本发明涉及电子器件研制方法领域，具体是一种新型的纳米晶硬化磁芯研制方法。
背景技术：
磁芯的种类很多，制作样式也各种各样，普通纳米晶磁芯是由纳米晶带材绕制、经过热处理退货后，装入护盒而成，而纳米晶磁芯由于其特殊的材料，热处理完成后发脆，在外力影响下容易变形、损坏，从而造成磁芯的导磁率降低，进而影响其产成品的产品特性。
现有的纳米晶磁芯是由纳米晶带才绕制而成，由于其材料的特殊性，退火后容易出现脆裂，性能下降等现象，尤其在搬运及后期加工中，更易造成此类问题，而其他防止脆化及性能下降的工艺多采用喷涂方法，需多次喷涂，加工难度大，而且由于其多次喷涂造成其在喷涂时性能下降较多，无法满足客户需要。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种新型的纳米晶硬化磁芯研制方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种新型的纳米晶硬化磁芯研制方法，包括以下步骤：
s1：将热处理完成的磁芯放置在常温环境中，使其自然冷却至常温状态；
s2：将冷却至室温状态的磁芯，用手或工具轻拿轻放在网格状铁盘中，磁芯与磁芯间距大约5mm左右，均匀布满网格状铁盘；
s3：将布满磁芯的网格状铁盘完全浸没入装有硬化液的塑料桶中，使其磁芯完全浸透；
s4：将浸透硬化液的磁芯，摆放在专用的料架上，使磁芯表面多余的硬化液完全渗出，并保持1小时，使磁芯硬化；
s5：将硬化的磁芯从网格状铁盘中取下，对于磁芯进行外观检查，对于表面冗余较多残留的进行报废处理；
s6：将外观完好的磁芯装入磁芯专用的型号护盒中，对其进行毫伏值量的测试，如达到要求则包装入库；如未达到图纸要求，则将磁芯从护盒中取出，进行报废处理。
作为本发明进一步的方案：所述磁芯表面硬化液形成硬化保护膜。
作为本发明进一步的方案：所述硬化保护膜的厚度为0.01～0.02mm。
作为本发明再进一步的方案：所述网格状铁盘采用带孔结构。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明生产环节简化，生产时间缩短，有效的保持了磁性材料的性能，生产的产品具有一定的抗外应力作用，有一定的开创作用。
具体实施方式
基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
将热处理完成的磁芯放置在常温环境中，使其自然冷却至常温状态；将冷却至室温状态的磁芯，用手或工具轻拿轻放在网格状铁盘中，磁芯与磁芯间距大约5mm左右，均匀布满网格状铁盘；将布满磁芯的网格状铁盘完全浸没入装有硬化液的塑料桶中，使其磁芯完全浸透；将浸透硬化液的磁芯，摆放在专用的料架上，使磁芯表面多余的硬化液完全渗出，
并保持1小时，使磁芯硬化；将硬化的磁芯从网格状铁盘中取下，对于磁芯进行外观检查，对于表面冗余较多残留的进行报废处理；将外观完好的磁芯装入磁芯专用的型号护盒中，对其进行毫伏值量的测试，如达到要求则包装入库；如未达到图纸要求，则将磁芯从护盒中取出，进行报废处理。
磁芯在退火完成后，冷却至室温；退火后一般采用的是常温冷却就行，采用的是退火完成后将磁芯放入恒温室，这样做的好处就是最大程度的减少外界环境对磁芯的影响，更有利于整体产品的一致性。
再将磁芯按间距大约5mm左右的空隙均匀摆放在网格状盘中；摆放一般是摆放在无孔平板上。所述网格状铁盘采用带孔结构，有利于产品浸完漆后最大程度减少磁芯表面物质的残留。
将摆满磁芯的网盘浸入含有硬化液的容器中，待磁芯完全浸透后，将网状盘从容器中取出，放在干净镂空车上，将多余的固化液流干，经过室温大约1小时，即可自然硬化。普通喷涂的工艺是采用喷枪对磁芯表面进行喷涂，容易造成表面喷涂不匀，且因为喷涂需要进行上面和底面两次喷涂，再加上烘烤时间，工时耗费时间长，且喷涂容易影响环境，设备投资金额大；而浸漆浸泡一次就可以，采用容器放置硬化液，投资少，易操作，不会对环境造成影响。
所述磁芯表面硬化液形成硬化保护膜，硬化保护膜的厚度为0.01～0.02mm，具有抗一定的外应力的作用。
本发明生产环节简化，生产时间缩短，有效的保持了磁性材料的性能，生产的产品具有一定的抗外应力作用，有一定的开创作用。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。