1.一种显示面板，其特征在于，包括：
阵列基板；
发光层，所述发光层设置在所述阵列基板上，且所述发光层上阵列设置有多个发光单元；以及，
增透层，所述增透层设置在所述发光层的出光侧；
其中，不同颜色的所述发光单元对应区域内的所述增透层的折射率不同。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光单元包括红色发光单元、蓝色发光单元以及绿色发光单元，且所述红色发光单元对应的所述增透层的折射率大于所述绿色发光单元对应的所述增透层的折射率，所述绿色发光单元对应的所述增透层的折射率大于所述蓝色发光单元对应的所述增透层的折射率。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述红色发光单元对应的所述增透层的折射率在1.55～1.8之间，所述绿色发光单元对应的所述增透层的折射率在1.3～1.52之间，所述蓝色发光单元对应的所述增透层的折射率在1.1～1.28之间。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述增透层为无机膜层，且所述增透层通过化学气相沉积工艺获得。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述增透层为氟化锂膜层。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括出光耦合层，所述出光耦合层设置在所述增透层与所述发光层之间。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述出光耦合层的折射率大于所述增透层的折射率。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述出光耦合层的折射率在1.9～2.1之间。
9.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述出光耦合层的材料包括sin、sionx、sio2或al2o3中的至少一种或组合。
10.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供柔性衬底，并在所述柔性衬底上制备阵列基板；
在所述阵列基板上制备阳极层以及像素定义层，并对所述像素定义层图案化处理；
在所述像素定义层上制备发光层，在所述发光层上制备阴极，并在所述阴极上制备出光耦合层，所述发光层包括多个阵列设置的发光区域；
在所述出光耦合层上通过化学气相沉积工艺制备增透层，其中，所述增透层在不同的发光颜色对应的所述发光区域内的折射率不同。