多重基板处置系统及方法与流程

本公开内容的实施方式一般涉及制造半导体器件的系统及方法。更特定言之，本公开内容涉及用于同时处理多个基板的设备及方法。

背景技术：

1、电子器件通常是使用用于在环境之间传送基板的传送系统在受控的处理环境中形成的。器件制造的有效性往往通过器件产率及拥有成本(cost of ownership,coo)来衡量。器件产率及coo影响生产电子器件的成本，并且因此影响器件制造商在市场上的竞争力。器件产率及coo受系统及工艺生产量的影响，工艺生产量由使用工艺序列每小时处理的基板数量限定。该序列包括在各种腔室中处理基板，以及在腔室之间传送基板。每个腔室处的操作参数和/或条件以及传送基板的方法经优化以增加基板生产量，然而，处理中的某些限制往往限制生产量。特别地，对于光刻系统，可以针对单独基板优化腔室处理时间，然而，在每个腔室处单独地处理基板，且随后将基板从一个腔室传送至另一个腔室可限制生产量，尤其是在涉及使用不同工艺参数(例如，配方)的不同类型基板的工艺中如此。

2、因此，需要一种用于处理多个基板的系统及方法，该系统及方法可满足预定的器件性能并增加总生产量及降低成本(例如，coo)。

技术实现思路

1、在一个实施方式中，提供了一种多重基板处置(handling)系统，该多重基板处置系统具有对准设备，该对准设备能够将一组基板中的每个基板定位成预定取向以用于传送。缓冲腔室被配置为接收并调节设置在基板载体上的该组基板。第一传送组件被配置为将该组基板传送至缓冲腔室及从缓冲腔室传送出，并且能够将该组基板中的每个基板从对准设备传送至缓冲腔室中的载体。载体包括能够固定该组基板的多个模块。该系统包括具有至少两个机器人的第二传送组件，该至少两个机器人被配置为在缓冲腔室与处理腔室之间传送该组基板的载体。处理腔室能够使用针对每个基板的不同的工艺参数来处理该组基板。

2、在另一个实施方式中，提供了一种方法，该方法包括将第一组基板从两个或更多个舱组件传送至缓冲腔室中的第一载体。第一组基板包括至少两个相对于彼此具有不同基板特性的基板。该方法包括在缓冲腔室中调节设置在第一载体上的第一组基板，以及将具有第一组基板的第一载体传送至处理腔室。在处理腔室中处理设置在第一载体上的第一组基板。对第一组基板的处理使用针对每个基板的不同工艺参数。

3、在另一个实施方式中，提供了一种基板处置系统，该基板处置系统包括第一传送组件，该第一传送组件被配置为将一组基板传送至缓冲腔室及从缓冲腔室传送出。缓冲腔室被配置为调节该组基板。缓冲腔室包括载体，该载体紧固该组基板以供处理。提供第二传送组件，该第二传送组件被配置为在缓冲腔室与光刻设备之间传送该组基板的载体。光刻设备能够使得该组基板中的每个基板彼此同时地被处理。

技术特征：

1.一种系统，所述系统包括：

2.如权利要求1所述的系统，其中所述处理腔室被配置为同时处理所述载体上的所述组基板中的每个基板。

3.如权利要求1所述的系统，其中所述处理腔室是光刻系统，所述光刻系统被配置为使用不同的设计文件同时处理所述组基板中的至少两个基板。

4.如权利要求1所述的系统，其中所述第一传送组件及所述第二传送组件能够彼此同时操作。

5.如权利要求1所述的系统，其中所述缓冲腔室包括多个载体，其中所述缓冲腔室及所述处理腔室能够彼此同时操作。

6.如权利要求1所述的系统，进一步包括接口模块，所述接口模块包括两个或更多个舱组件，其中所述第一传送组件被配置为在所述两个或更多个舱组件与所述缓冲腔室之间传送所述组基板。

7.如权利要求1所述的系统，其中每组基板包括具有不同基板特性的基板，所述基板特性包括几何形状、大小、组成、透明度、或上述的组合。

8.如权利要求1所述的系统，其中所述第一传送组件包括第一机器人及第二机器人，每个机器人能够彼此同时操作。

9.如权利要求8所述的系统，其中所述第二传送组件包括第三机器人及第四机器人，所述第三机器人及所述第四机器人中的每一者能够彼此同时操作。

10.一种方法，所述方法包括以下步骤：

11.如权利要求10所述的方法，进一步包括以下步骤：在传送至所述缓冲腔室之前，在对准设备处对准从所述两个或更多个舱组件传送的每个基板。

12.如权利要求10所述的方法，进一步包括以下步骤：将第二组基板从两个或更多个舱组件传送至所述缓冲腔室中的第二载体，其中传送所述第二组基板与在所述处理腔室中处理所述第一组基板同时发生。

13.如权利要求12所述的方法，进一步包括以下步骤：在所述缓冲腔室中调节设置在所述第二载体上的所述第二组基板，其中调节所述第二组基板与在所述处理腔室中处理所述第一组基板同时发生。

14.如权利要求13所述的方法，其中同时处理的所述第一组基板及所述第二组基板的总往返旅程时间比顺序处理所述第一组基板及所述第二组基板的累积往返旅程时间少约15％至约30％，其中往返旅程指将基板从所述两个或更多个舱组件传送至所述缓冲腔室、至所述处理腔室、至所述缓冲腔室，并返回至所述两个或更多个舱组件。

15.如权利要求10所述的方法，进一步包括以下步骤：

16.如权利要求10所述的方法，其中在所述缓冲腔室中将所述第一组基板从两个或更多个舱组件传送至所述第一载体的步骤进一步包括以下步骤：使用第一机器人及第二机器人传送所述第一组基板，其中每个机器人彼此同时传送基板。

17.如权利要求10所述的方法，其中处理六组四个基板的总往返旅程时间为约600秒至约1000秒。

18.如权利要求10所述的方法，其中传送所述第一组基板的步骤包括每个基板约1秒至约10秒的传送时间。

19.一种基板处置系统，所述基板处置系统包括：

20.如权利要求19所述的基板处置系统，其中所述组基板包括2至8个基板。

技术总结
本公开内容提供了一种多重基板处置系统，该多重基板处置系统具有对准设备，该对准设备能够将一组基板中的每个基板定位成预定取向以用于传送。缓冲腔室被配置为接收并调节设置在基板载体上的该组基板。第一传送组件被配置为将该组基板传送至缓冲腔室及从缓冲腔室传送出，并且能够将该组基板中的每个基板从对准设备传送至缓冲腔室中的载体。载体包括能够固定该组基板的多个模块。该系统包括具有至少两个机器人的第二传送组件，该至少两个机器人被配置为在缓冲腔室与处理腔室之间传送该组基板的载体。处理腔室能够使用针对每个基板的不同的工艺参数来处理该组基板。

技术研发人员：王修仁,江信毅,董能瑞,郭士豪,高嘉宏,刘邦煜,许旭铭
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/12