技术特征：
技术总结
本公开涉及一种装置(10，12)以及一种用于制造装置(10，12)的方法。其中，该装置(10，12)主要包括具有光探测器(12)的基底(11)和布置在基底(11)上的介电质(18)。该装置(10，12)还包括布置在介电质(18)的第一侧(18a)上的微透镜(13)，该微透镜被构造用于将射入的射线(14)偏转到光探测器(12)上。此外，该装置(10，12)包括无载体的光学的干涉滤波器(15)，其中，微透镜(13)布置在光探测器(12)与干涉滤波器(15)之间，并且干涉滤波器(15)在背离光探测器(12)的侧(15a)上具有平坦的表面(17)。
技术研发人员：I·尤里格;A·基尔施纳;D·奥芬贝格;B·波伊奇克;B·绍斯纳;T·施密兹-许布施;M·福格特
受保护的技术使用者：英飞凌科技德累斯顿公司
技术研发日：2018.10.22
技术公布日：2019.05.03