一种用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器的制作方法

文档序号:15683746发布日期:2018-10-16 20:50阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器,其特征在于为p-i-n外延结构,衬底采用双抛4H-SiC衬底,在双抛4H-SiC衬底的Si面上外延生长N型SiC缓冲层,所述N型SiC缓冲层作为p-i-n的N型欧姆接触层,在N型SiC缓冲层上外延生长i型层,所述i型层作为器件的光子吸收层,在i型层上外延一层P+型层并构成紫外探测芯片的p-i-n结构;在P+型层的钝化层上刻蚀P型电极窗口,所述P型电极窗口上设有P型电极和P型焊盘;在N型SiC缓冲层的钝化层上刻蚀N型电极窗口,在N型电极窗口上设有N型电极与N型焊盘。

2.如权利要求1所述一种用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器,其特征在于所述双抛4H-SiC衬底采用高纯偏轴4°的双抛4H-SiC衬底。

3.如权利要求1所述一种用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器,其特征在于所述N型SiC缓冲层的厚度为0.5μm。

4.如权利要求1所述一种用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器,其特征在于所述i型层的SiC非刻意掺杂厚度为0.8μm。

5.如权利要求1所述一种用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器,其特征在于所述P+型层的厚度为0.2μm。

6.如权利要求1所述一种用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器,其特征在于所述P型电极窗口为P型环状电极窗口。

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