一种新型晶片溢流槽的制作方法

1.本实用新型涉及晶片加工技术领域，特别涉及一种新型晶片溢流槽。


背景技术：

2.在晶片加工过程中，晶片抛光后需要进行清洗，抛光后的晶片先放入花篮中，花篮装满后再放入晶片溢流槽中；水流从溢流槽底部进入，最终从晶片溢流槽的边缘溢出，以此流动水对淹没状态下的晶片进行清洗。目前现有的水槽不适用于1寸晶片，因1寸晶片尺寸小以及1寸的花篮质量轻，花篮放置在水槽中会被水流冲浮起来，晶片不能被淹没，晶片部分位置位于溢流液面之上，导致会产生水印缺陷，需返工处理；多次返工，消耗晶片厚度同时耽误抛光车间产能。


技术实现要素：

3.本实用新型主要目的在提供一种新型晶片溢流槽，以解决上述问题。
4.为达上述目的，本实用新型提供一种新型晶片溢流槽，包括上部开口的槽体；所述槽体一侧底部设置有进水口；所述槽体内侧底部沿槽体长度方向间隔设置有多个用于固定1寸花篮的固定装置；所述固定装置包括垂直固定于槽体内侧底部的支撑板；所述支撑板顶部设置有向支撑板外部突出的卡板；1寸花篮卡设于支撑板与支撑板之间；所述卡板用于限制1寸花篮的边缘；所述卡板的高度低于槽体溢流液面的高度。
5.进一步的，所述槽体的开口边缘均匀设置有多个溢流豁口。
6.进一步的，所述溢流豁口呈梯形或三角形或弧形。
7.进一步的，所述槽体内部位于固定装置两侧，均设置有斜板；所述斜板与槽体围成三棱柱空腔；所述进水口与所述三棱柱空腔相连通；所述斜板上沿长度方向间隔设置有多个出水孔。
8.进一步的，所述出水孔的轴线垂直于斜板。
9.本实用新型具有以下有益效果：
10.本实用新型通过在溢流槽内设置固定装置，对1寸花篮进行限位，防止1寸花篮浮出溢流液面，有效对1寸花篮内的晶片进行溢流清洗，避免水印缺陷。
附图说明
11.图1为本实用新型提出的一种新型晶片溢流槽的立体图；
12.图2为本实用新型提出的一种新型晶片溢流槽的主视图；
13.图3为本实用新型提出的一种新型晶片溢流槽的左视图。
14.图中：1-槽体；2-固定装置；3-斜板；11-溢流豁口；12-进水口；21-支撑板；22-卡板；31-出水孔。
具体实施方式
15.为达成上述目的及功效，本实用新型所采用的技术手段及构造，结合附图就本实用新型较佳实施例详加说明其特征与功能。
16.如附图1-3所示，本实用新型中提供了一种新型晶片溢流槽，包括上部开口的槽体1；所述槽体1一侧底部设置有进水口12；所述槽体1内侧底部沿槽体1长度方向间隔设置有多个用于固定1寸花篮的固定装置2；所述固定装置2包括垂直固定于槽体1内侧底部的支撑板21；所述支撑板21顶部设置有向支撑板21外部突出的卡板22；1寸花篮卡设于支撑板21与支撑板21之间；所述卡板22用于限制1寸花篮的边缘；所述卡板22的高度低于槽体1溢流液面的高度，恰好可放置1寸花篮。
17.使用时，将1寸花篮从固定装置2一侧插入两个固定装置2之间，并放置到槽体1的底部，使1寸花篮的边缘位于卡板22下方。在进水口12通入去离子水，即可进行溢流清洗。
18.在另一实施例中，所述槽体1的开口边缘均匀设置有多个溢流豁口11，方便水流下。
19.在另一实施例中，所述溢流豁口11呈梯形或三角形或弧形，本实施例中为梯形。
20.在另一实施例中，所述槽体1内部位于固定装置2两侧，均设置有斜板3；所述斜板3与槽体1围成三棱柱空腔；所述进水口12与所述三棱柱空腔相连通；所述斜板3上沿长度方向间隔设置有多个出水孔31。通过三棱柱空腔对进水口12的水流进行缓冲，使出水孔31出水更加均匀，保证1寸花篮内的晶片清洗一致性。
21.在另一实施例中，所述出水孔31的轴线垂直于斜板3，以便于出水孔31汇集各个方向的水流，使出水更加均匀。
22.以上所述仅为本实用新型较佳实施例而已，非全部实施例，任何人应该得知在本实用新型的启示下做出的结构变化，凡是与本实用新型具有相同或者相近似的技术方案，均属于本实用新型的保护范围。


技术特征：
1.一种新型晶片溢流槽，其特征在于，包括上部开口的槽体；所述槽体一侧底部设置有进水口；所述槽体内侧底部沿槽体长度方向间隔设置有多个用于固定1寸花篮的固定装置；所述固定装置包括垂直固定于槽体内侧底部的支撑板；所述支撑板顶部设置有向支撑板外部突出的卡板；1寸花篮卡设于支撑板与支撑板之间；所述卡板用于限制1寸花篮的边缘；所述卡板的高度低于槽体溢流液面的高度。2.如权利要求1所述的一种新型晶片溢流槽，其特征在于，所述槽体的开口边缘均匀设置有多个溢流豁口。3.如权利要求2所述的一种新型晶片溢流槽，其特征在于，所述溢流豁口呈梯形或三角形或弧形。4.如权利要求1或2或3所述的一种新型晶片溢流槽，其特征在于，所述槽体内部位于固定装置两侧，均设置有斜板；所述斜板与槽体围成三棱柱空腔；所述进水口与所述三棱柱空腔相连通；所述斜板上沿长度方向间隔设置有多个出水孔。5.如权利要求4所述的一种新型晶片溢流槽，其特征在于，所述出水孔的轴线垂直于斜板。

技术总结
本实用新型公开了一种新型晶片溢流槽，涉及晶片加工技术领域。包括上部开口的槽体；槽体一侧底部设置有进水口；槽体内侧底部沿槽体长度方向间隔设置有多个用于固定1寸花篮的固定装置；固定装置包括垂直固定于槽体内侧底部的支撑板；支撑板顶部设置有向支撑板外部突出的卡板；1寸花篮卡设于支撑板与支撑板之间；卡板用于限制1寸花篮的边缘；卡板的高度低于槽体溢流液面的高度。本实用新型通过在溢流槽内设置固定装置，对1寸花篮进行限位，防止1寸花篮浮出溢流液面，有效对1寸花篮内的晶片进行溢流清洗，避免水印缺陷。避免水印缺陷。避免水印缺陷。


技术研发人员：李民 王文彬 洪庆福 任殿胜 赵波 高伟
受保护的技术使用者：保定通美晶体制造有限责任公司
技术研发日：2022.07.26
技术公布日：2022/11/28