显示面板以及显示装置的制作方法

本发明涉及显示面板技术领域，特别是涉及一种显示面板以及显示装置。

背景技术：

oled(organiclight-emittingdiode，有机发光二极管)器件是主动发光器件，其因具有高对比度、广视角、低功耗、体积更薄等优点而广泛应用于显示器中。

目前拥有屏下摄像头模组的显示器，因其允许高屏占比的设计以及科技感较强而广受青睐。然而，目前拥有屏下摄像头模组的显示器其显示屏对应屏下摄像头模组的显示区域，其显示画面颗粒感较强，显示效果较差。

技术实现要素：

有鉴于此，本发明主要解决的技术问题是提供一种显示面板以及显示装置，能够改善副显示区的显示效果。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种显示面板。该显示面板包括发光基板，发光基板具有相对的第一侧和第二侧，发光基板的第一侧定义有主显示区以及邻接主显示区的副显示区，副显示区在发光基板的第二侧的表面上的正投影区域为正对摄像头模组的区域；其中，主显示区和副显示区内分别阵列排布有多个子像素，并且主显示区内的子像素的分布密度大于副显示区内的子像素的分布密度，该显示面板还包括透镜层，透镜层设于发光基板的副显示区，并且透镜层还设于子像素所输出光束的传播路径上，用于放大副显示区内的子像素的成像。

在本发明的一实施例中，透镜层为透镜阵列，透镜阵列包括多个阵列排布的透镜，有利于改善子像素的成像放大效果。

在本发明的一实施例中，透镜与副显示区内的子像素一一对应设置，并且副显示区内的子像素在发光基板的第一侧的表面上的正投影的中心与对应的透镜在发光基板的第一侧的表面上的正投影的中心重叠，有利于改善子像素的成像放大效果。

在本发明的一实施例中，透镜沿其主光轴的截面为一椭圆，定义椭圆的短轴长为2r，透镜的折射率为n，透镜的焦距为f；

其中，如此能够避免子像素放大后的成像过大或者过小。

在本发明的一实施例中，主显示区内各子像素对应的像素开口尺寸大于或等于副显示区内各子像素对应的像素开口尺寸，使得发光基板位于副显示区内的部分具有足够的光线透过率。

在本发明的一实施例中，主显示区内的子像素的排布方式与副显示区内的子像素的排布方式一致，有利于简化显示面板的像素排布设计以及简化对应的掩膜设计。

在本发明的一实施例中，发光基板还包括依次层叠设置的阳极层、发光层以及阴极层，发光层包括阵列排布的多个发光单元，发光单元对应子像素，显示面板的出光方向为自发光层至阴极层的方向，透镜层设于阴极层背离发光层的一侧，即本实施例的发光基板为顶发射的显示形式。

在本发明的一实施例中，发光基板还包括封装层，封装层设于阴极层和透镜层之间，能够减小透镜层对显示面板原有制程的影响。当然，在本发明的其它实施例中，封装层也可以设于透镜层远离阴极层的一侧。

在本发明的一实施例中，发光基板还包括依次层叠设置的阳极层、发光层以及阴极层，发光层包括阵列排布的多个发光单元，发光单元对应子像素，显示面板的出光方向为自发光层至阳极层的方向，透镜层设于阳极层远离发光层的一侧，即本实施例的发光基板为底发射的显示形式。

为解决上述技术问题，本发明采用的又一个技术方案是：提供一种显示装置。该显示装置包括如上述实施例所阐述的显示面板以及摄像头模组，摄像头模组正对显示面板的发光基板的副显示区在发光基板的第二侧的表面上的正投影区域。

本发明的有益效果是：区别于现有技术，本发明提供一种显示面板以及显示装置。该显示面板的副显示区在发光基板的第二侧的表面上的正投影区域为正对摄像头模组的区域，并且主显示区内的子像素的分布密度大于副显示区内的子像素的分布密度。副显示区内的子像素的分布密度较小，有利于提高副显示区的光线透过率，从而保证摄像头模组的成像效果。并且，发光基板的副显示区还设有透镜层，其中透镜层设于子像素所输出光束的传播路径上，用于放大副显示区内的子像素的成像。副显示区内的子像素的成像被透镜放大，使得副显示区其显示画面的颗粒感弱化，因而能够改善副显示区的显示效果。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。此外，这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本发明构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本发明的概念。

图1是本发明显示面板第一实施例的结构示意图；

图2是图1所示显示面板a-a方向的剖面结构示意图；

图3是图1所示显示面板的子像素成像情况的示意图；

图4是本发明显示面板第二实施例的结构示意图；

图5是本发明显示面板第三实施例的结构示意图；

图6是本发明透镜一实施例的结构示意图；

图7是本发明显示装置一实施例的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明的实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。在不冲突的情况下，下述的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

为解决现有技术中拥有屏下摄像头模组的显示器其显示屏对应屏下摄像头模组的显示区域的显示效果较差的技术问题，本发明的一实施例提供一种显示面板。该显示面板包括发光基板。发光基板具有相对的第一侧和第二侧，发光基板的第一侧定义有主显示区以及邻接主显示区的副显示区，副显示区在发光基板的第二侧的表面上的正投影区域为正对摄像头模组的区域；其中，主显示区和副显示区内分别阵列排布有多个子像素，并且主显示区内的子像素的分布密度大于副显示区内的子像素的分布密度。该显示面板还包括透镜层。透镜层设于发光基板的副显示区，并且透镜层还设于子像素所输出光束的传播路径上，用于放大副显示区内的子像素的成像。以下进行详细阐述。

请参阅图1和图2，图1是本发明显示面板第一实施例的结构示意图，图2是图1所示显示面板a-a方向的剖面结构示意图。图1中省略了透镜阵列。

在一实施例中，显示面板1包括发光基板11。发光基板11，顾名思义，其能够发光显示，主要实现显示面板1发光显示的功能。发光基板11是参与实现显示面板1发光显示功能的功能膜层的集合，例如包括发光器件层和阵列层等，将在下文详细阐述。

具体地，发光基板11具有相对的第一侧111和第二侧112。发光基板11的第一侧111定义有主显示区113以及邻接主显示区113的副显示区114，并且副显示区114在发光基板11的第二侧112的表面上的正投影区域为正对摄像头模组的区域。如图2所示，本实施例的显示面板1与摄像头模组2配合后，摄像头模组2正对副显示区114在发光基板11的第二侧112的表面上的正投影区域。即应用本实施例显示面板1的显示装置同样采用屏下摄像头模组的设计，因而允许本实施例的显示面板1设计更高的屏占比，能够更好地满足用户对屏占比的需求。

并且，主显示区113和副显示区114内分别阵列排布有多个子像素115。其中，主显示区113和副显示区114内的子像素115可以包括r(red,红色)子像素115、g(green,绿色)子像素115以及b(blue,蓝色)子像素115等。为使发光基板11位于副显示区114内的部分具有足够的光线透过率，以保证摄像头模组的成像效果，本实施例中主显示区113内的子像素115的分布密度大于副显示区114内的子像素115的分布密度，如图1所示。子像素115的分布密度定义为单位面积的显示区内所包含子像素115的数量。如此一来，副显示区114内的子像素115的分布密度较小，由于子像素115会对光线进行遮挡，此种设置方式的副显示区114内的子像素115对光线的遮挡较少，意味着副显示区114的光线透过率较大，从而保证摄像头模组的成像效果。

在一实施例中，透镜层为透镜阵列12，透镜阵列12设于发光基板11的副显示区114，并且透镜阵列12还设于子像素115所输出光束的传播路径上，用于放大副显示区114内的子像素115的成像。

具体地，如图2所示，透镜阵列12设于发光基板11的副显示区114。透镜阵列12包括多个阵列排布的透镜121，透镜121设于子像素115所输出光束的传播路径上，用于放大副显示区114内的子像素115的成像。副显示区114内的子像素115的成像被透镜121放大，使得副显示区114其显示画面的颗粒感弱化，因而能够改善副显示区114的显示效果。图3展示了副显示区114内的子像素115的成像被透镜121放大的情况，放大后的子像素115的成像为115’。

需要说明的是，一个透镜121可以与副显示区114内的多个子像素115对应，以同时放大该多个子像素115的成像。然而由于越靠近透镜121中心的子像素115其成像放大的效果越好，偏离透镜121中心的子像素115其成像放大的效果较差，容易引起各子像素115成像放大的效果均一性较差的问题。因此本实施例中，透镜121与副显示区114内的子像素115优选地一一对应设置，即一个透镜121仅设置在一个子像素115所输出光束的传播路径上，并且副显示区114内的子像素115在发光基板11的第一侧111的表面上的正投影的中心与对应的透镜121在发光基板11处于第一侧111的表面上的正投影的中心重叠，即副显示区114内的子像素115的中心对应透镜121的中心设置(将在下文详细阐述)，有利于保证各子像素115成像放大效果的均一性，即有利于改善子像素115的成像放大效果，进一步有利于改善副显示区114的显示效果。

可以理解的是，在本发明的其它实施例中，透镜层可以不采用透镜阵列12的设计，其可以是一整层结构，即透镜层自身为一块透镜，起到放大子像素115成像的作用，在此不做限定。

改善子像素115的成像放大效果除了通过上述透镜121与子像素115一一对应设置的方式，还可以通过调整透镜121的方式，直接地改善子像素115的成像放大效果。具体地，本实施例的透镜121优选为凸透镜121等，其具有放大成像的功能。透镜121沿其主光轴的截面为一椭圆，定义该椭圆的短轴长为2r，透镜121的折射率为n，透镜121的焦距为f，如图6所示。其中，通过上述方式，可以使得透镜121放大子像素115的成像达到预定的效果，能够避免子像素115放大后的成像过大或者过小。

由于透镜121的材质一旦选定，其折射率即为定值，因而本实施例允许通过调整透镜121沿其中心轴的截面的短轴长度来调整透镜121的焦距，使得透镜121放大子像素115的成像达到预定的效果。并且，可以根据透镜121在发光基板11上的具体位置调整透镜121的焦距，使得透镜121放大子像素115的成像达到预定的效果。

在一实施例中，为进一步使发光基板11位于副显示区114内的部分具有足够的光线透过率，以进一步保证摄像头模组的成像效果，本实施例中主显示区113内各子像素115对应的像素开口尺寸大于或等于副显示区114内各子像素115对应的像素开口尺寸。优选地，主显示区113内各子像素115对应的像素开口尺寸大于副显示区114内各子像素115对应的像素开口尺寸，如图1所示。也就是说，副显示区114内各子像素115对应的像素开口尺寸较小，即单个子像素115的尺寸较小，也就使得副显示区114内的子像素115对光线的遮挡进一步减少，意味着副显示区114的光线透过率进一步增大，进一步有利于保证摄像头模组的成像效果。可知的，此处像素开口尺寸即为每个像素的发光面积。

在一实施例中，主显示区113内的子像素115的排布方式与副显示区114内的子像素115的排布方式可以一致，也可以不一致。优选地，主显示区113内的子像素115的排布方式与副显示区114内的子像素115的排布方式一致，如此将有利于简化显示面板1的像素排布设计以及简化对应的掩膜设计。

请参阅图4和图5，图4是本发明显示面板第二实施例的结构示意图，图5是本发明显示面板第三实施例的结构示意图。图4和图5展示的是显示面板1的副显示区114内的结构。

在一实施例中，发光基板11包括层叠的发光器件层116和阵列层117。发光器件层116集成有起到发光显示作用的发光器件。具体地，发光器件层116包括沿远离阵列层117的方向依次层叠设置的阳极层1161、发光层1162以及阴极层1163。其中，发光层1162包括多个间隔设置且阵列排布的发光单元1164，发光单元1164起到发光显示的作用，并且一个发光单元1164对应上文所述的一个子像素。上文所述的透镜121与子像素一一对应设置，一个透镜121仅设置在一个子像素所输出光束的传播路径上，具体地，透镜121与发光单元1164一一对应设置，即一个透镜121仅设置在一个发光单元1164所输出光束的传播路径上。上文所述的子像素对应透镜121的中心设置，具体地，发光单元1164对应透镜121的中心设置。而阵列层117则集成有驱动发光器件层116发光显示的驱动电路，其主要包括了tft(thinfilmtransistor，薄膜晶体管)阵列以及相应的电路结构，例如tft的栅极、源极、漏极以及层间介质层、缓冲层等。

其中，发光基板11的第一侧111为阴极层1163背离发光层1162的一侧，即本实施例的显示面板1为顶发射的显示形式，透镜阵列12设于阴极层1163背离发光层1162的一侧，以能够实现透镜阵列12中的透镜121放大子像素115的成像的作用，如图4所示；或发光基板11的第一侧111为阵列层117背离阳极层1161的一侧，即本实施例的显示面板1为底发射的显示形式，透镜阵列12设于阵列层117背离阳极层1161的一侧，以能够实现透镜阵列12中的透镜121放大子像素115的成像的作用，如图5所示。

以下对本发明实施例的透镜阵列12在顶发射或底发射显示形式的显示面板1中的具体设置方式进行阐述。

在一实施例中，显示面板1的出光方向为自发光层1162至阴极层1163的方向，透镜阵列12设于阴极层1163背离发光层1162的一侧。

请继续参阅图1、图2以及图4。具体地，显示面板1为顶发射的显示形式，即发光基板11的第一侧111为阴极层1163背离发光层1162的一侧。为支持显示面板1顶发射的显示形式，阳极层1161对应发光单元1164的部分不透光而剩余部分透光，阴极层1163透光设置，如此使得发光单元1164向阴极层1163输出的光经阴极层1163输出，而向阳极层1161输出的光反射回向阴极层1163输出，即显示面板1为顶发射的显示形式。其中，透镜阵列12设于阴极层1163背离发光层1162的一侧，使得经阴极层1163输出的光束能够经过透镜阵列12，以实现子像素115的放大成像。

其中，阳极层1161通常设计为块状结构，如图4所示。块状的阳极与发光单元1164一一对应且不透光设置，用于反射发光单元1164向阳极层1161输出的光。而块状的阳极之间的区域透光(即未设置不透光的阳极)，即阳极层1161剩余部分透光，以允许环境光进入摄像头模组(此时摄像头模组2位于阵列层117背离阳极层1161的一侧，如图4所示)，实现摄像头模组的成像。此时，阵列层117同样透光设置，也是为了允许环境光进入摄像头模组。

进一步地，发光基板11还包括封装层118，封装层118设于阴极层1163和透镜阵列12之间或设于透镜阵列12远离阴极层1163的一侧。如图4所示，优选地，封装层118设于阴极层1163和透镜阵列12之间。也就是说，本实施例中在完成发光基板11的封装后，再制备透镜阵列12，如此能够避免透镜阵列12对封装制程的影响，以尽可能减小透镜阵列12对显示面板1原有制程的影响。其中，封装层118可以采用薄膜封装(tfe，thin-filmencapsulation)等，在此不做限定。

当然，在本发明的其它实施例中，也可以在完成发光基板11上tp(touchpanel，触控屏)模组以及偏光片模组的制备后，再制备透镜阵列12，以最大限度地减小透镜阵列12对显示面板1原有制程的影响。

需要说明的是，透镜阵列12设置在发光基板11的不同位置，可能需要调整透镜阵列12中透镜121的规格，例如上文所述的透镜121沿其中心轴的截面的短轴长度等，来调整透镜阵列12中透镜121的焦距等，以保证子像素115具有良好的放大成像效果。

在替代实施例中，显示面板1的出光方向为自发光层1162至阳极层1161的方向，透镜阵列12设于阳极层1161远离发光层1162的一侧。

请继续参阅图1、图2以及图5。具体地，显示面板1为底发射的显示形式，即发光基板11的第一侧111为阵列层117背离阳极层1161的一侧。为支持显示面板1底发射的显示形式，阴极层1163对应发光单元1164的部分不透光而剩余部分透光，阳极层1161以及阵列层117透光设置，如此使得发光单元1164向阳极层1161输出的光经阳极层1161以及阵列层117输出，而向阴极层1163输出的光反射回向阳极层1161输出，即显示面板1为底发射的显示形式。其中，透镜阵列12设于阵列层117背离阳极层1161的一侧，使得经阳极层1161以及阵列层117输出的光束能够经过透镜阵列12，以实现子像素115的放大成像。

阴极层1163对应发光单元1164的部分不透光而剩余部分透光，具体可以是阴极层1163为整层设置，但阴极层1163上对应发光单元1164的部分不透光而剩余部分透光；或阴极层1163采用类似阳极层1161的设计，即阴极层1163也设计为块状结构，块状的阴极与发光单元1164一一对应且不透光设置，用于反射发光单元1164向阴极层1161输出的光。而块状的阴极之间的区域透光(即未设置不透光的阴极)，即阴极层1161剩余部分透光。通过上述方式，允许环境光进入摄像头模组(此时摄像头模组2位于阴极层1163背离发光层1162的一侧，如图5所示)，实现摄像头模组的成像。

进一步地，发光基板11上阵列层117背离阳极层1161的一侧通常还设有透光的衬底119，以支持显示面板1底发射的显示形式，如图5所示。因此，透镜阵列12较优选地设于衬底119背离阵列层117的一侧，以同样为了减小透镜阵列12对显示面板1原有制程的影响。同时，透光的阳极层1161、阵列层117以及衬底119同样也是为了允许环境光进入摄像头模组。

需要说明的是，当屏下摄像头模组工作、采集图像时，发光基板11的副显示区114可以处于发光显示的状态，或处于不发光显示的状态。其中，当屏下摄像头模组工作、采集图像时，发光基板11的副显示区114处于不发光显示的状态，该情况下发光基板11的副显示区114的各功能膜层也可以是采用高透光率的设计，例如呈透明状，以保证摄像头模组的成像效果。

综上所述，本发明所提供的显示面板，其副显示区在发光基板处于第二侧的表面上的正投影区域为正对摄像头模组的区域，并且主显示区内的子像素的分布密度大于副显示区内的子像素的分布密度。副显示区内的子像素的分布密度较小，有利于提高副显示区的光线透过率，从而保证摄像头模组的成像效果。并且，发光基板的副显示区还设有透镜层，其中透镜层设于子像素所输出光束的传播路径上，用于放大副显示区内的子像素的成像。副显示区内的子像素的成像被透镜放大，使得副显示区其显示画面的颗粒感弱化，因而能够改善副显示区的显示效果。

请参阅图7，图7是本发明显示装置一实施例的结构示意图。

在一实施例中，显示装置包括显示面板1以及摄像头模组2。其中，显示面板1已在上述实施例中详细阐述，在此就不再赘述。具体地，摄像头模组2正对显示面板1的发光基板11的副显示区114在发光基板11的第二侧112的表面上的正投影区域。

此外，在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“层叠”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。