高密封性晶圆清洗槽的制作方法

文档序号:20858252发布日期:2020-05-22 21:21阅读:来源:国知局

技术特征:

1.高密封性晶圆清洗槽,包括位于槽体下方的清洗腔(1),所述清洗腔(1)的上方设置有密封盖板(4),所述密封盖板(4)上开设有密封槽(40),所述清洗腔(1)内可放置有晶圆架(2);所述晶圆架(2)两侧固定于一组平行设置的机械臂(3)的下端;所述机械臂(3)的上端连接驱动机构(31)并位于所述密封盖板(4)的上方,所述机械臂(3)的下端穿过所述密封槽(40)并在所述驱动机构(31)的作用下带动所述晶圆架(2)在清洗腔(1)中移动,其特征在于:所述密封槽(40)内固定设置有一密封壳(5),所述密封壳(5)内包括至少两个宽度相同,长度不等的叠放的滑片(50),其中相对长的滑片放置于相对短的滑片的下方,所述机械臂(3)驱动至少一片所述滑片(50)在所述密封壳(5)的内部空间内滑动,所述滑片(50)在滑动过程中始终密封槽(40)进行密封。

2.根据权利要求1所述的高密封性晶圆清洗槽,其特征在于:所述密封壳(5)为一框体,且所述密封壳(5)的上下两面开设有一长宽相同的滑槽(51)。

3.根据权利要求2所述的高密封性晶圆清洗槽,其特征在于:每片所述滑片(50)均具有延其长度方向设置的长槽(52),所述长槽(52)为贯通所述滑片(50)上下端面的结构。

4.根据权利要求3所述的高密封性晶圆清洗槽,其特征在于:位于最上方的滑片(50)的长槽(52)的内轮廓与所述机械臂(3)的外轮廓相匹配,以使所述机械臂(3)可带动所述位于最上方的滑片(50)移动。

5.根据权利要求4所述的高密封性晶圆清洗槽,其特征在于:所述机械臂(3)穿过每个所述滑片(50)的长槽(52)。

6.根据权利要求5所述的高密封性晶圆清洗槽,其特征在于:所述滑片(50)的两端均垂直设置有用于限位的挡边(53)。

7.根据权利要求6所述的高密封性晶圆清洗槽,其特征在于:所述滑片(50)的长度及滑片(50)上设置的长槽(52)的长度从上至下依次递增。

8.根据权利要求7所述的高密封性晶圆清洗槽,其特征在于:所述驱动机构(31)控制所述机械臂(3)移动时,位于上方的所述滑片(50)始终对邻接于其下方的滑片(50)上的长槽(52)进行密封。

9.根据权利要求8所述的高密封性晶圆清洗槽,其特征在于:位于最下方的所述滑片(50)固定在所述密封壳(5)的内底上,其长宽与所述密封盖板(4)内壁的长宽相等,其上设置的长槽(52)的长度与所述滑槽(51)的长度相当。

10.根据权利要求9所述的高密封性晶圆清洗槽,其特征在于:位于最下方的所述滑片(50)与所述密封壳(5)之间设置有密封圈。


技术总结
本实用新型揭示了一种用于高密封性晶圆清洗槽,包括清洗腔,其上方设置有密封盖板,密封盖板上设有密封槽,清洗腔内放置有晶圆架;晶圆架两侧固定于一组平行设置的机械臂的下端;机械臂的上端连接驱动机构,机械臂的下端穿过密封槽并带动晶圆架在清洗腔中移动,密封槽内固设有一密封壳,密封壳内包括至少两个宽度相同,长度不等的叠放的滑片,其中相对长的滑片放置于相对短的滑片的下方,机械臂驱动滑片滑动,在滑动过程中滑片始终对密封槽进行密封。有益效果体现在:用多个滑片代替密封带,滑片与移动机构之间不接触,滑片不会因磨损影响密封效果;相邻滑片始终相互密封,不会使清洗液溢出腐蚀设备,或造成清洗液与空气接触挥发的不良影响。

技术研发人员:白忠华;张少阳;裴文龙;陈晨
受保护的技术使用者:苏州芯矽电子科技有限公司
技术研发日:2019.11.05
技术公布日:2020.05.22
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