本实用新型涉及激光技术领域，尤其涉及一种新型大功率高精度450nm激光光源系统。
背景技术：
激光是由受激发射的光放大产生的辐射。激光有很多特性，首先，激光是单色的，或者说是单频的，有一些激光器可以同时产生不同频率的激光，但是这些激光是互相隔离的，使用时也是分开的；其次，激光是相干光，相干光的特征是其所有的光波都是同步的，整束光就好像一个“波列”；再次，激光是高度集中的，也就是说它要走很长的一段距离才会出现分散或者收敛的现象。在很多需要精密温度控制的设备中经常可以看到半导体制冷器。对温度及其敏感的组件往往与TEC和温度监视器集成到一个单一热工程模块。半导体制冷器也可以通过翻转电流而制热。TEC非常小的体积为精密控制单个组件（例如，光纤激光器驱动器，高精度的参考电压或任何温度敏感型设备）的温度提供了可能。
我们都知道，对于我们所使用的450nm激光光源系统来说，为保证使用性能的长期稳定，应该具备良好的散热性、温度的可控性以及散热的迅捷性，但是，传统的450nm激光光源系统一般只通过水冷系统来进行散热，而水冷系统虽然制冷量大，但是不能精确的控制温度，这样，450nm激光光源系统的寿命就很短，同时限制了450nm激光光源系统的功率。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种新型大功率高精度450nm激光光源系统。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
一种新型大功率高精度450nm激光光源系统，包括风冷模块、半导体TEC制冷模块、激光模块和水冷模块，所述激光模块采用450nm激光光源，所述激光模块上安装有半导体TEC制冷模块和水冷模块，所述水冷模块作用于激光模块，且水冷模块宽幅调节激光模块的温度，所述半导体TEC制冷模块作用于激光模块，且半导体TEC制冷模块精确调节激光模块的温度，所述半导体TEC制冷模块上安装有风冷模块，所述风冷模块作用于半导体TEC制冷模块，且风冷模块宽幅调节半导体TEC制冷模块的温度。
优选的，所述激光模块为二极管激光器。
优选的，所述风冷模块设有多组，且至少有两组，风冷模块呈直线排列或者圆周排列。
优选的，所述风冷模块为制冷压缩机，水冷模块为激光水冷机。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
本实用新型水冷模块作用于激光模块，且水冷模块宽幅调节激光模块的温度，半导体TEC制冷模块作用于激光模块，且半导体TEC制冷模块精确调节激光模块的温度，风冷模块作用于半导体TEC制冷模块，且风冷模块宽幅调节半导体TEC制冷模块的温度，从而通过水冷模块和半导体TEC制冷模块可以精确地控制激光模块的温度;本实用新型不仅可以提供足够大的制冷量，同时功率可以做得更大，两种制冷方式联合制冷，温度控制精度可以做到0.1度以下，温度控制更稳定，激光使用寿命更长。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种新型大功率高精度450nm激光光源系统的逻辑框图。
图中：1风冷模块、2半导体TEC制冷模块、3激光模块、4水冷模块。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1，一种新型大功率高精度450nm激光光源系统，包括风冷模块1、半导体TEC制冷模块2、激光模块3和水冷模块4，激光模块3采用450nm激光光源，激光模块3上安装有半导体TEC制冷模块2和水冷模块4，水冷模块4作用于激光模块3，且水冷模块4宽幅调节激光模块3的温度，半导体TEC制冷模块2作用于激光模块3，且半导体TEC制冷模块2精确调节激光模块3的温度，半导体TEC制冷模块2上安装有风冷模块1，风冷模块1作用于半导体TEC制冷模块2，且风冷模块1宽幅调节半导体TEC制冷模块2的温度，激光模块3为二极管激光器，风冷模块1设有多组，且至少有两组，风冷模块1呈直线排列或者圆周排列，风冷模块1为制冷压缩机，水冷模块4为激光水冷机。
水冷模块4作用于激光模块3，且水冷模块4宽幅调节激光模块3的温度，半导体TEC制冷模块2作用于激光模块3，且半导体TEC制冷模块2精确调节激光模块3的温度，风冷模块1作用于半导体TEC制冷模块2，且风冷模块1宽幅调节半导体TEC制冷模块2的温度，从而通过水冷模块4和半导体TEC制冷模块2可以精确地控制激光模块3的温度。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。