沉积掩模单元的制作方法

本申请要求于2019年1月24日在韩国知识产权局提交的第10-2019-0009497号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。

本公开涉及一种掩模单元，更具体地，涉及一种在显示装置的制造工艺中用于沉积有机层的掩模单元。

背景技术：

随着多媒体的发展，显示装置变得越来越重要。因此，正在使用诸如有机发光显示器和液晶显示器的各种类型的显示装置。

在显示装置中，根据有机层的设计，有机发光显示器可以具有图案化的发射层结构。在具有图案化的发射层结构的有机发光显示器中，利用其发射不同颜色光的发光层分别设置在多个像素中。

在有机发光显示器中，例如，用于发射红光的红色有机发光层、用于发射绿光的绿色有机发光层和用于发射蓝光的蓝色有机发光层可以分别设置在红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素中。可以使用其中分别限定了与有机发光显示器的子像素相对应的开口的掩模单元(例如，精细金属掩模(“fmm”))将有机发光层分别图案沉积在有机发光显示器的发光区域中。

技术实现要素：

一个或更多个实施例提供了一种沉积掩模单元，该沉积掩模单元包括相对高分辨率的图案，确保了在固定到沉积掩模框架的工艺中在拉力下对于沉积掩模的足够的接触面积，并且不被焊接穿透或撕裂。

然而，本公开的特征不限于在此所阐述的特征。通过参照下面给出的本公开的详细描述，本公开的以上特征和其他特征对于本公开所属领域的普通技术人员将变得更加清楚。

沉积掩模单元的实施例包括：沉积掩模片，包括多个开口；以及沉积掩模框架，包括凸起部，沉积掩模片在凸起部处可附着到沉积掩模框架，凸起部包括支撑部以及从支撑部的上表面突出的接合部，接合部的上表面是弯曲的。

在示例性实施例中，附着到沉积掩模框架的沉积掩模片可以与支撑部分隔开。

在示例性实施例中，沉积掩模片的厚度可以是约1微米(μm)至约100μm。

在示例性实施例中，接合部的上表面距支撑部的上表面的最大高度可以等于沉积掩模片的厚度。

在示例性实施例中，沉积掩模片的所述多个开口使沉积材料穿过，并且所述多个开口之中的相邻开口之间的距离是约5微米至约15微米。

在示例性实施例中，每平方英寸内的开口的数量可以是大约1000000或更多。

在示例性实施例中，接合部的上表面距支撑部的上表面的最大高度可以是约0.01毫米(mm)至约0.03mm。

在示例性实施例中，支撑部可以包括与支撑部的上表面相对的下表面，并且支撑部的上表面可以包括位于距下表面不同高度处的第一上表面部和第二上表面部。

在示例性实施例中，下表面与第一上表面部之间的第一厚度可以是约15mm至约20mm，下表面与第二上表面部之间的第二厚度可以是约12mm至约17mm。

在示例性实施例中，支撑部还可以包括将第一上表面部和第二上表面部彼此连接的中间侧表面，中间侧表面相对于下表面倾斜。

在示例性实施例中，支撑部和接合部可以包括彼此不同的材料。

在示例性实施例中，接合部可以包括铝、铜、镍和镁中的至少一种。

在示例性实施例中，第一上表面部距下表面的高度可以大于第二上表面部距下表面的高度，并且接合部可以从第一上表面部突出。

沉积掩模单元的实施例包括：多个沉积掩模片，所述多个沉积掩模片中的每个包括多个开口；以及沉积掩模框架，包括多个凸起部，所述多个沉积掩模片在所述多个凸起部处分别可附着到沉积掩模框架，所述多个凸起部在第一方向上被多个凹陷部彼此分隔开，其中，所述多个凸起部中的每个包括支撑部以及从支撑部的上表面突出的接合部，并且所述多个沉积掩模片之中的附着到沉积掩模框架的沉积掩模片被设置为与接合部接触并与支撑部分隔开。

在示例性实施例中，凸起部和凹陷部可以在第一方向上彼此交替。

在示例性实施例中，所述多个沉积掩模片之中的附着到沉积掩模框架的沉积掩模片可以在第一方向上彼此分隔开。

在示例性实施例中，附着到沉积掩模框架的沉积掩模片可以将凹陷部分别设置在沉积掩模片之中的相邻沉积掩模片之间。

在示例性实施例中，接合部的上表面可以是弯曲的，并且附着到沉积掩模框架的沉积掩模片可以焊接到接合部的上表面。

在示例性实施例中，沉积掩模框架限定开口区域，并且附着到沉积掩模框架的沉积掩模片与开口区域叠置。

在示例性实施例中，所述多个沉积掩模片可以包括因瓦合金。

附图说明

通过以下结合附图对实施例的描述，这些特征和/或其他特征将变得清楚并更容易理解，在附图中：

图1是掩模单元的实施例的示意性透视图；

图2是图1的掩模单元的掩模框架的实施例的透视图；

图3是图1的掩模单元的掩模片的实施例的透视图；

图4是图3的部分ff1的放大俯视平面图；

图5和图6是示意性地示出图1的掩模单元的制造顺序的实施例的透视图；

图7是沿着图2的线i-i'截取的剖视图；

图8是示出掩模片的拉力施加及焊接工艺的实施例的剖视图；

图9是掩模单元的掩模框架的修改实施例的剖视图；

图10是掩模单元的掩模框架的另一修改实施例的剖视图；

图11是掩模单元的掩模框架的另一实施例的透视图；

图12是沿着图11的线ii-ii'截取的剖视图；

图13是掩模单元中的掩模框架的又一实施例的透视图；

图14是沿着图13的线iii-iii'截取的剖视图；

图15是掩模单元的掩模框架的又一实施例的透视图；

图16是沿着图15的线iv-iv'截取的剖视图；并且

图17是掩模单元的掩模框架的又一实施例的剖视图。

具体实施方式

现在将在下文中参照其中示出了发明的实施例的附图来更全面地描述发明。然而，本发明可以以不同的形式实施，并且不应被解释为限于在此所阐述的实施例。而是，提供这些实施例使得本公开将是透彻和完整的，并且将向本领域技术人员充分地传达发明的范围。

还将理解的是，当元件被称为与另一元件相关(诸如“在”另一层或基底“上”)时，所述元件可以直接在所述另一层或基底上，或者也可以存在中间层。相反，当元件被称为与另一元件直接相关(诸如“直接在”另一元件“上”)时，不存在中间元件。

将理解的是，尽管在此可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应受到这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。例如，下面讨论的第一元件可以被命名为第二元件而不脱离发明的教导。类似地，第二元件也可以被命名为第一元件。

在此所使用的术语仅出于描述具体实施例的目的，而不意图是限制性的。如在此所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式“一”、“一个(种/者)”和“所述(该)”旨在包括复数形式(包括“至少一个”)。“至少一个”不应被解释为限制“一”或“一个(种/者)”。“或”是指“和/或”。如在此所使用的，术语“和/或”包括相关所列项中的一个或更多个的任何组合和所有组合。还将理解的是，术语“包括”和/或“包含”或其变型用在本说明书中时，说明存在所陈述的特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组，但不排除存在或附加一个或更多个其他特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。

此外，诸如“下”或“底”以及“上”或“顶”的相对术语在此可以用于描述如在图中所示的一个元件与另一元件的关系。将理解的是，相对术语旨在涵盖装置除图中描绘的方位以外的不同方位。例如，如果一幅图中的装置被翻转，则被描述为“在”其他元件的“下”侧上的元件随后将被定位为“在”所述其他元件的“上”侧上。因此，根据图的具体方位，示例性术语“下”可以涵盖“下”和“上”两个方位。类似地，如果一幅图中的装置被翻转，则被描述为“在”其他元件“下方”或“下面”的元件随后将被定位为“在”所述其他元件“上方”。因此，示例性术语“在……下方”或“在……下面”可以涵盖上方和下方两个方位。

如在此所使用的“大约(约)”或“近似”包括所陈述的值，并且表示：考虑到所讨论的测量和与具体量的测量有关的误差(即，测量系统的局限性)，在如由本领域普通技术人员所确定的具体值的可接受偏差范围内。例如，“大约(约)”可以表示在一个或更多个标准偏差内，或者在所陈述的值的±30％、±20％、±10％或±5％内。

除非另外定义，否则在此所使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常所理解的含义相同的含义。还将理解的是，术语(诸如在通用词典中定义的术语)应被解释为具有与它们在相关领域的背景下和本公开中的含义相一致的含义，并且将不以理想化或过于正式的意义来进行解释，除非在此被明确这样限定。

在此参照作为理想化实施例的示意图的剖视图来描述示例性实施例。如此，将预料到例如由制造技术和/或公差导致的图示形状的变化。因此，在此所描述的实施例不应被解释为限于如在此示出的区域的具体形状，而是将包括由例如制造引起的形状上的偏差。例如，示出或描述为平坦的区域通常可以具有粗糙和/或非线性特征。此外，示出的锐角可以被倒圆。因此，图中示出的区域本质上是示意性的，并且这些区域的形状不旨在示出区域的精确形状，也不旨在限制本权利要求书的范围。

根据一个或更多个实施例的沉积掩模单元可以用于诸如在显示装置的基底上沉积显示装置的有机材料层和/或无机材料层的沉积工艺中。沉积掩模单元可以包括一个或更多个沉积掩模可固定到其的沉积掩模框架。为了便于描述，上述沉积掩模单元、沉积掩模框架和沉积掩模贯穿本公开被称为掩模单元、掩模框架和掩模片。

显示装置可以是有机发光显示器、液晶显示器或微发光二极管(“led”)显示器。沉积掩模单元可以用于沉积作为示例显示装置的有机发光显示器的有机发光层或有机薄膜(诸如空穴注入层/空穴传输层或者电子注入层/电子传输层)，并且还可以用于沉积显示装置的其他有机膜、无机膜、金属图案等。

在下文中，将参照附图更详细地描述本公开的实施例。附图中同样的元件将由同样或类似的附图标记表示。

图1是掩模单元1的实施例的示意性透视图。图2是图1的掩模单元1的掩模框架10的实施例的透视图。图3是图1的掩模单元1的掩模片20a的实施例的透视图。图4是图3的部分ff1的放大俯视平面图。

参照图1至图4，掩模单元1主要由具有矩形形状的掩模框架10和多个掩模片20组成，所述多个掩模片20中的每个的形状像具有预定厚度并可安装在掩模框架10上的平板。

掩模框架10可以限定沉积材料穿过其的区域。即，掩模框架10可以将其平面区域限定为沉积区域，沉积材料在该沉积区域处穿过掩模框架10以设置在掩模框架10下方的目标基底上。在此，多个掩模片20可以布置并固定在掩模框架10的上表面上。具体地，多个掩模片20中的掩模片20a可以在拉力f(见图6)施加到掩模片20a的同时固定在掩模框架10上。

掩模框架10是矩形框架，所述矩形框架在掩模框架10的中心处具有呈基本上矩形形状的第一开口区域350，并且掩模框架10包括彼此连接以形成矩形框架的第一构件310、第二构件320、第三构件330和第四构件340。第一构件310和第三构件330可以跨越第一开口区域350彼此面对，并且可以分别垂直地连接到第二构件320和第四构件340。在此，第二构件320和第四构件340可以跨越第一开口区域350彼此面对。

第一构件310和第三构件330可以与矩形框架的在第一方向dr1上纵向延伸的相对长的边相对应，第二构件320和第四构件340可以与矩形框架的在第二方向dr2上纵向延伸的相对短的边相对应。在此，第一方向dr1和第二方向dr2可以理解为彼此相交的方向。另外，第三方向dr3可以是掩模单元1的厚度方向，并且可以理解为与第一方向dr1和第二方向dr2都相交的方向。

在制造掩模单元1之前，掩模片20a可以呈与掩模框架10分开的条状的形式。在此，掩模单元1可以包括设置为多个的掩模片20a。多于一个的掩模片20a可以在第一方向dr1上彼此相邻布置。每个掩模片20a可以是具有多个开口(第一开口2201、2202、2203和2204)的精细金属掩模(“fmm”)，多个开口(第一开口2201、2202、2203和2204)以与将要设置或形成在目标基底上的薄膜图案相对应的图案来布置。

每个掩模片20a包括主体，该主体包括主体部241、242和250、沉积部211和212、虚设部231和232以及结合部221和222。主体部241、242和250与结合部221和222可以是主体的为实心(例如，不包括开口)的平面区域。沉积部211和212是主体的包括与主体的实心部交替的开口的平面区域，如此以形成被主体的实心部分开的开口的矩阵。虚设部231和232也可以是主体的包括被主体的实心部分开的开口的平面区域。主体部241、242和250、沉积部211和212、虚设部231和232以及结合部221和222一起限定了整个掩模片20a。

掩模片20a的主体可以设置或形成为具有相对长的边和相对短的边的板的形状。主体的相对的端部中的至少一个可以凹进。在实施例中，例如，凹进可以限定在主体的相对短的边中的至少一个中，诸如限定在主体部241或242处。参照图3，例如，主体的在主体部241或242处的相对短的边中的至少一个可以包括设置或形成为直线的线性部14以及从线性部14延伸的凹进部15。凹进部15可以在从主体的在主体部241处的第一端部朝向主体的在主体部242处的第二端部的方向上从线性部14凹进，或者可以在从主体的在主体部242处的第二端部朝向主体的在主体部241处的第一端部的方向上从线性部14凹进。凹进部15在俯视平面图中可以具有弧形形状。在实施例中，例如，凹进部15在俯视平面图中的形状可以是椭圆的一部分或圆的一部分。

沉积部211和212可以与主体部241、242和250交替设置。沉积部211和212中的每个可以包括多个第一开口2201、2202、2203和2204，第一开口2201、2202、2203和2204可以布置以形成第一区域2100。第一区域2100可以包括布置为被主体的实心部彼此分开的第一开口2201、2202、2203和2204的集群，或者可以由布置为被主体的实心部彼此分开的第一开口2201、2202、2203和2204的集群形成。第一开口2201、2202、2203和2204可以穿过沉积部211和212，以允许沉积材料穿过第一开口2201、2202、2203和2204。

第一开口2201、2202、2203和2204可以具有各种形状。在实施例中，例如，第一开口2201、2202、2203和2204可以具有诸如圆形、正方形或菱形的多边形平面形状。下面将主要详细描述在俯视平面图中第一开口2201、2202、2203和2204是八边形的情况。沉积部211和212可以设置在主体的中心部分中。具体地，一个或更多个沉积部211和212可以与主体部241、242和250交替设置。

在实施例中，当第一开口2201、2202、2203和2204是八边形时，面对的侧边之间的距离可以是约20微米(μm)至约21μm。在第一方向dr1上分别彼此相邻的第一开口2201、2202、2203和2204之间的距离l1可以但不必须等于在第二方向dr2上彼此相邻的第一开口2201、2202、2203和2204之间的距离l1。第一开口2201、2202、2203和2204中的相邻的第一开口之间的距离(在第一方向dr1上彼此相邻的第一开口2201、2202、2203和2204之间的距离l1以及在第二方向dr2上彼此相邻的第一开口2201、2202、2203和2204之间的距离l1)可以是约5μm至约15μm，并且可以与显示装置的像素之间的距离相对应。即，第一开口2201、2202、2203和2204的图案可以与将设置在显示装置的像素中的薄膜的图案相对应。在实施例中，第一开口2201、2202、2203和2204的数量可以对应于显示装置的像素的数量。

虚设部231和232可以设置在主体的相对的端部处。在此，虚设部231和232中的每个可以包括多个第二开口。第二开口可以布置在类似于上述第一区域2100的第二区域(未示出)中。在实施例中，虚设部231和232中的每个可以被定义为第二区域，该第二区域包括被主体的实心部彼此分开的第二开口的集群或者由被主体的实心部彼此分开的第二开口的集群形成。

在实施例中，第二区域在俯视平面图中可以是矩形形状。虚设部231和232可以分别与主体的由主体部241和242处的凹进部15和线性部14限定的端部边缘分开。可选地，包括被主体的实心部彼此分开的第二开口的虚设部231和232可以延伸到主体的端部边缘，并且可以省略作为实心部的主体部241和242。虚设部231和232中的每个在主体的相对的端部处的边界可以与线性部14和凹进部15相对应或由线性部14和凹进部15限定。在虚设部231和232中的每个的边界内，与凹进部15相对应的部分可以是弧形的。

虚设部231和232可以沿着主体的长度与沉积部211和212分隔开。另外，一对虚设部231和232可以设置为相对于沉积部211和212沿着主体的长度彼此面对。

每个掩模片20a包括分别在虚设部231和232与沉积部211和212之间不存在开口的平面区域。结合部221和222可以分别位于虚设部231和232与沉积部211和212之间，并且可以被限定为可附着到掩模框架10的掩模片20a的实心部。另外，一对结合部221和222可以设置在单个掩模片20a中，并且可以相对于沉积部211和212沿着主体的长度彼此面对。在单个掩模片20a中彼此面对的一对结合部221和222可以分别附着在掩模框架10的第一构件310和第三构件330处。

掩模片20a可以包括掩模材料。掩模材料的适用示例包括铬(cr)、钼(mo)、钛(ti)、锡(sn)、金(au)、镍(ni)、镍合金和镍钴合金。

在一些实施例中，掩模片20a可以包括因瓦合金。因瓦合金可以是铁和镍的合金。在实施例中，例如，相对于掩模片20a的总百分比，因瓦合金中镍的含量可以是约百分之36(36wt％)，铁的含量可以是约百分之64(64wt％)。然而，镍和铁的含量不限于这些示例值，而是可以根据需要而改变。除了镍和铁之外，因瓦合金还可以包括诸如碳和硫的杂质。

掩模片20a可以通过加工基体材料(未示出)来制造。在实施例中，例如，可以在经过诸如电铸法、无电镀法、激光加工薄膜基体材料法、同时使用电镀法和激光加工法的混合法、轧制法、蚀刻法等的制造工艺之后，将基体材料形成为掩模片20a。

在实施例中，掩模单元1可以用于制造显示装置的方法中，以制造具有每英寸(ppi)1000个像素的相对高分辨率或更高的分辨率的显示装置。这意味着，由于第一开口2201、2202、2203和2204的数量可以与显示装置的像素的数量相对应，因此在一个掩模片20a中的每平方英寸中的第一开口2201、2202、2203和2204的数量可以是约1000000个或更多个。即，掩模片20a可以与相对高分辨率的显示装置相对应。显示装置的像素可以分别在数量、图案、尺寸等上与掩模片20a的第一开口2201、2202、2203和2204相对应。

掩模片20a可以相对薄。在实施例中，例如，掩模片20a沿着第三方向dr3的厚度可以是约1μm至约100μm。随着显示装置的分辨率增大，相邻像素之间的距离减小。由于掩模片20a相对薄，因此即使在沉积入射角受限的环境中，也可以减小第一开口2201、2202、2203和2204之间的距离，从而实现具有相对高分辨率的显示装置。

掩模片20a的厚度可以根据沉积入射角而变化。在实施例中，例如，随着沉积入射角增大，掩模片20a的厚度可以增大。在实施例中，当沉积入射角是约45度时，掩模片20a可以具有约5μm的厚度。当沉积入射角是约60度时，掩模片20a可以具有约8.6μm的厚度。

掩模框架10的第一构件310和第三构件330可以包括沿着第一构件310和第三构件330的各自的长度布置的多个凹陷部311和331以及多个凸起部312和332。凹陷部311和331中的每个可以位于多个凸起部312和332中的相邻的凸起部之间。相对于其中设置掩模框架10的底表面的平面，多个凸起部312和332中的每个在掩模框架10的外边缘处的厚度比多个凹陷部311和331中的每个在掩模框架10的外边缘处的厚度大。

当掩模片20a接合到掩模框架10时，掩模片20a可以分别与凸起部312和332叠置。当两个元件彼此“叠置”时，除非另外限定，否则两个元件在掩模单元1的厚度方向(例如，第三方向dr3)上彼此叠置。凹陷部311和331与凸起部312和332可以在第一方向dr1上彼此分隔开并可以彼此交替。

在掩模单元1中，掩模片20a可以与掩模框架10的凸起部312和332叠置。掩模框架10的凹陷部311和331中的每个可以位于一个掩模片20a与同其相邻的掩模片20a之间。当在将掩模片20a结合到掩模框架10时将掩模片20a在掩模框架10上对准时，凹陷部311和331可以用作参照点。

凸起部312和332均包括支撑部333和接合部334，这将在稍后描述。

现在将简要描述制造掩模单元1的方法。

图5和图6是示意性地示出在制造掩模单元1的方法中的制造顺序的实施例的透视图。

参照图5，可以将掩模片20a放置在掩模框架10上。在此，可以将拉力f施加到掩模片20a的相对的端部中的每个。在放置掩模片20a时，可以将掩模框架10放置为与掩模片20a的结合部221和222叠置。

在将掩模片20a放置在掩模框架10上之后，可以将掩模片20a固定到掩模框架10。在此，可以通过焊接将掩模片20a固定到掩模框架10。具体地，可以使用激光焊接机400将掩模片20a焊接到掩模框架10。可以通过焊接将掩模片20a的分别设置在虚设部231和232与沉积部211和212之间的结合部221和222附着并固定到掩模框架10。

在将掩模片20a焊接到掩模框架10的同时，可以将拉力f连续地施加到掩模片20a。通过施加拉力f，掩模片20a的主体部241和242以及虚设部231和232可以比掩模框架10的外边缘延伸得远。

参照图6，在将掩模片20a焊接到掩模框架10之后，可以去除掩模片20a的主体的延伸得比掩模框架10的外边缘远的部分。该部分可以包括主体部241和242以及虚设部231和232，但不限于此。在此，可以以各种方式来去除掩模片20a的主体的比掩模框架10的外边缘延伸得远的部分。在实施例中，例如，可以使用激光来去除掩模片20a的主体的延伸得比掩模框架10的外边缘远的部分。在另一实施例中，可以使用切割刀片来去除掩模片20a的主体的延伸得比掩模框架10的外边缘远的部分。

在去除掩模片20a的主体的延伸得比掩模框架10的外边缘远的部分之后，可以提供其中掩模片20a固定到掩模框架10的掩模单元1。

现在将参照图7和图8来详细描述用于固定掩模片20a的掩模框架10的结构。

图7是沿着图2的线i-i'截取的剖视图。图8是示出掩模片20a的拉力施加和焊接工艺的剖视图。图7和图8中示出的掩模框架10的剖面是接合到掩模片20a的端部的第一构件310和第三构件330中的任意一个的剖面。

参照图7和图8，掩模框架10可以包括支撑部333和接合部334，或者可以由支撑部333和接合部334限定。更具体地，第一构件310和第三构件330的凸起部312和332均包括支撑部333和接合部334，或者均由支撑部333和接合部334限定。

掩模框架10的凸起部312和332中的每个包括限定为与掩模片20a接触的部分的接合部334以及用作用于接合部334的基体的支撑部333。即，接合部334可以包括与掩模片20a接触的接触表面，并且接合部334的上表面3341可以是接触表面。

接合部334在剖面中可以是凸的。在实施例中，例如，接合部334可以从其中设置有支撑部333的上表面(例如，第二上侧3334)的平面在第三方向dr3上突出。即，掩模框架10可以包括在支撑部333的上表面上的突起。在实施例中，接合部334的上表面3341可以是弯曲的。即，接合部334的上表面3341可以是相对于支撑部333凸弯曲的表面。凸表面的形状可以成形为像在剖面中具有预定曲率的作为圆形的一部分的圆弧或作为椭圆形的一部分的椭圆弧。在实施例中，接合部334的上表面3341的曲率可以是约0.5毫米(mm)至约5毫米(mm)。在支撑部333与接合部334之间可以基本上没有边界或界面。为了便于描述，接合部334的凸表面在其处相对于支撑部333开始的假想线(图7中的虚线)将被表示为支撑部333与接合部334之间的边界。

支撑部333的剖面可以具有各种形状。在剖面中，支撑部333可以包括下侧3331以及位于距下侧3331不同的高度处的第一上侧3332和第二上侧3334。在实施例中，例如，支撑部333可以包括第一上侧3332，第一上侧3332距下侧3331的高度比第二上侧3334距下侧3331的高度大。即，在支撑部333中，由第一上侧3332和下侧3331限定或形成的掩模框架10的第一厚度可以大于由第二上侧3334和下侧3331限定或形成的掩模框架10的第二厚度。在实施例中，第一厚度可以是约15mm至约20mm。第二厚度可以是约12mm至约17mm(例如约12mm至约16mm)。第一厚度与第二厚度之间的差可以是约2mm至约3mm。

其中设置有第一上侧3332的平面和其中设置有第二上侧3334的平面都可以但不必须基本上平行于其中设置有下侧3331的平面。第一上侧3332可以沿着第二方向dr2定位得比第二上侧3334更靠近第一开口区域350。即，第二上侧3334可以相对于第一开口区域350设置在第一上侧3332的外侧。

支撑部333还可以包括在剖面中位于第一上侧3332与第二上侧3334之间的中间侧3333。中间侧3333可以与第一上侧3332、第二上侧3334和下侧3331中的每个形成角度。如在此所使用的角度是指与在下侧3331在其上延伸的方向(例如，第二方向dr2)上延伸的假想直线形成的锐角。

支撑部333在剖面中还可以包括将第一上侧3332和下侧3331彼此连接的第一侧3335以及将第二上侧3334和下侧3331彼此连接的第二侧3336。第一侧3335可以限定为定位得比第二侧3336更靠近第一开口区域350的侧面。第一侧3335和/或第二侧3336可以相对于下侧3331倾斜。在实施例中，由第一侧3335和下侧3331形成的角度可以是钝角，例如，大于约90度并小于约130度。在一些实施例中，第二侧3336和下侧3331可以基本上彼此垂直。

下侧3331、第一上侧3332、中间侧3333、第二上侧3334、第一侧3335和第二侧3336可以分别包括或者限定支撑部333的下表面、第一上表面部、中间侧表面、第二上表面部、第一侧表面和第二侧表面。支撑部333的剖面形状不限于附图中示出的形状。在一些实施例中，支撑部333在剖面中可以不包括第二上侧3334，而是可以仅包括第一上侧3332(即，省略了中间侧3333)，并且第一侧3335和第二侧3336都可以与下侧3331形成直角。

接合部334可以设置或形成在支撑部333的上表面上。接合部334可以通过湿蚀刻工艺或激光加工工艺来设置或形成。在掩模框架10的剖面中，接合部334可以设置或形成在支撑部333的包括第一上侧3332或由第一上侧3332限定的第一上表面部上，并且可以不设置或形成在支撑部333的包括第二上侧3334或由第二上侧3334限定的第二上表面部上。

接合部334可以从支撑部333的上表面突出到高达约0.01mm至约0.03mm的高度。在实施例中，例如，从第一上侧3332到接合部334的上表面3341的高度可以是约0.01mm至约0.03mm。在一些实施例中，接合部334距支撑部333的上表面的最大高度可以基本上等于掩模片20a的厚度。

在实施例中，接合部334和支撑部333可以包括彼此相同的材料，并且可以彼此同时设置或形成。掩模框架10的接合部334和支撑部333均可以包括具有相对高的刚度的金属材料，例如，诸如不锈钢的金属。在实施例中，支撑部333可以延伸以限定其限定接合部334的突出部，但不限于此。

在将掩模片20a接合到掩模框架10期间，可以将拉力f施加到掩模片20a。除了沿第二方向dr2且远离第一开口区域350的方向，还可以在从掩模片20a的端部朝向掩模框架10的方向上(例如，在与附图中的第三方向dr3相反的方向上)施加外力(例如，图8中的拉力f)。在施加该外力的同时，可以增大掩模片20a和掩模框架10的接合部334在其处彼此接触的接触表面，从而增大焊接成功率。即，即使掩模片20a相对薄，也可以增大接触表面以增大相对于掩模框架10的焊接成功率。

在将掩模片20a通过诸如焊接的工艺附着到掩模框架10后，掩模片20a可以与掩模框架10的支撑部333分隔开。

接下来，将描述掩模单元的其他实施例。在以下实施例中，与图1至图8的元件相同的元件将不再被重复，并且将由相同或相似的附图标记来表示。

图9是掩模单元的掩模框架的修改实施例的剖视图。

参照图9，掩模单元的掩模框架的修改实施例与图7的掩模框架10的不同之处在于接合部334_11的上表面的形状。

接合部334_11的上表面可以是倾斜的弯曲表面。当对掩模片20a施加拉力时，可以增大接合部334_11的上表面与掩模片20a之间的接触表面，从而增大焊接成功率。

图10是掩模单元的掩模框架的另一修改实施例的剖视图。

参照图10，掩模单元的掩模框架的另一修改实施例与图7的掩模框架10的不同之处在于省略了中间侧3333。

接合部334_12的上表面可以与支撑部333_1的第二上侧3334接触。由于接合部334_12的上表面是弯曲的，因此当对掩模片20a施加拉力时，可以增大接合部334_12的上表面与掩模片20a之间的接触表面，从而增大焊接成功率。

图11是掩模单元的掩模框架10_1的另一实施例的透视图。图12是沿着图11的线ii-ii'截取的剖视图。

参照图11和图12，掩模单元的掩模框架10_1与图2和图7的掩模框架10的不同之处在于：掩模框架10_1包括凸起部312和332的均与同一掩模片20a接触的多个接触表面。凸起部312和332中的每个内的多个接触表面沿着第一方向dr1布置。

掩模框架10_1可以包括与同一掩模片20a接触的多个接合表面。即，接合部334_13可以包括与同一掩模片20a接触的多个突起。即，接合部334_13的两个最大厚度的位置沿着第一方向dr1彼此分隔开布置。

接合部334_13可以包括在第一方向dr1上彼此相邻设置的第一突起334_1a和第二突起334_1b。第一突起334_1a和第二突起334_1b都可以设置或形成在支撑部333的第一上表面部上。第一突起334_1a和第二突起334_1b都可以与分别设置在第一构件310或第三构件330处的同一掩模片20a接触。第一突起334_1a和第二突起334_1b均可以包括焊接到同一掩模片20a的接触区域。

第一突起334_1a和第二突起334_1b中的每个可以具有诸如圆柱体的被切割成具有弯曲的上表面的一部分的形状。然而，只要上表面是弯曲的，第一突起334_1a和第二突起334_1b中的每个可以具有诸如半球形形状的各种形状。

第一突起334_1a和第二突起334_1b中的每个的上表面在剖面中可以具有作为圆形的一部分的圆弧形状。在实施例中，第一突起334_1a和第二突起334_1b可以沿着第一方向dr1彼此分隔开且支撑部333的第一上表面部暴露于其间，或者可以设置为沿着第一方向dr1彼此接触。

第一突起334_1a和第二突起334_1b中的每个与同一掩膜片20a的接触表面可以在设置掩膜单元期间通过施加到掩膜片20a的拉力来增大。即，当同一掩膜片20a接合到第一突起334_1a和第二突起334_1b时，可以增大焊接成功率。

在凸起部312和332中的每个处的突起的数量和布置不限于附图中示出的情形。在实施例中，接合部334_13可以包括在凸起部312和332中的每个处在第一方向dr1上彼此相邻设置的三个或更多个突起。

图13是掩模单元的掩模框架10_2的又一实施例的透视图。图14是沿着图13的线iii-iii'截取的剖视图。

参照图13和图14，掩模单元的掩模框架10_2与图2和图7的掩模框架10的不同之处在于：掩模框架10_2包括凸起部312和332的均与同一掩模片20a接触的多个接触表面。凸起部312和332中的每个内的多个接触表面沿着第二方向dr2布置。即，接合部334_2的两个最大厚度的位置沿着第二方向dr2彼此分隔开布置。

掩模框架10_2可以包括与同一掩模片20a接触的多个接合表面。即，接合部334_2可以包括与同一掩模片20a接触的多个突起334_2a和334_2b。

接合部334_2可以包括在第二方向dr2上彼此相邻设置的第一突起334_2a和第二突起334_2b。第一突起334_2a和第二突起334_2b都可以设置或形成在支撑部333的第一上表面部上。第一突起334_2a和第二突起334_2b都可以与同一掩模片20a接触。第一突起334_2a和第二突起334_2b均可以包括焊接到同一掩模片20a的接触区域。

第一突起334_2a和第二突起334_2b可以连续地布置，即，布置为在第二方向dr2上彼此接触。

在设置掩模单元期间，第一突起334_2a和第二突起334_2b中的每个与同一掩模片20a的接触表面可以通过施加到同一掩模片20a的拉力来增大。即，当同一掩模片20a接合到第一突起334_2a和第二突起334_2b时，可以增大焊接成功率。

突起的数量和布置不限于附图中示出的情形。在实施例中，接合部334_2可以包括在第二方向dr2上彼此相邻设置的三个或更多个突起。

图15是掩模单元的掩模框架10_3的又一实施例的透视图。图16是沿着图15的线iv-iv'截取的剖视图。

参照图15和图16，掩模单元的掩模框架10_3与图2和图7的掩模框架10的不同之处在于：掩模框架10_3包括与同一掩模片20a接触的多个接触表面。

掩模框架10_3可以包括均与同一掩模片20a接触的多个接合表面。即，接合部构件334_3可以包括均与同一支撑部333叠置的多个接合部334_3a和334_3b。接合部334_3a和334_3b中的每个可以包括均与同一掩模片20a接触的多个突起334_3ba和334_3bb。

接合部构件334_3可以包括在第一方向dr1上彼此相邻设置的第一接合部334_3a和第二接合部334_3b。第一接合部334_3a和第二接合部334_3b都可以设置或形成在支撑部333的第一上表面部上。第一接合部334_3a和第二接合部334_3b都可以与同一掩模片20a接触。第一接合部334_3a和第二接合部334_3b均可以包括焊接到同一掩模片20a的接触区域。

第一接合部334_3a和第二接合部334_3b中的每个可以包括第一突起334_3ba和第二突起334_3bb。第一突起334_3ba和第二突起334_3bb中的每个的上表面在剖面中可以具有圆弧形状。第一突起334_3ba和第二突起334_3bb可以在第二方向dr2上彼此分隔开并且支撑部333的第一上表面部插置在其间，或者第一突起334_3ba和第二突起334_3bb可以在第二方向dr2上彼此接触。

图17是掩模单元的掩模框架的又一实施例的剖视图。

参照图17，掩模单元的掩模框架与图7的掩模框架10的不同之处在于：支撑部333和接合部334_4包括彼此不同的材料。实线在图17中示出在支撑部333与接合部334_4之间以指示不同的材料。

如上所述，支撑部333可以包括具有相对高的刚度的金属材料，例如，诸如不锈钢的金属。

在实施例中，支撑部333和接合部334_4可以包括彼此不同的材料。在实施例中，例如，接合部334_4可以包括铝、铝合金、铜、铜合金、镍、镍合金、镁和镁合金中的任何一种。

接合部334_4可以设置或形成在支撑部333的上表面上。在图17中的掩模框架的剖面中，接合部334_4可以设置或形成在第一上侧3332上，并且可以不设置或形成在第二上侧3334上。即，接合部334_4可以与支撑部333的第一上侧3332接触，并且可以不与支撑部333的第二上侧3334接触。

接合部334_4和支撑部333可以彼此物理接合或可以彼此化学接合。

在此，当接合部334_4和支撑部333彼此物理接合时，接合部334_4和支撑部333使用结合构件(例如，螺栓和螺母)或通过对接合部334_4和支撑部333施加相对高的压力而接合在一起。

在此，当接合部334_4和支撑部333彼此化学接合时，接合部334_4和支撑部333通过在支撑部333上直接形成或直接沉积接合部334_4的材料、通过使用粘合剂或通过利用热量使接合部334_4部分熔化而接合在一起。

根据一个或更多个实施例，掩模单元包括其中限定相对高分辨率的图案的掩模片。掩模片可以在将掩模片固定到掩模框架的工艺中在拉力下确保足够的接触面积，并且可以不被焊接穿透或撕裂。

然而，实施例的效果不限于在此所阐述的效果。通过参照权利要求书，实施例的上述效果和其他效果对于实施例所属领域的普通技术人员将变得更加清楚。

在结束详细说明时，本领域的技术人员将领会到的是，在基本上不脱离发明的原理的情况下，可以对实施例进行许多变化和修改。因此，发明的公开实施例仅在一般性意义和描述性意义上使用，而不是出于限制目的。