一种蚀刻装置的制作方法

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种蚀刻装置。

背景技术：

在液晶显示面板制造过程中，湿法蚀刻装置应用十分广泛，涉及蚀刻、涂布显影、清洗等众多工序。

湿法蚀刻装置通常包括一排传送滚轴，在每个传送滚轴上设置有多个滚轮，通过传送滚轴的转动带动滚轮转动，以便于对基板进行传送。

但是，滚轮长期在各种酸性、碱性、有机药液的环境下浸泡或风干会造成滚轮磨损，从而产生尘粒，此时再与基板接触，会刮伤基板或者将尘粒粘在基板上，从而降低产品良率。

因此，有必要提供一种蚀刻装置，以解决现有技术所存在的问题。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种蚀刻装置，能够提高产品良率。

为解决上述技术问题，本发明提供一种蚀刻装置，包括：

支撑体；

多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；

多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁，所述滚轮与所述清洁件对应，所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应。

本发明的蚀刻装置，包括支撑体；多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁，所述滚轮与所述清洁件对应，所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应，由于在与滚轮对应的位置增加清洁件，从而能够在制程前对滚轮进行有效的清洁，防止尘粒刮伤基板或粘在基板上，进而提高了产品良率。

【附图说明】

图1为现有刻装置的结构示意图。

图2为本发明的蚀刻装置的结构示意图。

图3为图2中蚀刻装置的正视图。

【具体实施方式】

以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。

如图1所示，现有的蚀刻装置包括支撑体10、多个第一传送滚轴21。其中支撑体10包括两个相对的侧壁11、12和底板13，其中多个第一传送滚轴21设置在两个侧壁11、12之间，且多个第一传送滚轴21并排设置，也即位于同一平面内。每个第一传送滚轴21上均套装有多个滚轮22，第一传送滚轴21带动所述滚轮22转动。

请参照图2和3，图2为本发明的蚀刻装置结构示意图。

如图2和3所示，结合图1，本实施例的蚀刻装置包括支撑体10、第一传送滚轴21、滚轮22、第二传送滚轴23、多个清洁件24。

其中支撑体10包括两个相对的侧壁11、12和底板13，两个侧壁11、12均设于底板13上，也即底板13位于两个侧壁11、12的下方。

多个第一传送滚轴21设于支撑体10上，具体设置在两个侧壁11、12之间。每个第一传送滚轴21的其中一个端部设于其中一个侧壁11上，另外一个端部设于另外一个侧壁12上。多个第一传送滚轴21并排设置，也即位于第一平面内，也即各第一传送滚轴21的高度相等。

每个第一传送滚轴21上均套装有三个滚轮22，第一传送滚轴21可带动所述滚轮22转动。相邻两个滚轮22之间可间隔设置。当然滚轮的数量不限于三个，可以为一个、两个或者三个以上。

多个第二传送滚轴23也设于所述支撑体10上，具体设于两个所述侧壁11、12之间。其中多个所述第二传送滚轴23并排设置，也即位于第二平面内，换句话讲多个第二传送滚轴23的高度相等。其中所述第二传送滚轴23的高度与所述第一传送滚轴21的高度不等，或者说所述第一平面的高度与所述第二平面的高度不等。

清洁件24套装在所述第二传送滚轴23上。也即每个第二传送滚轴23上套装有三个所述清洁件24。所述清洁件24用于对所述滚轮22进行清洁，所述滚轮22与所述清洁件24对应，所述清洁件24的位置与对应的滚轮22的位置对应。在一实施方式中，为了提高清洁效果，所述滚轮22与所述清洁件24一一对应。也即每个滚轮22对应一清洁件24，当然也可多个滚轮22对应一个清洁件24。可以理解的，本实施例可在部分或者全部的滚轮22增加清洁件。当然清洁件的数量不限于三个，可以为一个、两个或者三个以上。

如图3所示，在一实施方式中，所述清洁件24设置在所述滚轮22的下方。此时所述第一平面的高度大于所述第二平面的高度。其中在一实施方式中，所述清洁件的24顶表面的形状为弧形，从而可增大清洁件与滚轮之间的接触面积。当然所述清洁件24的底表面的形状也可为弧形。当然，可以理解的，所述清洁件24也可设置在所述滚轮22的上方，在一实施方式中，所述清洁件的24底表面的形状为弧形。此时所述第一平面的高度小于所述第二平面的高度。或者在所述滚轮22的上方和下方均设置所述滚轮22。

为了进一步提高清洁效果，所述清洁件24的宽度d1大于或等于所述滚轮22的宽度d2。在一实施方式中，所述清洁件24的材料包括人造纤维、海绵、无尘布中的至少一种。

所述蚀刻装置还可包括升降组件(图中未示出)，所述升降组件与所述第二传送滚轴23连接，所述升降组件用于对所述第二传送滚轴23的高度进行调节。也即升降组件用于控制第二传送滚轴23的升降。在一实施方式中所述升降组件包括气缸。

所述蚀刻装置还可包括驱动组件，所述驱动组件与所述第二传送滚轴23连接，所述驱动组件用于使所述第二传送滚轴23转动，以带动所述清洁件24转动。

以清洁件设于滚轮下方为例，在具体工作过程中，在蚀刻制程前，先调节第二传送滚轴23或者第一传送滚轴21的高度，使得清洁件24的顶表面与滚轮22的底表面接触，在一实施方式中，第二传送滚轴23转动，并且带动清洁件24转动，以对滚轮的外表面进行全面清洁；在另一实施方式中，第一传送滚轴21转动，并且带动滚轮22转动，以对滚轮的外表面进行清洁。可以理解的，其余部件的工作原理与现有技术的相同。

在另一实施例中，所述清洁件24也可直接固定在所述支撑体10的底板上。也即本实施例中不需要第二传送滚轴。

本实施例的蚀刻装置在具体工作过程中，在蚀刻制程前，先调节第一传送滚轴21的高度，使得清洁件24的顶表面与滚轮22的底表面接触，第一传送滚轴21转动，并且带动滚轮22转动，以对滚轮的外表面进行清洁。可以理解的，其余部件的工作原理与现有技术的相同。

由于在现有的蚀刻装置的基础上增加清洁件，从而能够在制程前对滚轮的外表面进行有效的清洁，防止尘粒刮伤基板或粘在基板上，进而提高了产品良率。

本发明的蚀刻装置，包括支撑体；多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁，所述滚轮与所述清洁件对应，所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应，由于在与滚轮对应的位置增加清洁件，从而能够在制程前对滚轮进行有效的清洁，防止尘粒刮伤基板或粘在基板上，进而提高了产品良率。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。