基板及制备方法与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种基板及制备方法。

背景技术：

在显示面板制备工艺中，有些功能膜层，如配向膜层、有机绝缘光阻层、色阻层、支撑柱等，需要使用涂布工艺在已有膜层上制备，如果膜层使用材料粘度较低以及易流动，这些功能膜层成膜后，膜层边缘容易出现膜厚不均等问题，从而导致周边的显示不均，严重影响显示装置的显示品质。

为了解决这个问题，如图1所示，现有技术在非显示区设置外凸挡墙11，但是膜层材料会在外凸挡墙11的位置堆积或者阻挡回流，引起膜层边缘膜厚不均。

即，现有涂布技术存在膜层边缘厚度不均的技术问题，需要改进。

技术实现要素：

本发明提供一种基板及制备方法，以缓解现有涂布技术存在的膜层边缘厚度不均的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明实施例提供一种基板，其包括：

第一膜层；

第二膜层，涂布在所述第一膜层的涂布区域；

其中，在所述涂布区域的边缘区域，所述第一膜层形成有凹槽。

在本发明实施例提供的基板中，所述凹槽贯穿所述第一膜层。

在本发明实施例提供的基板中，所述凹槽的深度大于所述第一膜层厚度的一半。

在本发明实施例提供的基板中，所述边缘区域位于非显示区内。

在本发明实施例提供的基板中，所述凹槽为连续凹槽，或者不连续凹槽。

在本发明实施例提供的基板中，所述凹槽为点状凹槽，或者块状凹槽。

在本发明实施例提供的基板中，所述凹槽为一行或者多行。

在本发明实施例提供的基板中，所述基板为彩膜基板，所述第一膜层为透明导电层，所述第二膜层为配向膜层。

在本发明实施例提供的基板中，所述基板为阵列基板，所述第一膜层为遮光层、支撑柱、色阻层、像素电极中的一种，所述第二膜层为配向膜层、有机绝缘光阻层、支撑柱、色阻层中的一种。

本发明实施例提供一种基板制备方法，其包括：

提供一衬底；

在所述衬底上形成第一膜层；

对所述第一膜层围绕涂布区域的边缘区域进行处理，形成凹槽；

在所述涂布区域内涂布第二膜层。

本发明的有益效果为：本发明提供一种基板及制备方法，该基板包括第一膜层，第二膜层，涂布在所述第一膜层的涂布区域，其中，在所述涂布区域的边缘区域，所述第一膜层形成有凹槽；在本发明中，基于第一膜层形成的凹槽，能缓冲流体状的第二膜层向外扩散或者在边缘堆积，提升边缘膜厚的均匀性，同时在凹槽的设置区域，不会出现堆积或者阻挡回流等现象，进一步提升边了缘膜厚的均匀性，缓解了现有涂布技术存在的膜层边缘厚度不均的技术问题。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有基板的结构示意图。

图2为本发明实施例提供的基板的第一种结构示意图。

图3为本发明实施例提供的基板的第二种结构示意图。

图4为本发明实施例提供的凹槽的设置示意图。

图5至图9为本发明实施例提供的基板制备方法的流程示意图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。

针对现有涂布技术存在的膜层边缘厚度不均的技术问题，本发明实施例可以缓解。

在一种实施例中，如图2所示，本发明提供的基板20包括：

衬底201，如玻璃衬底、柔性衬底等；

第一膜层202；

第二膜层203，涂布在所述第一膜层202的涂布区域ta；

其中，在所述涂布区域ta的边缘区域ba，所述第一膜层202形成有凹槽204。

本实施例提供一种基板，该基板包括第一膜层，第二膜层，涂布在所述第一膜层的涂布区域，其中，在所述涂布区域的边缘区域，所述第一膜层形成有凹槽；在本实施例中，基于第一膜层形成的凹槽，能缓冲流体状的第二膜层向外扩散或者在边缘堆积，提升边缘膜厚的均匀性，同时在凹槽的设置区域，不会出现堆积或者阻挡回流等现象，进一步提升边了缘膜厚的均匀性，缓解了现有涂布技术存在的膜层边缘厚度不均的技术问题。

在一种实施例中，如图2所示，所述凹槽204贯穿所述第一膜层202，此时第一膜层202不是遮光层，以避免凹槽204的位置漏光，或者金属层反光。

在一种实施例中，如图3所示，所述凹槽204的深度大于所述第一膜层202厚度的一半。

在一种实施例中，所述凹槽204的深度大于所述第一膜层202厚度的一半，小于所述第一膜层202厚度的三分之二。

在一种实施例中，如图3所示，所述边缘区域ba位于非显示区na内，这样就不会影响显示区aa的显示效果。

在一种实施例中，如图4所示，所述凹槽为连续凹槽2041，或者不连续凹槽2042。

在一种实施例中，如图4所示，所述凹槽为点状凹槽2043，或者块状凹槽2044。

在一种实施例中，如图4所示，所述凹槽204为多行。

在一种实施例中，所述凹槽为一行，以简化设计复杂度。

在一种实施例中，所述基板为彩膜基板，所述第一膜层为透明导电层，所述第二膜层为配向膜层。

在一种实施例中，所述基板为阵列基板，第一膜层为遮光层、支撑柱、色阻层、像素电极中的一种，所述第二膜层为配向膜层、有机绝缘光阻层、支撑柱、色阻层中的一种。

在一种实施例中，透明导电层的材料可以为氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铝锌等。

在一种实施例中，像素电极层的材料可以是铜钼叠层、铜钼钛叠层、铜钛叠层，铝钼叠层，铜铌合金、镍铬合金等。

在一种实施例中，为了制备得到图2所示的基板，如图5所示，本发明实施例提供的基板制备方法包括以下步骤：

如图5所示，提供一衬底201。

衬底201可以是玻璃基板、柔性基板等，并进行清洗等处理。

如图6所示，在所述衬底201上形成第一膜层202。

在一种实施例中，所述基板为彩膜基板，所述第一膜层202为透明导电层。

在一种实施例中，所述基板为阵列基板，所述第一膜层为遮光层、支撑柱、色阻层、像素电极中的一种。

如图7所示，对所述第一膜层202围绕涂布区域的边缘区域ba进行处理，形成凹槽204。

在一种实施例中，可以使用光刻等工艺，对所述第一膜层202涂布区域的边缘区域ba进行处理，形成凹槽204。

在一种实施例中，本步骤形成的所述凹槽贯穿所述第一膜层。

在一种实施例中，本步骤形成的所述凹槽的深度大于所述第一膜层厚度的一半。

在一种实施例中，本步骤形成的所述边缘区域位于非显示区内。

在一种实施例中，本步骤形成的所述凹槽为连续凹槽，或者不连续凹槽。

在一种实施例中，本步骤形成的所述凹槽为点状凹槽，或者块状凹槽。

在一种实施例中，本步骤形成的所述凹槽为一行或者多行。

如图8所示，在所述涂布区域内涂布第二膜层203的膜层材料。

在一种实施例中，所述基板为彩膜基板，所述第二膜层为配向膜层。

在一种实施例中，所述基板为阵列基板，所述第二膜层为配向膜层、有机绝缘光阻层、支撑柱、色阻层中的一种，且与第一膜层202的膜层不同。

如图9所示，第二膜层203的膜层材料流动固化后，形成所述第二膜层。

在一种实施例中，本发明实施例还提供了一种液晶显示面板，该液晶显示面板的基板包括：

第一膜层；

第二膜层，涂布在所述第一膜层的涂布区域；

其中，在所述涂布区域的边缘区域，所述第一膜层形成有凹槽。

本实施例提供了一种液晶显示面板，该液晶显示面板的基板包括第一膜层，第二膜层，涂布在所述第一膜层的涂布区域，其中，在所述涂布区域的边缘区域，所述第一膜层形成有凹槽；在本发明中，基于第一膜层形成的凹槽，能缓冲流体状的第二膜层向外扩散或者在边缘堆积，提升边缘膜厚的均匀性，同时在凹槽的设置区域，不会出现堆积或者阻挡回流等现象，进一步提升边了缘膜厚的均匀性，提供了液晶显示面板的显示品质。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示面板中，所述凹槽贯穿所述第一膜层。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示面板中，所述凹槽的深度大于所述第一膜层厚度的一半。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示面板中，所述边缘区域位于非显示区内。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示面板中，所述凹槽为连续凹槽，或者不连续凹槽。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示面板中，所述凹槽为点状凹槽，或者块状凹槽。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示面板中，所述凹槽为一行或者多行。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示面板中，所述基板为彩膜基板，所述第一膜层为透明导电层，所述第二膜层为配向膜层。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示面板中，所述基板为阵列基板，所述第一膜层为遮光层、支撑柱、色阻层、像素电极中的一种，所述第二膜层为配向膜层、有机绝缘光阻层、支撑柱、色阻层中的一种。

在一种实施例中，本发明实施例还提供了一种液晶显示装置，该液晶显示装置包括液晶显示面板，该液晶显示面板的基板包括：

第一膜层；

第二膜层，涂布在所述第一膜层的涂布区域；

其中，在所述涂布区域的边缘区域，所述第一膜层形成有凹槽。

本实施例提供了一种液晶显示装置，该液晶显示装置包括液晶显示面板，该液晶显示面板的基板包括第一膜层，第二膜层，涂布在所述第一膜层的涂布区域，其中，在所述涂布区域的边缘区域，所述第一膜层形成有凹槽；在本发明中，基于第一膜层形成的凹槽，能缓冲流体状的第二膜层向外扩散或者在边缘堆积，提升边缘膜厚的均匀性，同时在凹槽的设置区域，不会出现堆积或者阻挡回流等现象，进一步提升边了缘膜厚的均匀性，提供了液晶显示装置的显示品质。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示装置中，所述凹槽贯穿所述第一膜层。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示装置中，所述凹槽的深度大于所述第一膜层厚度的一半。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示装置中，所述边缘区域位于非显示区内。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示装置中，所述凹槽为连续凹槽，或者不连续凹槽。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示装置中，所述凹槽为点状凹槽，或者块状凹槽。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示装置中，所述凹槽为一行或者多行。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示装置中，所述基板为彩膜基板，所述第一膜层为透明导电层，所述第二膜层为配向膜层。

在一种实施例中，在本发明实施例提供的液晶显示装置中，所述基板为阵列基板，所述第一膜层为遮光层、支撑柱、色阻层、像素电极中的一种，所述第二膜层为配向膜层、有机绝缘光阻层、支撑柱、色阻层中的一种。

根据上述实施例可知：

本发明提供一种基板及制备方法、液晶显示面板及装置，该基板包括第一膜层，第二膜层，涂布在所述第一膜层的涂布区域，其中，在所述涂布区域的边缘区域，所述第一膜层形成有凹槽；在本发明中，基于第一膜层形成的凹槽，能缓冲流体状的第二膜层向外扩散或者在边缘堆积，提升边缘膜厚的均匀性，同时在凹槽的设置区域，不会出现堆积或者阻挡回流等现象，进一步提升边了缘膜厚的均匀性，缓解了现有涂布技术存在的膜层边缘厚度不均的技术问题。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。