所述显示面板还包括位于电子传输层和所述阴极层之间的电子注入层、位于所述阴极层上的保护层。

在一些实施例中，所述有机公共层为电子注入层。

在一些实施例中，所述显示面板还包括位于所述电子注入层和所述基板之间的阴极层、以及依次位于所述电子注入层上的电子传输层、发光层、空穴传输层和阳极层。

在一些实施例中，所述多个像素区域包括红色像素区域、绿色像素区域和蓝色像素区域，所述电子传输层分别对应于所述红色像素区域、所述绿色像素区域和所述蓝色像素区域的厚度依次减小。

本发明另一方面提供一种显示装置，所述显示装置包括上述的显示面板。

与现有技术相比，本发明提供的显示面板和显示装置至少具有以下有益效果：本发明的显示面板中，像素定义层的异型截面具有至少一个远离基板的尖端，有机公共层在像素定义层的异型截面的尖端处断开，使得位于有机公共层中的空穴或电子无法发生横向迁移，能够克服在较低灰阶点亮时出现的色彩失真现象。

附图说明

通过参照附图详细描述其示例实施方式，本发明的上述和其它特征及优点将变得更加明显。

图1是现有的一种显示面板的截面示意图。

图2是本发明一个实施例的显示面板的截面示意图。

图3是本发明另一实施例的显示面板的截面示意图。

图4是本发明又一实施例的显示面板的截面示意图。

图5是本发明又一实施例的显示面板的截面示意图。

图6a是本发明一个实施例的显示面板的局部俯视示意图。

图6b是本发明另一实施例的显示面板的局部俯视示意图。

图7a至图7e是本发明一个实施例的像素定义层的制备示意图。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明更全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。

本发明中所描述的表达位置与方向的词，均是以附图为例进行的说明，但根据需要也可以做出改变，所做改变均包含在本发明保护范围内。本发明的附图仅用于示意相对位置关系，某些部位的层厚采用了夸示的绘图方式以便于理解，附图中的层厚并不代表实际层厚的比例关系。

图2是本发明一个实施例的显示面板的截面示意图，参照图2，本发明实施例提供一种显示面板200，该显示面板200包括：基板201、像素定义层204和有机公共层。

本发明不限制基板201的材质，基板201可以是刚性基板或柔性基板，例如玻璃基板或聚酰亚胺基板。

像素定义层204位于基板201上，像素定义层204将显示面板200划分为多个像素区域，例如200a、200b和200c，像素区域间的像素定义层204具有沿垂直于其延伸方向的异型截面，异型截面具有至少一个远离基板201的尖端2041。

由像素定义层204划分的多个像素区域可以由三基色像素区域组成，也可以由四基色像素区域组成，其中，三基色像素区域可以是红色像素区域200a、绿色像素区域200b和蓝色像素区域200c，四基色像素区域可以是红色像素区域200a、绿色像素区域200b、蓝色像素区域200c和白色像素区域(未示出)。本发明不限制多个像素区域的排列方式，如图6a和图6b所示，可以采用矩阵结构排列，也可以采用交错结构排列(未示出)，还可以采用其他方式排列。参照图6a，像素区域间的像素定义层204的延伸方向是指相邻两像素区域之间的像素定义层204的部分的长度方向，该延伸方向与相邻两像素区域之间的狭缝延伸方向相同，图6a中，像素定义层204设置在左右相邻的像素区域之间，像素区域间的像素定义层204的延伸方向为y方向。参照图6b，像素定义层204不仅设置在左右相邻的像素区域之间，而且设置在上下相邻的像素区域之间，其中，左右相邻的像素区域之间的像素定义层204的延伸方向为y方向，上下相邻的像素区域之间的像素定义层204的延伸方向为x方向。需要说明的是，图6a和图6b仅示出了显示面板200的局部结构，根据需要，显示面板200还可以包括更多的像素区域。

像素区域间的像素定义层204沿垂直于其延伸方向的截面为异型截面，该异型截面是指像素定义层204沿垂直于其延伸方向的截面形状可以是不规则形状，该异型截面具有至少一个远离基板201的尖端2041，换言之，该异型截面的尖端2041不朝向基板201。本实施例中，像素定义层204的异型截面具有两个尖端2041。

有机公共层位于像素区域上和像素定义层204上，有机公共层在像素定义层204的异型截面的尖端2041处断开，换言之，有机公共层在像素定义层204的异型截面的尖端2041的两侧的部分是不连续或者是非电性连接的，使得位于有机公共层中的空穴或电子无法发生横向迁移，位于一个像素区域内的有机公共层中的空穴或电子无法迁移至相邻像素区域内的有机公共层中，在显示面板200显示过程中，不管是相邻像素区域施加的电压相同或是不同，空穴或电子均无法迁移至相邻像素区域，因此，能够克服现有的显示面板100在较低灰阶点亮时出现的色彩失真现象。该显示面板200中没有增加额外的功能层，通过改变像素定义层204在像素区域边缘的形状而达到在较低灰阶点亮时避免出现色彩失真现象的目的，在制备时没有增加额外的步骤，不会增加成本。

本实施例中，有机公共层为空穴注入层206，在像素定义层204的异型截面的尖端2041处断开的空穴注入层206能够防止从阳极层205注入的空穴在空穴注入层206中发生横向迁移。本实施例中，相邻两像素区域的空穴注入层206被像素定义层204断开为三部分，其中两部分分别位于相邻两像素区域内，第三部分位于像素定义层204上。

在一个较佳实施例中，像素定义层204的异型截面的尖端2041的截面夹角小于90度(锐角)，该截面夹角是指异型截面中形成尖端2041的两条边的夹角。由于有机公共层通常通过蒸镀方法形成，在有机公共层形成过程中，截面夹角为锐角的尖端2041能够有效破坏镀膜的连续性，从而使得有机公共层在该尖端2041处断开。

可选地，在一个实施例中，显示面板200还包括位于空穴注入层206和基板201之间的阳极层205、以及依次位于空穴注入层206上的空穴传输层、发光层208、电子传输层209和阴极层210，阳极层205、空穴注入层206、空穴传输层、发光层208、电子传输层209和阴极层210的材料可以采用已知材料，在此不予赘述。

可选地，显示面板200还可以设置为实现显示所需的其他结构，包括位于阳极层205和基板201之间的薄膜晶体管层202、以及位于薄膜晶体管层202与阳极层205之间的平坦化层203。薄膜晶体管层202包括多个薄膜晶体管，薄膜晶体管至少包括有源层、源极、漏极、栅极、栅极绝缘层(未示出)，阳极层205通过位于平坦化层203上的过孔与薄膜晶体管的源级或漏极电性连接，薄膜晶体管层202的具体结构采用已知技术，在此不予赘述。平坦化层203位于薄膜晶体管层202上，使薄膜晶体管层202的表面平坦化，有利于后续显示元件的制作并提高性能。

在一个较佳实施例中，由像素定义层204划分的多个像素区域由三基色像素区域组成，三基色像素区域由红色像素区域200a、绿色像素区域200b和蓝色像素区域200c组成，其中，空穴传输层分别对应于红色像素区域200a、绿色像素区域200b和蓝色像素区域200c的厚度依次减小。本实施例中，对应于蓝色像素区域200c的空穴传输层为第一空穴传输层2071，对应于绿色像素区域200b的空穴传输层为第一空穴传输层2071和第二空穴传输层2072，对应于红色像素区域200a的空穴传输层为第一空穴传输层2071和第三空穴传输层2073，第三空穴传输层2073的厚度大于第二空穴传输层2072的厚度，由于红光、绿光和蓝光的光学腔长依次减小，通过改变对应于不同像素区域的空穴传输层的厚度，调整不同像素区域的微腔的长度，得到所需的色域。

可选地，显示面板200还包括位于电子传输层209和阴极层210之间的电子注入层211、位于阴极层210上的保护层(未示出)。通过设置电子注入层211，提高电子的注入效率，进而提高显示面板200的发光效率。设置保护层能够防止环境中的水氧向内渗透，避免腐蚀显示面板200中的各功能层。可选地，阴极层210上还可以设置光学调整层以改善显示面板200的出光性能。

在一些实施例中，显示面板200还包括封装层或盖板(未示出)，例如，封装层或盖板设置在阴极层210或保护层上，提高阻隔水氧的能力，保护显示面板200中的各功能层不被破坏，封装层或盖板可采用已知技术，在此不予赘述。

图3是本发明另一实施例的显示面板的截面示意图，图3所示的显示面板300与图2所示的显示面板200的结构类似，其区别在于，图3所示的显示面板300中，像素区域间的像素定义层304沿垂直于其延伸方向的异型截面的形状与图2不同，图2中异型截面位于平坦化层203上的部分呈倒梯形，图3中异型截面位于平坦化层203上的部分呈三角形，使得图3中相邻两像素区域的空穴注入层306在像素定义层304的尖端3041处断开为两部分，同样能够破坏空穴注入层306的连续性，避免空穴在空穴注入层306中横向迁移，使显示面板300在较低灰阶点亮时避免出现色彩失真现象。

图4是本发明又一实施例的显示面板的截面示意图，图4所示的显示面板400与图2所示的显示面板200的结构类似，其区别在于，图4所示的显示面板400中，像素区域间的像素定义层404沿垂直于其延伸方向的异型截面的形状与图2不同，图2中异型截面位于平坦化层203上的部分呈倒梯形，图4中异型截面位于平坦化层403上的部分大致呈工字形，该工字形的两侧壁具有内凹的圆弧，圆弧的上端与顶壁形成异型截面的尖端4041，该尖端4041的截面夹角是指圆弧的上端的切线与顶壁之间的夹角，本实施例中，该夹角小于90度，使得图4中相邻两像素区域的空穴注入层406在像素定义层404的尖端4041处断开为三部分，同样能够破坏空穴注入层406的连续性，避免空穴在空穴注入层406中横向迁移，使显示面板400在较低灰阶点亮时避免出现色彩失真现象。

图5是本发明又一实施例的显示面板的截面示意图，本实施例中，显示面板500的像素定义层504与图2的显示面板200的像素定义层204的结构相同，其区别在于，本实施例中，位于平坦化层503上的依次是阴极层510、电子注入层511、电子传输层、发光层508、空穴传输层507和阳极层505，还可以在空穴传输层507和阳极层505之间设置空穴注入层506、以及在阳极层505上设置保护层(未示出)，从而形成一种倒置结构的显示面板500。

该显示面板500中，相邻两像素区域的的电子注入层511被像素定义层504断开为三部分，其中两部分分别位于相邻两像素区域内，第三部分位于像素定义层504上，该像素定义层504破坏了电子注入层511的连续性，因此，能够防止电子在电子注入层511中横向迁移至相邻的像素区域，使显示面板500在较低灰阶点亮时避免出现色彩失真现象。

可选地，电子传输层分别对应于红色像素区域500a、绿色像素区域500b和蓝色像素区域500c的厚度依次减小，本实施例中，对应于蓝色像素区域500c的电子传输层为第一电子传输层5091，对应于绿色像素区域200b的电子传输层为第一电子传输层5091和第二电子传输层5092，对应于红色像素区域200a的电子传输层为第一电子传输层5091和第三电子传输层5093，第三电子传输层5093的厚度大于第二电子传输层5092的厚度，该结构的电子传输层通过调整不同像素区域的微腔的长度，得到所需的色域。

需要说明的是，在倒置结构的显示面板500中，像素定义层504还可以采用如图3和图4中所示的像素定义层304和像素定义层404的结构，具体结构在此不予赘述。

参照图7a至图7e，本发明还提供如图2所示的像素定义层204的制备方法，该制备方法包括以下步骤：

(1)在基板201上依次形成像素定义层204和光阻21。

基板201可以是玻璃基板、聚酰亚胺基板，还可以是在玻璃基板或聚酰亚胺基板上依次设置有薄膜晶体管层202和平坦化层203的阵列基板。

具体地，像素定义层204可以通过蒸镀方法形成，对形成的像素定义层204进行清洗，然后通过涂附方法在像素定义层204上形成光阻21。

(2)对形成的光阻21进行曝光和显影，暴露出像素定义层204待蚀刻的部分。

具体地，可以通过设置掩膜板22，在掩膜板22上方进行光照，对应于透光区的光阻21发生反应，成为能够被显影溶液去除的部分，然后使用显影溶液将对应于透光区的光阻21去除，暴露出像素定义层204待蚀刻的部分。

(3)对像素定义层204待蚀刻的部分进行蚀刻，形成像素定义层204的异型截面的尖端2041。

具体地，可以通过等离子体干蚀刻方法并控制蚀刻的能量、时间和方向对像素定义层204进行蚀刻，从而形成如图2和图7d所示的像素定义层204。对于如图3所示的像素定义层304，可以通过在步骤(1)中使用保护能力欠佳的光阻21形成，即采用的光阻21能够与蚀刻液或干刻粒子反应，控制不同位置的光阻21的反应速度形成如图3所示的像素定义层304。对于如图4所示的像素定义层404，在步骤(1)中可形成多层结构的像素定义层404，其中邻近顶层和邻近底层的像素定义层404在蚀刻时的反应速度慢，邻近中间层的像素定义层404在蚀刻时的反应速度快，从而在蚀刻时能够形成如图4所示的像素定义层404。

(4)对位于像素定义层204上的光阻21进行剥离，露出像素定义层204。

具体地，可以通过使用剥离液对光阻21进行剥离去除，具体可采用已知技术，在此不予赘述。完成像素定义层204的制备后，可以接着进行后续oled制程，形成显示面板200中的各功能层。

本发明还提供一种显示装置，该显示装置包括上述的显示面板。该显示装置包括但不限于是手机、平板电脑、笔记本电脑或台式电脑。

尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。