显示面板及其制作方法与流程

[0001]
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法。


背景技术：

[0002]
有机发光二极管(organic light-emitting diode，oled)显示面板因具有超越lcd的显示特性与品质，例如：轻薄化、短的反应时间、低的驱动电压、更好的显示色彩以及显示视角等优点，受到大家广泛的关注，近些年其发展日新月异，不仅可以制作曲面显示，同时也逐渐向大尺寸发展。
[0003]
目前，大尺寸oled显示面板由于尺寸比较大，且阴极较薄导致压降的问题更加亟待解决，尤其是顶发射的面板，极易产生目视可见的mura(显示不均)，现有工艺中，采用辅助电极来降低阴极的电阻，且辅助电极的主要方案是在基板上制作悬空结构，配合有机发光材料和阴极蒸镀角度不同，使得阴极与辅助电极搭接，但是，现有的悬空结构制作工艺困难，且形状不稳定，难以保持。


技术实现要素：

[0004]
本申请实施例提供一种显示面板及其制作方法，能够解决现有技术中的显示面板，由于阴极较薄且面积较大而导致电阻较大，使得显示面板产生电压降，进而使得显示面板显示不均的技术问题。
[0005]
为解决上述技术问题，本申请实施例提供一种显示面板的制作方法，所述方法包括：
[0006]
s10、制备辅助电极于衬底基板上；
[0007]
s20、制备阳极层于所述衬底基板上并覆盖所述辅助电极；
[0008]
s30、制备有机蚀刻层以覆盖部分所述阳极层，并于所述辅助电极两侧的上方分别形成第一凸起部以及第二凸起部；
[0009]
s40、去除未被所述有机蚀刻层覆盖的部分所述阳极层，以在所述辅助电极两侧分别形成阳极与第一间隔部，并暴露所述辅助电极的上表面，且所述第一凸起部位于所述第一间隔部上方并遮挡部分所述辅助电极；
[0010]
s50、制备像素定义层于所述衬底基板上，且所述像素定义层包括位于所述第一凸起部上的第一挡墙；
[0011]
s60、制备功能层于所述像素定义层上，且所述功能层于所述辅助电极上方籍由所述第一凸起部隔断，并分隔为与所述阳极搭接的发光层以及位于所述第一挡墙上的第二间隔部；以及
[0012]
s70、制备电极层于所述功能层上，且所述电极层于所述辅助电极上方籍由所述第一凸起部隔断，并分隔为与所述发光层搭接的阴极层以及位于所述第二间隔部上方的第三间隔部，且所述阴极层延伸至所述辅助电极上并与所述辅助电极搭接。
[0013]
在本申请的一种实施例中，所述步骤s30中，所述第一凸起部在所述衬底基板上的
投影与所述辅助电极在所述衬底基板上的投影相交。
[0014]
在本申请的一种实施例中，所述步骤s30中，所述第二凸起部在所述衬底基板上的投影与所述辅助电极在所述衬底基板上的投影相交或相离。
[0015]
在本申请的一种实施例中，所述步骤s40中，所述第一间隔部的侧面相对于所述第一凸起部的侧面内缩，以使所述第一间隔部暴露所述辅助电极的部分上表面，并籍由所述第一凸起部所遮挡。
[0016]
在本申请的一种实施例中，所述步骤s40中，所述第二凸起部位于所述阳极上方，且所述阳极的侧面相对于所述第二凸起部的侧面内缩，以使所述阳极与所述辅助电极相隔离。
[0017]
在本申请的一种实施例中，所述步骤s40还包括：去除部分所述第一凸起部、部分所述第二凸起部、以及所述第一凸起部与所述第二凸起部以外的所述有机蚀刻层。
[0018]
在本申请的一种实施例中，所述步骤s50中，所述像素定义层还包括形成于所述第二凸起部上的第二挡墙，且所述第二挡墙连续地覆盖所述第二凸起部以及所述阳极的侧面。
[0019]
在本申请的一种实施例中，所述步骤s60中，所述发光层延伸至所述辅助电极上并与所述辅助电极搭接，且所述步骤s70中，所述阴极层覆盖所述发光层并延伸至所述辅助电极上，与所述辅助电极搭接。
[0020]
在本申请的一种实施例中，所述有机蚀刻层的材料与所述像素定义层的材料相同。
[0021]
根据本申请的上述目的，提供一种显示面板，包括：
[0022]
衬底基板；
[0023]
辅助电极，设置于所述衬底基板上；
[0024]
阳极层，设置于所述衬底基板上，所述阳极层包括分别形成于所述辅助电极两侧的阳极与第一间隔部；
[0025]
第一凸起部以及第二凸起部，分别设置于所述辅助电极两侧的上方，且所述第一凸起部位于所述第一间隔部上方并遮挡部分所述辅助电极；
[0026]
像素定义层，设置于所述衬底基板上，且所述像素定义层包括形成于所述第一凸起部上的第一挡墙；
[0027]
功能层，设置于所述像素定义层上，所述功能层包括与所述阳极搭接的发光层以及位于所述第一挡墙上的第二间隔部；以及
[0028]
电极层，设置于所述功能层上，且所述电极层包括与发光层搭接的阴极层以及位于所述第二间隔部上的第三间隔部，所述阴极层延伸至所述辅助电极上并与所述辅助电极搭接。
[0029]
本申请的有益效果：相比于现有技术，本申请通过制备阳极层覆盖辅助电极，然后通过湿法蚀刻阳极过程中的各向同性，配合半色调掩膜板对有机蚀刻层进行蚀刻，以在辅助电极上方形成第一间隔部以及第一凸起部以遮挡部分辅助电极，并在后续制程中将电极层隔断，使得阴极层与辅助电极搭接，进而降低了阴极层的电阻，防止了显示面板产生电压降的现象，提高了显示面板的显示均一性。
附图说明
[0030]
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0031]
图1为本申请实施例提供的显示面板制作流程结构示意图。
[0032]
图2为本申请实施例提供的显示面板制作流程结构示意图。
[0033]
图3为本申请实施例提供的显示面板制作流程结构示意图。
[0034]
图4为本申请实施例提供的显示面板制作流程结构示意图。
[0035]
图5为本申请实施例提供的显示面板制作流程结构示意图。
[0036]
图6为本申请实施例提供的显示面板制作流程结构示意图。
[0037]
图7为本申请实施例提供的显示面板制作流程结构示意图。
[0038]
图8为本申请实施例提供的显示面板制作流程结构示意图。
[0039]
图9为本申请实施例提供的显示面板制作方法流程图。
具体实施方式
[0040]
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0041]
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0042]
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
[0043]
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0044]
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并
且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
[0045]
本申请实施例针对现有的显示面板，由于阴极较薄且面积较大而导致电阻较大，使得显示面板产生电压降，进而使得显示面板显示不均的技术问题。
[0046]
为解决上述技术问题，本申请实施例提供一种显示面板的制作方法，请参照图1至图9所示，所述方法包括：
[0047]
s10、制备辅助电极102于衬底基板101上。
[0048]
s20、制备阳极层103于所述衬底基板101上并覆盖所述辅助电极102。
[0049]
s30、制备有机蚀刻层104以覆盖部分所述阳极层103，并于所述辅助电极104两侧的上方分别形成第一凸起部1041以及第二凸起部1042。
[0050]
s40、去除未被所述有机蚀刻层104覆盖的部分所述阳极层103，以在所述辅助电极102两侧分别形成阳极103b与第一间隔部103a，并暴露所述辅助电极102的上表面，且所述第一凸起部1041位于所述第一间隔部103a上方并遮挡部分所述辅助电极102。
[0051]
s50、制备像素定义层105于所述衬底基板101上，且所述像素定义层105包括位于所述第一凸起部1041上的第一挡墙1051。
[0052]
s60、制备功能层106于所述像素定义层105上，且所述功能层106于所述辅助电极102上方籍由所述第一凸起部1041隔断，并分隔为与所述阳极103b搭接的发光层1062以及位于所述第一挡墙1051上的第二间隔部1061。
[0053]
s70、制备电极层107于所述功能层106上，且所述电极层107于所述辅助电极102上方籍由所述第一凸起部1041隔断，并分隔为与所述发光层1062搭接的阴极层1072以及位于所述第二间隔部1061上方的第三间隔部1071，且所述阴极层1072延伸至所述辅助电极102上并与所述辅助电极102搭接。
[0054]
在实施应用过程中，现有的显示面板，由于尺寸比较大，且阴极较薄导致压降的问题更加亟待解决，尤其是顶发射的面板，极易产生目视可见的mura(显示不均)，现有工艺中，采用辅助电极来降低阴极的电阻，且辅助电极的主要方案是在基板上制作悬空结构，配合有机发光材料和阴极蒸镀角度不同，使得阴极与辅助电极搭接，但是，现有的悬空结构制作工艺困难，且形状不稳定，难以保持，而本申请实施例中，通过制备阳极层覆盖辅助电极，然后通过湿法蚀刻阳极过程中的各向同性，配合半色调掩膜板对有机蚀刻层进行蚀刻，以在辅助电极上方形成第一间隔部以及第一凸起部以遮挡部分辅助电极，并在后续制程中将电极层隔断，使得阴极层与辅助电极搭接，进而降低了阴极层的电阻，防止了显示面板产生电压降的现象，提高了显示面板的显示均一性。
[0055]
具体地，请继续参照图1至图9所示，下面将详述本申请实施例提供的显示面板的制作方法，且所述方法包括：
[0056]
s10、制备辅助电极102于衬底基板101上。
[0057]
提供衬底基板101，并制备辅助电极102于所述衬底基板101上，其中，所述辅助电极102的材料包括moti或tialti，或其他耐阳极蚀刻液的金属均可，在此不作限定，此外，所述衬底基板101包括基板1011，设置于所述基板1011上的电晶体器件1014以及包覆所述电
晶体器件1014的间隔层，且所述间隔层包括依次设置于所述基板1011上的钝化层1012、第一绝缘层1013、第二绝缘层1015以及平坦层1016。
[0058]
且所述衬底基板101包括贯穿所述平坦层1016以及部分所述第二绝缘层1015的过孔以暴露所述电晶体器件1014中漏极的上表面。
[0059]
s20、制备阳极层103于所述衬底基板101上并覆盖所述辅助电极102。
[0060]
在所述衬底基板101上制备阳极层103，且所述阳极层覆盖所述辅助电极102，其中，所述阳极层103包括层叠设置的金属层1031和导通层1032，且所述金属层1031可以为金属银，所述导通层1032可以为ito材料，需要说明的是，为后续悬空结构的稳定以及高度，因此，所述金属层1031需要制作足够的厚度，在本申请实施例中，所述金属层1031的厚度大于5000a。
[0061]
s30、制备有机蚀刻层104以覆盖部分所述阳极层103，并于所述辅助电极104两侧的上方分别形成第一凸起部1041以及第二凸起部1042。
[0062]
采用有机材料制备有机蚀刻层104于所述阳极层103上，且所述有机蚀刻层104仅覆盖所述阳极层103的部分区域，并于所述辅助电极102两侧的上方分别形成第一凸起部1041以及第二凸起部1042，且所述第一凸起部1041以及所述第二凸起部1042之间的所述阳极层103并未被所述有机蚀刻层104覆盖。
[0063]
需要说明的是，所述第一凸起部1041在所述衬底基板101上的投影与所述辅助电极102在所述衬底基板101上的投影相交，以便于在后续蚀刻之后所述第一凸起部1041可以遮挡所述辅助电极102，另外，所述第二凸起部1042在所述衬底基板101上的投影与所述辅助电极102在所述衬底基板101上的投影相交或相离，在此不作限定，且当所述第二凸起部1042在所述衬底基板101上的投影与所述辅助电极102在所述衬底基板101上的投影相交时，其重叠面积不宜过大，以避免在后续蚀刻之后所述第二凸起部1042会遮挡所述辅助电极102，导致制程难度增大，且相交程度可根据实际情况进行选择，在此不作限定。
[0064]
s40、去除未被所述有机蚀刻层104覆盖的部分所述阳极层103，以在所述辅助电极102两侧分别形成阳极103b与第一间隔部103a，并暴露所述辅助电极102的上表面，且所述第一凸起部1041位于所述第一间隔部103a上方并遮挡部分所述辅助电极102。
[0065]
采用湿法蚀刻去除未被所述有机蚀刻层104覆盖的部分所述阳极层103，即可暴露所述辅助电极的上表面，且将所述阳极层103进行图案化处理，以形成位于所述辅助电极102两侧的第一间隔部103a以及阳极103b，所述第一凸起部1041位于所述第一间隔部103a上方，并遮挡部分所述辅助电极102，需要说明的是，由于所述步骤s20中已说明，对所述金属层1031的厚度进行了加厚，因此，所述第一间隔部103a的高度较高，使得所述第一凸起部1041与所述辅助电极102之间具有足够的空间，有利于后续制程中阴极层与所述辅助电极102进行搭接，极大程度地减小了所述显示面板的制作难度。
[0066]
另外，所述第二凸起部1042位于所述阳极103b的上方，由于湿法蚀刻的各向同性，导致所述第一间隔部103a的侧面相对于所述第一凸起部1041的侧面内缩，以使所述第一间隔部103a暴露所述辅助电极102的部分上表面，并籍由所述第一凸起部1041所遮挡，且所述第一间隔部103a与所述辅助电极102搭接，同时导致所述阳极103b的侧面相对于所述第二凸起部1042的侧面内缩，以使所述阳极103b与所述辅助电极102相隔离。
[0067]
且所述步骤s40还包括：去除部分所述第一凸起部1041、部分所述第二凸起部
1042、以及所述第一凸起部1041与所述第二凸起部1042以外的所述有机蚀刻层104。
[0068]
s50、制备像素定义层105于所述衬底基板101上，且所述像素定义层105包括位于所述第一凸起部1041上的第一挡墙1051。
[0069]
采用有机材料制备像素定义层105于所述衬底基板101上，且所述像素定义层105包括形成于所述第一凸起部1041上的第一挡墙1051、以及位于所述第二凸起部1042上的第二挡墙1052，其中，在对所述像素定义层105进行图案化处理的过程中，根据曝光区域的设计，将所述第一凸起部1041和所述辅助电极102之间的有机材料全部去除，以形成悬空结构，并保留所述第二凸起部1042下方的所述有机材料，以使得所述第二挡墙1052连续地覆盖所述第二凸起部1042以及所述阳极103b的侧面。
[0070]
需要说明的是，在本申请实施例中，所述有机蚀刻层104的材料与所述像素定义层105的材料相同，以提高所述第一凸起部1041的稳定性，使得所述第一凸起部1041可以更加稳定的保持形状，相比于现有技术，提高了悬空结构的稳定性。
[0071]
s60、制备功能层106于所述像素定义层105上，且所述功能层106于所述辅助电极102上方籍由所述第一凸起部1041隔断，并分隔为与所述阳极103b搭接的发光层1062以及位于所述第一挡墙1051上的第二间隔部1061。
[0072]
采用有机发光材料制备功能层106于所述像素定义层105上，且所述功能层106于所述辅助电极102上方籍由所述第一凸起部1041隔断，并分隔为与所述阳极103b搭接的发光层1062以及位于所述第一挡墙1051上的第二间隔部1061，且所述发光层1062延伸至所述辅助电极102上，并与所述辅助电极102搭接。
[0073]
s70、制备电极层107于所述功能层106上，且所述电极层107于所述辅助电极102上方籍由所述第一凸起部1041隔断，并分隔为与所述发光层1062搭接的阴极层1072以及位于所述第二间隔部1061上方的第三间隔部1071，且所述阴极层1072延伸至所述辅助电极102上并与所述辅助电极102搭接。
[0074]
采用电极材料制备电极层107于所述功能层106上，且所述电极层107于所述辅助电极102上方籍由所述第一凸起部1041隔断，并分隔为与所述发光层1062搭接的阴极层1072以及位于所述第二间隔部1061上方的第三间隔部1071，且所述阴极层1072延伸至所述辅助电极102上并与所述辅助电极102搭接，即所述阴极层1072覆盖所述发光层1062并延伸至所述辅助电极102上，与所述辅助电极102搭接。
[0075]
即所述第一间隔部103a、所述第一凸起部1041、所述第一挡墙1051以及所述第二间隔部1061共同组成悬空结构，使得所述辅助电极102的部分上空被悬空结构所遮挡，以将使得所述电极层107被隔断，并使得所述阴极层1072延伸至所述辅助电极102上并与所述辅助电极102搭接。
[0076]
在本申请实施例中，使用加厚的阳极层103作为第一间隔部103a，以垫高所述第一凸起部1041的高度，即增加了所述第一凸起部1041与所述辅助电极102之间的空间，有利于阴极层1072延伸至所述辅助电极102上并与所述辅助电极102搭接，且所述第一凸起部1041采用与所述像素定义层105相同的材料，增加了其塑形的稳定性，从而增加悬空结构的稳定性，且本申请实施例通过设置辅助电极102以减小所述阴极层1072的电阻，进而防止了显示面板产生电压降现象，提高了显示面板的显示均一性。
[0077]
另外，本申请实施例还提供一种上述实施例所述的显示面板的制作方法制得的显
示面板，请参照图8所示，所述显示面板包括：衬底基板101；辅助电极102，设置于所述衬底基板101上；阳极层103，设置于所述衬底基板101上，所述阳极层103包括分别形成于所述辅助电极102两侧的阳极103b与第一间隔部103a；第一凸起部1041以及第二凸起部1042，分别设置于所述辅助电极102两侧的上方，且所述第一凸起部1041位于所述第一间隔部103a上方并遮挡部分所述辅助电极102；像素定义层105，设置于衬底基板101上，且所述像素定义层105包括形成于所述第一凸起部1041上的第一挡墙1051；功能层106，设置于所述像素定义层105上，所述功能层106包括与所述阳极103b搭接的发光层1062以及位于所述第一挡墙1051上的第二间隔部1061；以及电极层107，设置于所述功能层106上，且所述电极层107包括与发光层1062搭接的阴极层1072以及位于所述第二间隔部1061上的第三间隔部1071，所述阴极层1072延伸至所述辅助电极102上并与所述辅助电极102搭接。
[0078]
且所述显示面板的其他结构以及材料组成均与上述实施例中相同，在此不再赘述，且本申请实施例通过制备阳极层覆盖辅助电极，然后通过湿法蚀刻阳极过程中的各向同性，配合半色调掩膜板对有机蚀刻层进行蚀刻，以在辅助电极上方形成第一间隔部以及第一凸起部以遮挡部分辅助电极，并在后续制程中将电极层极隔断，使得阴极层与辅助电极搭接，进而降低了阴极层的电阻，防止了显示面板产生电压降的现象，提高了显示面板的显示均一性。
[0079]
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
[0080]
以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。