本发明涉及湿式制程设备领域，尤其涉及一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置。
背景技术：
半导体制程是在超洁净无尘室进行的，仍然有些污染源的存在，至于污染源的来源，不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程工程师人体自身与动作的影响、化学材料或制程药剂残留或不纯度的发生，以及制程反应产生物的结果，尤其是制程反应产生物一项，更成为制程污染的主要来源，大多会造成良率和可靠度的下降；在半导体制程中，无论是在去光阻、化学气相沉淀、氧化扩散、晶圆研磨以后等各阶段制程都需要反复清洗步骤。
湿式制程机台在半导体产业已是成熟发展，但有些机构设计，使用上有维修困难、耗液量大、均匀性不佳、漏液，背面脏污等等问题。其中若为高温制程，制程中产生气体量大，常会造成气体排出负担大，影响设备正常工作的同时，也会使得机台零件寿命减短，另外，在高温制程过程中，需要提高高温环境，排出的高温气体带走了设备内温度，减少了热量利用率，增加了能源耗损。
技术实现要素：
本发明正是针对现有技术存在的不足，提供了一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置。
为解决上述问题，本发明所采取的技术方案如下：
一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置，包括箱体和风机，所述箱体为矩形腔体，箱体一侧上表面设有排气口，箱体两侧分别设有抽气口和进气口，进气口位于排气口一侧，箱体内腔上部设有气体交换管，气体交换管弧形固定安装在箱体内，且与排气口联通，气体交换管下方设有水平固定的喷淋管，喷淋管与气体交换管在空间上垂直，箱体内腔底部设有水平安装的多组滚动滑辊，滚动滑辊分别与喷淋管在空间上垂直，滚动滑辊上水平放置有盛放产品的基板，所述风机安装在箱体外部，风机的进风口与箱体的抽气口管路联通，风机的出风口与箱体的进气口管路联通。
进一步的，所述基板在滚动滑辊上定向定位移动，且喷淋管位于基板的正上方。
进一步的，所述抽气口与风机之间设有过滤装置。
进一步的，所述进气口设有回转的缓冲管。
本发明与现有技术相比较，本发明的有益效果如下：
本发明所述的一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置，半导体湿式高温制程过程中产生的大量的水蒸气，风机工作时，抽气口抽取箱体内带有高热量的水蒸气，通过风机的配合管路，然后将高温气体通过进气口通入箱体中，实现腔体内高温气体的再生利用，节省高温气体使用量，节约能耗，同时，降低排气口的高温气体排放负担，保证了机台的正常工作，提高了机台零部件的使用寿命。
附图说明
图1为本发明所述的一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置结构示意图；
图2为本发明所述的一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置左视结构示意图。
具体实施方式
下面将结合具体的实施例来说明本发明的内容。
如图1和图2所示，所述的一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置，包括箱体10和风机20，所述箱体10为矩形腔体，箱体10一侧上表面设有排气口11，箱体10两侧分别设有抽气口12和进气口13，进气口13位于排气口11一侧，箱体10内腔上部设有气体交换管14，气体交换管14弧形固定安装在箱体内，且与排气口11联通，气体交换管14下方设有水平固定的喷淋管15，喷淋管15与气体交换管14在空间上垂直，箱体10内腔底部设有水平安装的多组滚动滑辊16，滚动滑辊16分别与喷淋管15在空间上垂直，滚动滑辊16上水平放置有盛放产品的基板17，所述风机20安装在箱体10外部，风机20的进风口与箱体10的抽气口12管路联通，风机20的出风口与箱体10的进气口13管路联通。
所述的一种湿式制程设备气体回抽循环使用装置，半导体湿式高温制程过程中产生的大量的水蒸气，风机20工作时，抽气口12抽取箱体10内带有高热量的水蒸气，通过风机20的配合管路，然后将高温气体通过进气口13通入箱体10中，实现腔体内高温气体的再生利用，节省高温气体使用量，节约能耗，同时，降低排气口的高温气体排放负担，保证了机台的正常工作，提高了机台零部件的使用寿命。
所述基板17在滚动滑辊16上定向定位移动，且喷淋管15位于基板17的正上方，保证基板17上盛放的半导体产品始终位于喷淋管15正下方，保证喷淋覆盖面最全面，喷淋效果最佳。
所述抽气口12与风机20之间设有过滤装置18，有效滤除高温气体中的杂质，避免影响风机的工作同时，通入箱体10中含有杂质的高温气体，污染产品。
所述进气口13设有回转的缓冲管19，减缓风机20经进气口13送入箱体10中的高温气体产生强力冲击，影响产品的正常加工，破坏设备的稳定性。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。