一种显示面板和显示装置的制作方法

文档序号:31729493发布日期:2022-10-05 01:31阅读:37来源:国知局
一种显示面板和显示装置的制作方法
一种显示面板和显示装置
1.本技术为申请日为2019年08月27日,申请号为201910795530.2,发明创造名称为“一种显示面板和显示装置”的分案申请。
【技术领域】
2.本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板和显示装置。


背景技术:

3.随着显示技术的发展,人们对使用的电子产品不仅要求流畅的使用体验,而且对视觉体验的要求也越来越高,高屏占比成为目前研究的方向。对于电子产品来说,前置摄像头等光学模组的设置必然会占据一定的空间,从而影响屏占比。而为了实现真正的全面屏,研究人员考虑屏下光学模组的实现方案。
4.将光学模组比如摄像头设置在显示面板的发光器件的下方,即将光学模组设置在显示区内,光学模组所在的位置能够正常显示,当需要使用光学模组时,光线穿透显示面板到达光学模组最终被光学模组利用。现有技术的显示面板结构中,光学模组能够接收到的光亮较少,影响光学模组的使用性能。如何提升光线穿透显示面板的透过率,提高光学模组接收的光量,提升屏下光学模组的性能,是目前亟待解决的技术问题。


技术实现要素:

5.有鉴于此,本发明实施例提供了一种显示面板和显示装置,用以解决现有技术中提升光线穿透显示面板的透过率,提升屏下光学元件性能的问题。
6.一方面,本发明实施例提供了一种显示面板,显示面板包括:显示区,所述显示区包括光学模组设置区、过渡区和常规区;
7.所述显示区包括多个像素,所述像素包括第一像素、过渡像素和常规像素,所述第一像素位于所述光学模组设置区,所述过渡像素位于所述过渡区,所述常规像素位于所述常规区;
8.像素电路,所述像素电路包括第一像素电路、第二像素电路和第三像素电路,其中,所述第二像素电路位于所述过渡区且与所述过渡像素电连接,所述第三像素电路位于所述常规区且与所述常规像素电连接;
9.所述第一像素电路与所述第一像素电连接,且至少部分所述第一像素电路的晶体管位于所述过渡区。
10.另一方面,基于同一发明构思,本发明实施例提供了一种显示装置,包括本发明提供的任意一种显示面板。
11.本发明实施例提供的显示面板和显示装置,具有如下有益效果:
12.本发明在光学模组设置区和常规区之间设置有过渡区,本发明将至少部分第一像素电路设置在过渡区内,实现将驱动光学模组设置区内的第一像素的部分像素电路设置在过渡区内。通过合理的像素电路布局,将至少部分像素电路移出光学模组设置区,增大了光
学模组设置区内的透光区的面积,从而能够增加光学模组设置区内光线穿透显示面板的透过率,提升屏下光学模组的光学性能。
【附图说明】
13.为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
14.图1为本发明实施例提供的显示面板一种可选实施方式示意图;
15.图2为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式示意图;
16.图3为图1中显示面板q位置处一种可选实施方式局部放大示意图;
17.图4为本发明实施例提供的显示面板中像素电路一种可选实施方式示意图;
18.图5为图1中显示面板q位置处另一种可选实施方式局部放大示意图;
19.图6为图5中切线e-e

位置处一种可选实施方式剖面示意图;
20.图7为图5中切线e-e

位置处另一种可选实施方式剖面示意图;
21.图8为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部示意图;
22.图9为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式局部示意图;
23.图10为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式膜层结构示意图;
24.图11为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部示意图;
25.图12为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部示意图;
26.图13为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部示意图;
27.图14为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部示意图;
28.图15为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部示意图;
29.图16为本发明实施例提供的显示装置一种可选实施方式示意图。
【具体实施方式】
30.为了更好的理解本发明的技术方案,下面结合附图对本发明实施例进行详细描述。
31.应当明确,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
32.在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的,而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式,除非上下文清楚地表示其他含义。
33.应当理解,本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系,表示可以存在三种关系,例如,a和/或b,可以表示:单独存在a,同时存在a和b,单独存在b这三种情况。另外,本文中字符“/”,一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
34.基于现有技术存在的问题,本发明提供一种显示面板,在光学模组设置区和常规区之间设置过渡区,通过减小过渡区的像素密度,来减少过渡区内像素电路的个数,从而能够将驱动光学模组设置区内的像素的部分像素电路设置在过渡区内。通过合理的像素电路
布局,将部分像素电路移出光学模组设置区,增大了光学模组设置区内的透光区的面积,从而能够增加光学模组设置区内光线穿透显示面板的透过率,提升屏下光学模组的光学性能。
35.本发明实施例提供一种显示面板,显示面板包括:显示区,显示区包括光学模组设置区、过渡区和常规区,过渡区至少半包围光学模组设置区,常规区至少半包围过渡区。图1为本发明实施例提供的显示面板一种可选实施方式示意图,图2为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式示意图。图3为图1中显示面板q位置处一种可选实施方式局部放大示意图。
36.如图1所示,显示面板包括:显示区aa,显示区aa包括光学模组设置区a、过渡区b和常规区c,示意出了过渡区b包围光学模组设置区a,常规区c包围过渡区b的情况。可选的,如图2所示,显示面板中过渡区b半包围光学模组设置区a,常规区c半包围过渡区b。需要说明的是,本发明对于光学模组设置区在显示区的具体位置不做限定,实际中可以根据具体需求进行设定。图1和图2中光学模组设置区a和过渡区b的形状也仅为示意性表示,不作为对本发明的限定。
37.以图1示意的显示面板进行说明,如图3所示,显示区包括多个像素,像素包括第一像素p1、过渡像素p2和常规像素p3,第一像素p1位于光学模组设置区a,过渡像素p2位于过渡区,常规像素p3位于常规区,光学模组设置区a的像素密度为第一密度,过渡区b的像素密度为第二密度,常规区c的像素密度为第三密度,其中,第一密度小于第三密度,且第二密度小于第三密度。本发明中按像素所在的区域对像素划分成第一像素p1、过渡像素p2和常规像素p3。其中,像素密度指每英寸屏幕所拥有的像素数量。
38.继续参考图3所示,显示面板还包括像素电路,像素电路包括第一像素电路dl1、第二像素电路dl2和第三像素电路dl3,其中,第二像素电路dl2位于过渡区b且与过渡像素p2电连接,第三像素电路dl3位于常规区c且与常规像素p3电连接;第一像素电路dl1与第一像素p1电连接,且至少部分第一像素电路dl1位于过渡区b。图中对像素电路仅做简化示意,以常规区c为例,第三像素p3与驱动该像素的第三像素电路dl3交叠。在光学模组设置区a内,没有移出该区域的第一像素电路dl3与其驱动的第一像素p1交叠。在过渡区b中,部分第二像素p2仅与驱动该像素的第二像素电路dl2交叠,部分第二像素p2还可能与移入过渡区b内的第一像素电路dl1交叠。可选的,移入过渡区b内的第一像素电路dl1也可以不与第二像素p2交叠。
39.以图3中示意的第一方向x和第二方向y为例,比如第一方向x为行方向,第二方向y为列方向,图3中光学模组设置区a的像素密度小于常规区c的像素密度是通过减少在第二方向y上排列的像素列的个数实现的,同样的,过渡区b的像素密度小于常规区c的像素密度也是通过减小在二方向y上排列的像素列的个数实现的。可选的,光学模组设置区a和过渡区b内也可以是通过减少在第一方向x上排列的像素行的个数以实现像素密度的减小。可选的,光学模组设置区a和过渡区b内也可以是通过同时减少在第一方向x和第二方向y上排列的像素个数以实现像素密度的减小。
40.本发明实施例提供的显示面板可以为有机发光显示面板,显示面板包括发光器件,通常情况下一个像素包括一个发光器件,发光器件所在区域为像素的发光区,发光器件包括依次堆叠的阳极、发光层和阴极。为了提高光利用率,通常情况下阳极会制作成反射阳
极,发光层发出的光穿透阴极实现像素的发光显示,发光层发出的光能够穿透阳极的光量非常少,所以通常情况下认定发光器件所在的区域为显示面板的非透光区,非透光区是指光线不能穿透的区域。另外,由于显示面板中还包括驱动像素进行发光的像素电路及各种金属走线,金属走线也会对光线起到遮挡作用,导致光线不能穿透显示面板,所以像素电路和金属走线所在的区域也属于非透光区,那么在显示面板的显示区内相邻的两个发光器件之间的区域也不完全都是透光区。所以显示区内整体的透光区面积非常小,则能够穿透显示面板的光量少,当应用屏下光学模组方案时,光学模组能够利用的光量少,导致屏下光学模组的光学性能差,影响使用体验。
41.本发明实施例中光学模组设置区a为光学模组预留区,光学模组设置区a的像素密度小于常规区c的像素密度。当组装成显示装置时,在光学模组设置区a对应的位置可以设置光学模组,比如摄像头。在需要显示功能时光学模组设置区a可以进行正常的显示,当需要使用摄像功能时,光线能够由光学模组设置区穿透显示面板而被摄像头利用。本发明首先设置光学模组设置区a的像素密度小于常规区c的像素密度,则在光学模组设置区内像素个数变少,驱动像素进行显示的像素电路的个数也变少,能够减少光学模组设置区内非透光区的面积,相应的透光区的面积会变大,从而能够增加光线穿透光学模组设置区的光量,提升屏下光学模组的光学性能。进一步的,本发明在光学模组设置区a和常规区c之间设置有过渡区b,过渡区b的像素密度小于常规区c的像素密度,则在过渡区b内需要设置的第二像素电路的个数变少,本发明将至少部分第一像素电路设置在过渡区内,即通过降低过渡区的像素密度,实现将驱动光学模组设置区内的第一像素的部分像素电路设置在过渡区内。通过合理的像素密度和像素电路的布局,将至少部分像素电路移出光学模组设置区,增大了光学模组设置区内的透光区的面积,从而能够增加光学模组设置区内光线穿透显示面板的透过率,提升屏下光学模组的光学性能。
42.进一步的,图4为本发明实施例提供的显示面板中像素电路一种可选实施方式示意图,如图4所示,像素电路包括第一扫描线s1、第二扫描线s2、发光控制信号线emit、数据线d、电源信号线pvdd、复位信号线ref、第一开关管至第六开关管(t1至t6)及驱动管m。像素电路通常包括多个晶体管和多条信号线,为了驱动显示面板进行显示,在显示面板的阵列层中像素电路密集排布。需要说明的是,图4中像素电路仅做示意性表示,不作为对本发明的限定。
43.在本发明实施例提供的显示面板中光学模组设置区作为预留出的与屏下光学模组对应的区域,比如在应用屏下摄像头方案时,像素电路中的各种信号线之间的缝隙(参考上述图4中的示意,例如可以是数据线d和电源信号线pvdd之间的缝隙、第一扫描线s1和复位信号线ref之间的缝隙等)会对穿透光学模组设置区的光线产生衍射作用,经衍射后再被摄像头利用的光,会严重影响摄像头拍照的质量。由此,发明人进一步思考,对于在光学模组设置区与过渡区相邻的区域内,设置增大部分过渡像素的尺寸,利用过渡像素来遮挡部分像素电路走线之间的缝隙,以改善衍射作用对光学模组性能的影响。
44.在一种实施例中,图5为图1中显示面板q位置处另一种可选实施方式局部放大示意图。如图5所示的,过渡像素p2的面积大于常规像素p3的面积。在过渡区b内,部分过渡像素p2与第一像素电路dl1交叠,能够遮盖住第一像素电路dl1中的至少部分走线缝隙。显示面板中的像素包括在垂直于显示面板方向上依次堆叠的阳极、发光层和阴极。在图5的俯视
角度观看,阳极、发光层、阴极交叠,则阳极、发光层和阴极中面积最大的结构限定出对应的像素的面积。
45.在一种实施例中,通过设置增大部分过渡像素的阳极的面积,来利用过渡像素遮挡第一像素电路的走线缝隙。图6为图5中切线e-e

位置处一种可选实施方式剖面示意图。如图6所示的,像素包括依次堆叠的阳极a、发光层b和阴极c。过渡像素p2的阳极a面积大于常规像素p3的阳极a面积;在垂直于显示面板所在平面的方向e上,至少部分过渡像素p2的阳极a与第一像素电路dl1走线缝隙交叠。实际像素电路走线复杂,在剖面图中不能完整的示意出电路结构及走线缝隙,图6中仅对第一像素电路dl1中的走线缝隙做示意性表示。图6中示意出不与第一像素电路dl1交叠的过渡像素p2的阳极面积也变大,可选的,可以仅设计与第一像素电路dl1交叠的过渡像素p2的阳极面积大于常规像素的阳极面积。该实施例提供的显示面板,通过设置过渡区的像素密度小于常规区的像素密度,减少了过渡区内设置的驱动过渡像素的第二像素电路的个数,然后将至少部分第一像素电路设置在过渡区,增大了光学模组设置区内的透光区的面积,从而能够增加光线穿透光学模组设置区的光量,提升屏下光学模组的光学性能。进一步的,设置过渡像素的阳极面积大于常规像素的阳极面积,利用过渡像素的阳极的遮光性能来遮挡第一像素电路的至少部分走线缝隙,减少第一像素电路的走线缝隙对穿透显示面板的光线的衍射作用,也即能够减少光学模组设置区周围的光的衍射作用,以提升应用屏下光学模组方案时光学模组的性能。
46.优选的,位于过渡区的第一像素电路的走线缝隙完全被过渡像素的阳极所覆盖。本发明实施例中将至少部分第一像素电路设置在过渡区,能够减少在光学模组设置区内设置的第一像素电路的个数,从而能够减少光学模组设置区内非透光区的面积,相应的增加了透光区的面积,能够提升光学模组设置区的光线透过率,从而提升光学模组设置区内屏下光学模组可利用的光亮。进一步的设置位于过渡区的第一像素电路的走线缝隙完全被过渡像素的阳极覆盖,最大限度的减少消除了位于过渡区内的第一像素电路的走线造成的光线衍射,有效提升应用屏下光学模组方案时光学模组的性能。
47.在一种实施例中,过渡像素的发光面积大于常规像素的发光面积。通过同时增大部分过渡像素的阳极面积、发光层面积和阴极面积,来利用过渡像素遮挡第一像素电路的走线缝隙。图7为图5中切线e-e

位置处另一种可选实施方式剖面示意图。如图7所示的,像素包括依次堆叠的阳极a、发光层b和阴极c。过渡像素p2的发光面积大于常规像素p3的发光面积,过渡像素p2的阳极a面积大于常规像素p3的阳极a面积,过渡像素p2的发光层b面积大于常规像素p3的发光层b面积。图7中示意出不与第一像素电路dl1交叠的过渡像素p2的阳极和发光层面积也变大,可选的,可以仅设计与第一像素电路dl1交叠的过渡像素p2的阳极和发光层面积变大。该实施例将至少部分第一像素电路设置在过渡区,能够增大光学模组设置区内透光区的面积,提升光学模组设置区的光透过率。进一步的,增大过渡像素的发光面积,利用过渡像素来遮挡第一像素电路的至少部分走线缝隙,以减少第一像素电路的走线缝隙对光线的衍射作用,也即能够减少光学模组设置区周围的光的衍射作用,提升应用屏下光学模组方案时光学模组的性能。另外,本发明中过渡区的像素密度小于常规区的像素密度,为了保证过渡区与常规区亮度一致,可能需要设置增大过渡像素的数据电压信号,而该实施例中设置过渡像素的发光面积变大后,能够相应的减小过渡像素的电流密度,从而有利于提升过渡像素的寿命。
48.在一种实施例中,本发明实施例提供的显示面板中,光学模组设置区内第一像素的个数为n,过渡区内第一像素电路的个数为n,其中,0.3≤n/n≤0.8。n/n表示位于过渡区的第一像素电路在所有的第一像素电路中的占比。n/n=0.3表示将30%的第一像素电路移出光学模组设置区后设置在过渡区,n/n=0.8表示将80%的第一像素电路移出光学模组设置区后设置在过渡区。发明人考虑实际中设计将占比多少的第一像素电路设置在过渡区,与光学模组设置区的大小、过渡区内像素密度、过渡区内能够排布的像素电路的总个数、工艺制作难易程度、过渡区和光学模组设置区的显示效果等多种因素相关。经综合考量各种因素的影响,设计0.3≤n/n≤0.8,此种设计时,过渡区的像素密度不需要设置的过小,保证正常显示时过渡区与常规区之间没有明显的显示界限,且过渡区内能够放置较多的第一像素电路,较大程度的增大光学模组设置区的透光区面积,提升光透过率。可选的,在显示区内,像素和像素电路一一对应电连接。
49.在一种实施例中,图8为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部示意图。如图8所示,第一像素p1包括第一边缘像素p11,第一边缘像素p11与过渡区b相邻,其中,至少部分与第一边缘像素p11电连接的第一像素电路dl1位于过渡区b。在显示面板中驱动像素进行显示的像素电路也排布密集,第一边缘像素与过渡区相邻,该实施例中设置与第一边缘像素电连接的第一像素电路位于过渡区,该第一像素电路在不做设计改变时与过渡区相邻,将其位置移入过渡区在制作时,对显示面板中其他像素电路的排布影响小,工艺制作简单。
50.在一种实施例中,图9为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式局部示意图。如图9所示,第一像素p1还包括次边缘像素p12,次边缘像素p12位于第一边缘像素p11远离过渡区b的一侧,且与第一边缘像素p11相邻;至少部分与第一边缘像素p11电连接的第一像素电路dl1位于过渡区b,且至少部分与次边缘像素p12电连接的第一像素电路dl1位于过渡区b。次边缘像素p12与过渡区之间间隔第一边缘像素p11,也即次边缘像素p12距过渡区的距离较近,将与次边缘像素p12电连接的第一像素电路dl1移入过渡区b,对显示面板中整体的像素电路排布影响较小,设计上相对比较简单,工艺难度低。
51.需要说明的是,图9中过渡区b内的像素电路排布情况仅是示意性表示。将至少部分第一像素电路dl1设置在过渡区后,可能会对过渡区内第二像素电路dl2的排布产生一定影响,在实际制作时,像素电路的电路结构确定后,该像素电路占据的面积基本不变,但是可以调整像素电路中各元器件的排布位置,实现在如图9所示的第一方向x和第二方向y上对像素电路的占据长度进行调整,从而实现对过渡区b内像素电路进行合理的排布设计,实现将至少部分第一像素电路设置在过渡区b内,以增大光学模组设置区a内透光区的面积,提升光学模组设置区a的光透过率。
52.在一种实施例中,图10为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式膜层结构示意图。如图10所示,像素包括依次堆叠的阳极a、发光层b和阴极c;显示面板还包括第一连接走线l,位于过渡区的第一像素电路dl1通过第一连接走线l与第一像素p1的阳极a电连接;其中,显示面板还包括数据线d,第一连接走线l与数据线d异层设置。其中,数据线d为像素电路提供数据信号。图中示意出了像素电路中的驱动管m,驱动管m的漏极d与像素的阳极a电连接,驱动管m的源极s与数据线d电连接。第一像素电路dl1的驱动管m的漏极d与第一连接走线l,第一连接走线l与阳极a异层设置,且通过过孔电连接。图10中驱动m仅以顶栅
结构进行示意性说明。在相关技术的显示面板中,通常情况下,像素电路设置在像素对应的下方,像素电路中驱动管的漏极与像素的阳极通过绝缘层上的过孔电连接。而在本发明实施例中,至少部分与第一像素电连接的第一像素电路设置在过渡区,也即位于过渡区的第一像素电路与其驱动的第一像素存在位错,在此基础上,本领域技术人员容易想到的方案是:方案一,在阳极的同层做与阳极电连接的走线,延伸到驱动管的漏极对应的位置,然后通过过孔与漏极电连接;方案二,在驱动管的漏极的同层做与漏极电连接的走线,延伸到像素的阳极对应的位置,然后通过过孔与阳极电连接。对于方案一,发明人考虑与阳极同层制作的走线,会在光学模组设置区与过渡区相邻的位置处占据一定空间,由于该走线与阳极同层,所以在垂直于显示面板方向上,第一像素和过渡像素都不能与其交叠,会对过渡像素覆盖第一像素电路的走线缝隙的方案产生不利影响。对于方案二,发明人考虑由于显示面板中像素电路中走线复杂且密集,如果简单的制作与漏极通常的走线,为了避免短路,需要对像素电路的排布做设计上的改变。发明人进一步思考之后,提出的实施例中增加与数据线异层设置的第一连接走线,第一连接走线实现了位于过渡区的第一像素电路与位于光学模组设置区的第一像素之间的电连接,保证提升光学模组设置区光透过率,同时对过渡区像素电路的排布影响小,制作工艺简单。
53.在一种实施例中,图11为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部示意图。如图11所示,第一像素p1的发光面积小于常规像素p3的发光面积。该实施例中设置光学模组设置区的像素密度小于常规区的像素密度,增加光线穿透光学模组设置区的光量,并且在光学模组设置区和常规区之间设置过渡区,过渡区的像素密度小于常规区的像素密度,将至少部分第一像素电路设置在过渡区内,即通过降低过渡区的像素密度,实现将驱动光学模组设置区内的第一像素的部分像素电路设置在过渡区内,减小了光学模组设置区内非透光区的面积,相应的增大了光学模组设置区内的透光区的面积。进一步的设置光学模组设置区内的第一像素的发光面积小于常规像素的发光面积,能够进一步减小光学模组设置区内非透光区的面积,从而增加光学模组设置区内光线穿透显示面板的透过率。
54.在一种实施例中,图12为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部示意图。如图12所示,第一像素p1的发光面积小于常规像素p3的发光面积,在由常规区c指向光学模组设置区a的方向f上,过渡像素p2的发光面积逐渐减小。该实施方式中将至少部分第一像素电路设置在过渡区、且第一像素的发光面积小于常规像素的发光面积提升了光学模组设置区的光透过率,进一步设置由常规区指向光学模组设置区的方向上,过渡像素的发光面积逐渐变小,从而保证显示时常规区到光学模组设置区逐渐过渡,避免人眼识别出常规区与过渡区之间、或者光学模组设置区与过渡区之间的显示差异,该实施例能够提升显示效果。可选的,过渡像素的发光面积小于或等于常规像素的发光面积。
55.在一种实施例中,第一像素的发光面积小于常规像素的发光面积,且在由常规区指向光学模组设置区的方向上,过渡像素的发光面积先逐渐增大后逐渐减小。该实施方式在保证提升光学模组设置区的光透过率的同时,也能够保证显示时常规区到光学模组设置区逐渐过渡,避免人眼识别出常规区与过渡区之间、或者光学模组设置区与过渡区之间的显示差异。可选的,过渡像素的发光面积大于或等于常规像素的发光面积。
56.在一种实施例中,图13为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部示意图。如图13所示,第一像素p1的发光面积与常规像素p3的发光面积相同,且在由常规区
c指向光学模组设置区a的方向f上,光学模组设置区a的像素密度逐渐变小。该实施方式首先将至少部分第一像素电路设置在过渡区,提升了光学模组设置区的光透过率,进一步的设置由常规区指向光学模组设置区的方向上,光学模组设置区的像素密度逐渐变小,在光学模组设置区内像素密度沿一个方向逐渐变化,在显示时光学模组设置区内显示均匀变化,不易被人眼识别出显示差异。另外,通过像素密度逐渐变小也能够进一步减小光学模组设置区内设置的像素个数,从而进一步提升光学模组设置区的光透过率。
57.可选的,在图13对应的实施方式中可以设置过渡像素的发光面积与常规像素的发光面积相同,设置显示区内所有的像素的发光面积相同,设置过渡区的像素密度小于常规区的像素密度,且过渡区的像素密度大于光学模组设置区的像素密度,从而由常规区指向光学模组设置区方向上,像素发光面积不变,但像素密度逐渐变化,在进行显示时保证了显示均匀过渡,提升显示效果。
58.可选的,在图13对应的实施方式中,也可以设置过渡像素的发光面积大于常规像素的发光面积。在过渡区内设置过渡像素遮挡第一像素电路的至少部分走线缝隙,从而能够减少第一像素电路的走线缝隙对穿透显示面板的光线的衍射作用,以提升应用屏下光学模组方案时光学模组的性能。可选的,也可以设置由常规区指向光学模组设置区方向上,过渡像素的发光面积先逐渐变大后逐渐变小,实现过渡像素的发光面积大于常规像素的发光面积,且过渡像素的发光面积大于第一像素的发光面积,过渡区位于常规区和光学模组设置区之间,也即由常规区指向光学模组设置区方向上像素的发光面积先变大后变小,逐渐变化,能够保证显示时均匀过渡,提升显示效果。
59.需要说明的是图13仅示意出部分的光学模组设置区a、过渡区b和常规区c,对于过渡区b包围光学模组设置区a、常规区c包围过渡区b的实施例中,可以是由常规区c指向光学模组设置区a的几何中心,光学模组设置区a的像素密度逐渐变小。
60.在一种实施例中,图14为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部示意图。如图14所示,在由常规区c指向光学模组设置区a的方向上,过渡区b的像素密度逐渐变小。为了清楚示意像素密度的变化,图中并未示出显示面板中的像素电路。该实施方式在将至少部分第一像素电路设置在过渡区,提升光学模组设置区的光透过率的基础上,进一步设置由常规区指向光学模组设置区的方向上,过渡区的像素密度逐渐变小,过渡区的设置保证在显示时由常规区指向光学模组设置区方向上显示逐渐过渡,提升显示效果。可选的,在该实施方式中,可以设置过渡区的像素密度大于光学模组设置区的像素密度,进一步保证在过渡区向光学模组设置区显示的均匀过渡。
61.在一种实施例中,图15为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部示意图。如图15所示,在由常规区c指向光学模组设置区a的方向上,过渡区b的像素密度逐渐变小,在由常规像素区c指向光学模组设置区a的方向上,过渡像素p2的发光面积逐渐变大。该实施例在图14实施方式基础上进一步设置过渡像素的发光面积逐渐变大,能够平衡过渡区像素密度逐渐变小造成的显示亮度差异,保证过渡区显示亮度均一。另外,过渡像素的发光面积变大后,在过渡区与光学模组设置区相邻的位置,过渡像素能够用来遮挡位于过渡区的第一像素电路的走线缝隙,减小第一像素电路走线缝隙对光的衍射作用,从而减少光学模组设置区周围的光的衍射对屏下光学模组性能的影响。
62.基于同一发明构思,本发明实施还提供一种显示装置,图16为本发明实施例提供
的显示装置示意图,如16图所示,显示装置包括本发明实施例提供的任意一种显示面板100。其中,显示面板100的具体结构已经在上述实施例中进行了详细说明,此处不再赘述。当然,图16所示的显示装置仅仅为示意说明,该显示装置可以是例如手机、平板计算机、笔记本电脑、电纸书或电视机等任何具有显示功能的电子设备。
63.以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明保护的范围之内。
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