技术特征：
技术总结
公开了基板处理设备及检查处理液喷嘴的方法。所述基板处理设备包括：支承构件，其配置为支承基板；处理液喷嘴，其配置为排出处理液至位于所述支承构件上的所述基板；光源，其配置为将光照射到所述基板的点，所述处理液排出到所述基板的所述点；照相机，其配置为对所述基板的点进行拍照，所述处理液排出到所述基板的所述点；以及控制器，其配置为通过所述照相机捕获的图像判断当所述处理液与所述基板碰撞时是否产生冠。
技术研发人员：金光燮
受保护的技术使用者：细美事有限公司
技术研发日：2018.10.12
技术公布日：2019.04.19