用于图案化应用的自底向上的柱状体的几何控制的制作方法

技术特征：

技术总结
描述了包含在自对准工艺中用第二柱状体材料选择性替换第一柱状体材料的处理方法。所述第一柱状体材料可以垂直于基板表面生长并用第二柱状体材料替换，以留下与第一柱状体材料大体相似的形状和对准。

技术研发人员：段子青;阿卜希吉特·巴苏·马尔利克
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2017.11.07
技术公布日：2019.06.21