技术特征：
1.一种透明显示基板，包括显示区和透明区，所述显示区包括多个子像素，其特征在于，还包括：基底；透明阴极，位于所述基底一侧，所述透明阴极在所述基底上的正投影位于所述显示区；覆盖层，所述覆盖层位于所述透明阴极远离所述基底一侧，且包覆所述透明阴极，所述覆盖层的透过率小于所述透明阴极的透过率。2.如权利要求1所述透明显示基板，其特征在于，还包括在所述覆盖层远离所述基底一侧依次设置的第一透光层和第二透光层；所述第一透光层和所述第二透光层覆盖所述显示区和所述透明区，所述第一透光层折射率小于所述第二透光层折射率。3.如权利要求1所述透明显示基板，其特征在于，所述透明阴极厚度大于120nm，所述覆盖层厚度小于10nm。4.如权利要求1所述透明显示基板，其特征在于，所述覆盖层材料包括镁银合金。5.如权利要求2所述透明显示基板，其特征在于，所述第一透光层材料包括二氧化硅、氟化锂、硅碳氮中的一种或多种；所述第二透光层材料包括氮化硅。6.如权利要求1-5任一项所述透明显示基板，其特征在于，所述透明阴极在所述基底上的正投影与所述显示区重叠；或者，所述透明阴极包括多个子透明阴极，所述子透明阴极在所述基底上的正投影与所述子像素在所述基底上的正投影重叠。7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的透明显示基板。8.一种透明显示基板制备方法，所述透明显示基板包括显示区和透明区，所述显示区包括多个子像素，其特征在于，包括：提供一基底；通过构图工艺在所述基底一侧制作透明阴极，所述透明阴极在所述基底上的正投影位于所述显示区；通过构图工艺在所述透明阴极远离所述基底一侧制作覆盖层，所述覆盖层包覆所述透明阴极，所述覆盖层的透过率小于所述透明阴极的透过率。9.如权利要求8所述的制备方法，其特征在于，通过构图工艺在所述基底一侧制作透明阴极，通过构图工艺在所述透明阴极远离所述基底的一侧形成覆盖层，包括：通过构图工艺在所述基底一侧制作透明阴极，所述透明阴极在所述基底上的正投影与所述显示区重叠；通过构图工艺在所述透明阴极远离所述基底的一侧形成覆盖层，所述覆盖层包覆所述透明阴极；或者；通过构图工艺在所述基底一侧制作透明阴极，所述透明阴极包括多个子透明阴极，所述子透明阴极的位置与所述子像素的位置一一对应；通过构图工艺在所述透明阴极远离所述基底的一侧形成覆盖层，所述覆盖层包括多个子覆盖层，所述子覆盖层的位置与所述子透明阴极的位置一一对应，且每一所述子覆盖层包覆对应位置处的所述子透明阴极。
10.如权利要求8所述的制备方法，其特征在于，还包括：在所述覆盖层远离所述基底的一侧依次制备第一透光层和第二透光层，所示第一透光层的折射率小于所述第二透光层的折射率。
技术总结
本申请实施例提供了一种透明显示基板及其制作方法、显示装置。透明显示基板包括显示区和透明区，显示区包括多个子像素，还包括：基底、透明阴极和覆盖层；透明阴极位于基底一侧，透明阴极在基底上的正投影位于显示区；覆盖层位于透明阴极远离基底一侧，且包覆透明阴极，覆盖层的透过率小于透明阴极的透过率。本发明提供的透明显示基板，通过图形化透明阴极，且通过图形化覆盖层包覆透明阴极，减少了像素侧向漏光，同时提高整体透过率。同时提高整体透过率。同时提高整体透过率。
技术研发人员：全威
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：2021.10.21
技术公布日：2022/1/25