非谐振亚纳秒脉冲激光器的制作方法

本发明涉及激光器技术领域，具体涉及一种非谐振亚纳秒脉冲激光器。

背景技术

随着激光技术的迅速发展，激光技术在各个领域所起的作用越来越巨大，从军用到民用，从科研到教学，从工业到农副业等众多领域。而在工程应用中，一些对加工热影响敏感的材料对激光的脉冲宽度有了更高的要求。实验证明，脉宽处于亚纳秒区间的激光在加工中具有更高效率，例如当在阳极氧化铝表面打黑时，采用脉宽在500ps～1ns之间的激光比采用脉宽5ns～10ns之间的激光的黑度提高20～30％，与此同时，其加工速度也提高了50～100％。因此，脉宽处于亚纳秒区间的激光在激光测距、激光雷达、激光探测和医疗领域都有越来越广泛的应用。

目前，现有的亚纳秒脉冲激光器主要通过削波法、饱和吸收体被动锁模法或微片激光法来发射亚纳秒区间的激光。其中，削波法要求在极短时间内打开开关，因此这种激光器对电路方面要求较高、稳定性差；而饱和吸收体被动锁模法因采用cr:yag、gaas等晶片作为可饱和吸收体来获得亚纳秒激光，因此激光的稳定性差且重复频率不能控制；微片激光器法由于利用很短的腔长压缩脉宽，因此难以获得较高的单脉冲能量。

技术实现要素：

本发明的目的是提供一种单脉冲能量高、稳定性强的非谐振亚纳秒脉冲激光器。

为实现上述目的，本发明提供了一种非谐振亚纳秒脉冲激光器，该激光器包括退压调q模块、泵浦源以及沿所述泵浦源的发射光路方向依次设置的泵浦耦合单元、双色镜、激光增益介质、q开关和反射镜；所述泵浦耦合单元用于将所述泵浦源发射的泵浦光透过所述双色镜聚焦到所述激光增益介质上，所述双色镜倾斜设置，所述激光增益介质朝向所述双色镜的一端镀设有高透膜；所述退压调q模块与所述q开关电连接。

其中，所述双色镜与所述反射镜之间的距离小于150mm。

其中，所述双色镜用于透射所述泵浦光和反射激光，且所述双色镜的反射率大于95％、透过率大于90％；所述反射镜为半透半反镜。

其中，所述q开关为电光q开关。

其中，所述电光q开关的材质为ktp、bbo、rtp或ln。

其中，激光增益介质的材质为nd:gdvo4、nd:yvo4、nd:yag或yb:yag。

其中，所述泵浦源为光纤耦合二极管或半导体激光二极管。

其中，所述泵浦耦合单元为泵浦二极管激光的准直聚焦单元。

其中，所述激光增益介质朝向所述q开关的一端为斜面。

其中，所述斜面的倾斜角度为布儒斯特角。

本发明结构简单、操作便捷，通过在激光增益介质朝向所述双色镜的一端镀设高透膜，并利用泵浦耦合单元将泵浦源发射的泵浦光穿过双色镜后全部聚焦在高透膜上，就可使激光增益介质中的反转粒子数大幅增加，从而不仅保证了激光在腔内一次渡越即可输出，进而有效控制了脉冲宽度，而且还提高了单脉冲能量。另外，由于该激光器采用了退压调q模块，因此无需再设置1/4波片，在降低成本同时还保证了脉宽输出的稳定性。

附图说明

图1是本发明实施例中的一种非谐振亚纳秒脉冲激光器的结构示意图。

附图标记：

1、泵浦源；2、泵浦耦合单元；2-1、透镜；3、双色镜；

4、激光增益介质；5、q开关；6、反射镜。

具体实施方式

为使发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合发明中的附图，对发明中的技术方案进行清楚地描述，显然，所描述的实施例是发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于发明保护的范围。

在本发明的描述中，除非另有说明，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的激光器或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

如图1所示，本发明提供了一种非谐振亚纳秒脉冲激光器，该激光器包括退压调q模块、泵浦源1以及沿泵浦源1的发射光路方向依次设置的泵浦耦合单元2、双色镜3、激光增益介质4、q开关5和反射镜6；泵浦耦合单元2用于将泵浦源1发射的泵浦光透过双色镜3聚焦到激光增益介质4上，双色镜3倾斜设置，激光增益介质4朝向双色镜3的一端镀设有高透膜；退压调q模块与q开关5电连接。

由此，当启动泵浦源1时，泵浦源1发射的泵浦光便依次通过泵浦耦合单元2、双色镜3、激光增益介质4和q开关5后被反射镜6全反射，经反射镜6反射后的光束则再次通过q开关5和激光增益介质4并由反射镜6反射输出。可见，该激光器结构简单、操作便捷，通过在激光增益介质4朝向双色镜3的一端镀设高透膜，并利用泵浦耦合单元2将泵浦源1发射的泵浦光穿过双色镜3后全部聚焦在高透膜上，就可使激光增益介质4中的反转粒子数大幅增加，从而不仅显著提高了增益、保证激光在腔内一次渡越即可输出，进而有效控制了脉冲宽度，而且提高了单脉冲能量。另外，由于该激光器采用了退压调q模块，因此无需再设置1/4波片，在降低成本同时还保证了脉宽输出的稳定性。

优选地，双色镜3与反射镜6之间的距离小于150mm。例如，双色镜3与反射镜6之间的距离为35mm。其中，双色镜3倾斜45°设置。另外，双色镜3和反射镜6的镜型可以根据实际的输出功率进行选择，例如反射镜6可以但不限于是半透半反镜，双色镜3用于透射泵浦光和反射激光，且双色镜3的反射率大于95％、透过率大于90％，也就是说，泵浦源1发射的泵浦光经泵浦耦合单元2聚焦后可直接穿过双色镜3照射在激光增益介质4上，而腔内产生的激光则会被双色镜3直接反射出去。

优选地，q开关5为电光q开关5。其中，电光q开关5的材质为ktp、bbo、rtp或ln。

优选地，激光增益介质4的材质为nd:gdvo4、nd:yvo4、nd:yag或yb:yag。例如，本实施例中激光增益介质4采用掺杂浓度为0.3％的nd:yvo4晶体，且该激光增益介质4朝向双色镜3的一端镀设透过率为99.8％的高透膜。

优选地，泵浦源1为光纤耦合二极管或半导体激光二极管。

优选地，泵浦耦合单元2为泵浦二极管激光的准直聚焦单元。更优选地，泵浦耦合单元2包括多个沿泵浦源1的发射光路方向依次设置的透镜2-1。例如，泵浦耦合单元2包括两个平行设置的透镜2-1，由此，启动泵浦源1后，泵浦源1发射的泵浦光穿过两个透镜2-1后便聚焦为直径为230μm的光斑，该光斑穿过双色镜3后就直接照射在激光增益介质4上，使其局部反转粒子数大幅增加。

进一步地，为了避免激光增益介质4产生寄生振荡，激光增益介质4朝向q开关5的一端为斜面。其中，斜面的倾斜角度优选为布儒斯特角，由此，该激光器就无需再设置偏振片。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离发明各实施例技术方案的精神和范围。