晶圆加热装置及控制方法与流程

文档序号:22393397发布日期:2020-09-29 18:00阅读:316来源:国知局
技术特征:

1.一种晶圆加热装置,其用于晶圆多段加热制程,其特征在于,包括:

可升降探针,其用于将被加热晶圆水平支撑在加热源上方,其能根据控制器指令靠近或远离加热源;

温度传感器,其与加热晶圆设置在相同高度,其用于量测被测晶圆温度;

控制器,其接收温度传感器量测数据控制可升降探针上升或下降,当温度传感器量测数据达到第一预设温度且停留第一预设时段则控制可升降探针下降,使加热晶圆靠近加热源,当温度传感器量测数据达到第二预设温度则控制可升降探针停止移动使晶圆停留第二预设时段。

2.如权利要求1所述的晶圆加热装置,其特征在于:可升降探针至少包括三个pin脚,其能将被加热晶圆保持水平。

3.如权利要求1所述的晶圆加热装置,其特征在于:第一预设温度范围为80摄氏度-120摄氏度,第二预设温度范围为230摄氏度-270摄氏度。

4.如权利要求3所述的晶圆加热装置,其特征在于:第一预设时段和第二预设时段范围为30秒-90秒。

5.如权利要求1所述的晶圆加热装置,其特征在于:控制器控制可升降探针下降速度范围为0.001米/秒-0.01米/秒。

6.一种晶圆加热控制方法,其用于晶圆多段加热制程,其特征在于,包括以下步骤:

s1,将待加热晶圆水平固定在加热源上方;

s2,使用加热源开始加热;

s3,当量测到第一预设温度,则控制待加热晶圆下降靠近加热源;

s4,当量测到第二预设温度,则控制待加热晶圆停止移动停留预设时段。

7.如权利要求6所述的晶圆加热控制方法,其特征在于:第一预设温度范围为80摄氏度-120摄氏度,第二预设温度范围为230摄氏度-270摄氏度。

8.如权利要求6所述的晶圆加热控制方法,其特征在于:第一预设时段和第二预设时段范围为30秒-90秒。。

9.如权利要求6所述的晶圆加热控制方法,其特征在于:控制待加热晶圆下降速度范围为0.001米/秒-0.01米/秒。


技术总结
本发明公开了一种晶圆加热装置,其用于晶圆光阻加温制程,包括:可升降探针,其用于将被加热晶圆水平支撑在加热源上方,其能根据控制器指令靠近或远离加热源;温度传感器,其与加热晶圆设置在相同高度,其用于量测被测晶圆温度;控制器,其接收温度传感器量测数据控制可升降探针上升或下降,当温度传感器量测数据达到第一预设温度且停留第一预设时段则控制可升降探针下降,使加热晶圆靠近加热源,当温度传感器量测数据达到第二预设温度则控制可升降探针停止移动使晶圆停留第二预设时段。本发明还公开了一种用于晶圆多段加热控制方法令材料具有良好平坦度。本发明在加热过程中不需要使用光罩,在达到现有技术相同效果的同时能降低生产成本。

技术研发人员:吴承璋;赵弘文
受保护的技术使用者:上海华力集成电路制造有限公司
技术研发日:2020.06.30
技术公布日:2020.09.29
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