一种基于复合型全介质的光可调高Q值太赫兹吸收器的制作方法

文档序号:18734249发布日期:2019-09-21 00:57阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种基于复合型全介质的光可调高Q值太赫兹吸收器,其特征在于,包括多个单元结构,所述单元结构由聚酰亚胺组成的衬底(1)和P型掺杂硅组成的顶层(2)构成。

2.根据权利要求1所述的一种基于复合型全介质的光可调高Q值太赫兹吸收器,其特征在于,所述衬底(1)的横切面为正方形,所述顶层(2)为圆柱体。

3.根据权利要求2所述的一种基于复合型全介质的光可调高Q值太赫兹吸收器,其特征在于,所述P型掺杂硅的电阻率为1Ω·cm-1~10Ω·cm-1

4.根据权利要求3所述的一种基于复合型全介质的光可调高Q值太赫兹吸收器,其特征在于,所述顶层(2)的半径为105μm~125μm,厚度为70μm~95μm。

5.根据权利要求4所述的一种基于复合型全介质的光可调高Q值太赫兹吸收器,其特征在于,所述衬底(1)的厚度为15μm~30μm。

6.根据权利要求5所述的一种基于复合型全介质的光可调高Q值太赫兹吸收器,其特征在于,所述顶层(2)的中心轴位于衬底(1)横切面对角线的交点处。

7.根据权利要求6所述的一种基于复合型全介质的光可调高Q值太赫兹吸收器,其特征在于,所述单元结构以N×N排列,且相邻单元结构的顶层(2)之间的距离为300μm~350μm。

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