基板处理装置及基板处理方法与流程

文档序号:17583880发布日期:2019-05-03 21:09阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
在基板处理装置(1)中,第一杯部(161)整周地位于在基板(9)的周围所形成的环状开口(81)的径向外侧,以接收从旋转的基板(9)飞散的处理液。杯部移动机构(162)使第一杯部(161)在环状开口(81)的径向外侧的第一位置和比第一位置更靠下方的第二位置之间沿着上下方向移动。第二杯部(164)配置于第一杯部(161)的上侧,并在第一杯部(161)位于第二位置的状态下整周地位于环状开口(81)的径向外侧,以接收从旋转的基板(9)飞散的处理液。第二杯部(164)通过腔室开闭机构(131)或杯部移动机构(162)而沿着上下方向移动。由此,能够一边抑制使基板处理装置(1)的结构构件移动的机构的增加,一边形成多个种类的密闭空间。

技术研发人员:三浦丈苗
受保护的技术使用者:株式会社斯库林集团
技术研发日:2017.07.10
技术公布日:2019.05.03
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