隔膜、隔膜的制备方法及锂电池与流程

文档序号:35530764发布日期:2023-09-21 10:26阅读:28来源:国知局
隔膜、隔膜的制备方法及锂电池与流程

本发明涉及锂电池领域,尤其涉及隔膜、隔膜的制备方法及锂电池。


背景技术:

1、为了提高隔膜的耐热性,现有做法是在隔膜表面涂覆氧化铝、勃姆石、氢氧化镁等陶瓷材料。

2、而实际上,陶瓷层与隔膜的两相界面是个弱结合,在高温下容易发生分离,进而导致陶瓷层剥落,隔膜基体融化。


技术实现思路

1、本发明提供一种隔膜、隔膜的制备方法以及对应的锂电池,以改善隔膜的破膜温度。

2、根据本发明的第一方面,提供了一种隔膜,包括基膜以及位于所述基膜表面的涂层,其中,所述基膜为聚烯烃基膜;所述涂层的孔隙r为10nm<r<70nm;在外界温度小于或等于基膜熔点温度时,所述涂层的表面为多孔形貌,当外界温度大于基膜熔点温度时,所述涂层的表面析出聚烯烃熔出物,单个熔出物的面积≤4μm2,熔出物在所述涂层上的覆盖率a为10%≤a≤40%。

3、可选的,所述基膜熔点温度为130度。

4、可选的,所述涂层的堆积密度ρ为1g/cm3≤ρ≤1.5g/cm3;所述涂层的孔隙率n为35%<n<60%。可选的,所述涂层由涂覆浆料涂覆而成,所述涂覆浆料包括涂覆材料、溶剂、胶黏剂以及助剂;其中:

5、所述涂覆材料在涂覆浆料中的含量为1~30wt%;

6、所述胶黏剂的质量占涂覆材料的质量的1-10wt%,所述助剂的质量占涂覆浆料的质量的万分之一到百分之一。

7、可选的,所述涂覆材料包括纳米材料,所述纳米材料包括粒径d为10nm≤d≤300nm的纳米颗粒或长度小于等于1000nm的一维纳米材料中的至少一种。

8、可选的,所述涂覆材料选自陶瓷材料、聚合物材料中的至少一种。

9、可选的,所述陶瓷材料选自氧化铝、勃姆石、氢氧化镁、硫酸钡、碳酸钙、氮化铝、碳化硅、羟基磷灰石、凹凸棒中的一种或多种;所述聚合物材料选自纳米纤维素、芳纶树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚偏氟乙烯和聚环氧乙烷中的一种或多种。

10、可选的,所述溶剂选自水、n-甲基吡咯烷酮、乙醇或丙酮。

11、可选的,所述基膜的厚度为3-30微米。

12、根据本发明的第二方面,提供了一种隔膜的制备方法,用于制备上述的隔膜,包括如下步骤:

13、s1:涂覆浆料的制备

14、将涂覆材料充分地分散在溶剂中形成分散液,涂覆材料在分散液中的含量为1~30wt%,随后在分散液中加入胶黏剂和助剂形成涂覆浆料;其中,所述胶黏剂占所述涂覆材料的1-10wt%,所述助剂占所述涂覆浆料的质量的万分之一到百分之一;

15、s2:涂覆制膜:将所述涂覆浆料涂覆于基膜上,并进行烘干,得到隔膜。

16、可选的,所述s2中的所述涂覆的方式为喷涂、浸涂、微凹辊涂、印刷涂、挤压涂覆、线棒涂中的任一种或其组合,涂覆速度为10-200m/min。

17、可选的,所述烘干的温度为40-130度。

18、根据本发明的第三方面,提供了一种隔膜的制备方法,用于制备上述的隔膜,包括如下步骤:

19、s1:提供所述基膜;

20、s2:将所述基膜置于化学气相沉积装置中,所述化学气相沉积装置包括一化学沉积金属板,所述基膜位于所述化学沉积金属板的下方;对所述化学气相沉积金属板进行高电压激发,在通入氧气的条件下,使所述化学沉积金属板的表面金属发生氧化反应,生成纳米级金属氧化物,所述纳米级金属氧化物脱落沉积到所述基膜的表面;

21、s3:沉积到所述基膜表面的纳米级金属氧化物团聚在一起,与所述基膜紧密结合,形成所述隔膜。

22、可选的,所述化学沉积金属板为铝、硅、锆或锌。

23、可选的,所述步骤s2中的化学气相沉积的条件为:气压为常压(即气压为101.325kpa),沉积温度为30-60度,沉积电压范围为300-500v,沉积的空气流速为1000-5000m3/h,沉积过程中基膜的运行速度为10-100m/min。

24、根据本发明的第四方面,提供了一种锂电池,包括上述的隔膜。

25、本发明提供的隔膜,通过将涂层的孔隙r控制在10nm<r<70nm,当外界温度大于基膜熔点温度时,所述涂层的表面析出聚烯烃熔出物,单个熔出物的面积≤4μm2,熔出物在所述涂层上的覆盖率a为10%≤a≤40%。从而使得聚烯烃基膜和涂层之间的配比达到一个优化的范围,使得高温时涂层和基膜能够有效结合,从而有效提高了隔膜的破膜温度。

26、并且在进一步优选实施方式中,通过控制涂覆材料的粒径d为10nm≤d≤300nm,使得该粒径与涂层的孔隙率n有效平衡,可有效地利用毛细作用使聚烯烃熔出物浸入到涂层的一定深度处,从而使得涂层和基膜的结合进一步增强,进一步提高了隔膜的破膜温度。



技术特征:

1.一种隔膜,其特征在于,包括基膜以及位于所述基膜表面的涂层,其中,所述基膜为聚烯烃基膜;所述涂层的孔隙r为10nm<r<70nm;在外界温度小于等于基膜熔点温度时,所述涂层的表面为多孔形貌,当外界温度大于基膜熔点温度时,所述涂层的表面析出聚烯烃熔出物,单个熔出物的面积≤4μm2,熔出物在所述涂层上的覆盖率a为10%≤a≤40%。

2.根据权利要求1所述的隔膜,其特征在于,所述基膜熔点温度为130度。

3.根据权利要求1所述的隔膜,其特征在于,所述涂层的堆积密度ρ为1g/cm3≤ρ≤1.5g/cm3;所述涂层的孔隙率n为35%<n<60%。

4.根据权利要求1所述的隔膜,其特征在于,所述涂层由涂覆浆料涂覆而成,所述涂覆浆料包括涂覆材料、溶剂、胶黏剂以及助剂;其中:

5.根据权利要求1所述的隔膜,其特征在于,所述涂覆材料包括纳米材料,所述纳米材料包括粒径d为10nm≤d≤300nm的纳米颗粒或长度小于等于1000nm的一维纳米材料中的至少一种。

6.根据权利要求4-5任一项所述的隔膜,其特征在于,所述涂覆材料选自陶瓷材料、聚合物材料中的至少一种;

7.根据权利要求4所述的隔膜,其特征在于,所述溶剂选自水、n-甲基吡咯烷酮、乙醇或丙酮。

8.根据权利要求1所述的隔膜,其特征在于,所述基膜的厚度为3-30微米。

9.一种隔膜的制备方法,用于制备权利要求1-8中任一项所述的隔膜,其特征在于,包括如下步骤:

10.根据权利要求9所述的隔膜的制备方法,其特征在于,所述s2中的所述涂覆的方式为喷涂、浸涂、微凹辊涂、印刷涂、挤压涂覆、线棒涂中的任一种或其组合,涂覆速度为10-200m/min。

11.根据权利要求9所述的隔膜的制备方法,其特征在于,所述烘干的温度为40-130度。

12.一种隔膜的制备方法,用于制备权利要求1-8任一项所述的隔膜,其特征在于,包括如下步骤:

13.根据权利要求12所述的隔膜的制备方法,其特征在于,所述化学沉积金属板为铝、硅、锆或锌。

14.根据权利要求12所述的隔膜的制备方法,其特征在于,所述步骤s2中的化学气相沉积的条件为:气压为常压,沉积温度为30-60度,沉积电压范围为300-500v,沉积的空气流速为1000-5000m3/h,沉积过程中基膜的运行速度为10-100m/min。

15.一种锂电池,其特征在于,包括权利要求1-8任一项所述的隔膜或包括利用权利要求9-14任一项所述制备方法制作而成的隔膜。


技术总结
本发明提供了一种隔膜、隔膜的制备方法及锂电池,其中,该隔膜包括基膜以及位于所述基膜表面的涂层,其中,所述基膜为聚烯烃基膜;所述涂层的孔隙r为10nm<r<70nm,所述涂层的堆积密度ρ为1g/cm<supgt;3</supgt;≤ρ≤1.5g/cm<supgt;3</supgt;;在外界温度小于等于基膜熔点温度时,所述涂层的表面为多孔形貌,当外界温度大于基膜熔点温度时,所述涂层的表面析出聚烯烃熔出物,单个熔出物的面积≤4μm<supgt;2</supgt;,熔出物在所述涂层上的覆盖率A为10%≤A≤40%。本发明提供的隔膜,其聚烯烃基膜和涂层之间的配比达到一个优化的范围,使得高温时涂层和基膜能够有效结合,从而有效提高了隔膜的破膜温度。

技术研发人员:王艳杰,陈泽林,沈剑强,孙华,黄慧桢,林陆菁,陈秀峰
受保护的技术使用者:深圳市星源材质科技股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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