一种等离子体工艺设备的制作方法

1.本实用新型涉及半导体设备领域，尤其涉及一种等离子体工艺设备。


背景技术：

2.等离子体发射光谱是等离子体源中发出的成分复杂的发射光谱。在等离子体工艺设备中，用光谱仪来检测等离子体光谱，判断等离子体工艺设备中等离子体品质。等离子体工艺设备例如为等离子体刻蚀设备。
3.光谱仪来检测等离子体光谱时，需要透过取光窗片获取等离子体发射光谱，取光窗片设置在。此方法简单直接，缺点也很明显：取光窗片在腔体内侧容易脏污，且无法清理，当脏污(polymer)累积到一定程度时，光谱仪无法正常取光，必须开腔清理或更换窗片。在等离子刻蚀中，腔内是真空状态，开腔过后，需要一系列处理才能使设备重新正常生产。这样使得工艺作业效率降低。


技术实现要素：

4.本实用新型解决的问题是客服现有技术中等离子体工艺设备的工艺作业效率低的问题。
5.为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种等离子体工艺设备，包括：腔体；位于所述腔体一侧腔壁的第一取光口；位于所述第一取光口中的主透光窗片；位于所述腔体中的阻挡板，所述阻挡板与具有第一取光口的腔壁相对设置，所述阻挡板中具有贯穿阻挡板的厚度的第二取光口，所述第二取光口与所述第一取光口相对设置；位于所述阻挡板和具有第一取光口的腔壁之间的透光窗片载体单元，所述透光窗片载体单元包括：位于阻挡板和具有第一取光口的腔壁之间的载体层；载体层中设置有贯穿载体层的若干间隔的开口；分别位于开口中的副透光窗片；驱动结构，所述驱动结构适于驱动载体层围绕所述载体层的中心轴进行旋转，以选择若干副透光窗片中的任意一个副透光窗片覆盖所述第二取光口和第二取光口周围的阻挡板。
6.可选的，所述主透光窗片包括玻璃窗片；所述副透光窗片包括玻璃窗片。
7.可选的，所述第二取光口的开口尺寸大于或等于所述第一取光口的开口尺寸。
8.可选的，所述阻挡板包括陶瓷阻挡板或者铝阻挡板。
9.可选的，所述载体层的周向侧壁设置有若干间隔的齿部；所述驱动结构包括：与所述载体层背离所述阻挡板一侧的第一连接杆，所述第一连接杆具有相对的第一端和第二端，第一端与所述载体层背离所述阻挡板的一侧表面的中心点固定连接；第二连接杆，所述第二连接杆穿过具有第一取光口的腔壁且延伸至腔体内，所述第二连接杆的一端位于腔体的外部，所述第二连接杆与所述第一取光口间隔；第三连接杆，所述第三连接杆的一端与所述第二端固定连接，所述第三连接杆的另一端与所述第二连接杆的另一端可活动连接；固定连接件，所述固定连接件与第三连接杆和部分齿部固定连接；驱动主体件，所述驱动主体件适于驱动第二连接杆移动。
10.可选的，还包括：位于所述腔体内的密封件，所述密封件位于所述第二连接杆和腔壁的连接处。
11.可选的，所述密封件包括波纹管。
12.可选的，所述副透光窗片的数量为三个至八个。
13.可选的，还包括：设置在所述腔体的顶部的离子隔离件；位于所述离子隔离件上的等离子体射频源。
14.与现有技术相比，本实用新型的技术方案具有以下有益效果：
15.本实用新型技术方案提供的等离子体工艺设备，包括：阻挡板和位于所述阻挡板和具有第一取光口的腔壁之间的透光窗片载体单元，所述透光窗片载体单元包括：位于阻挡板和具有第一取光口的腔壁之间的载体层；载体层中设置有贯穿载体层的若干间隔的若干间隔的开口；分别位于开口中的副透光窗片。阻挡板能阻挡位于第二取光口周围的副透光窗片不受到污染。这样当一个副透光窗片在使用一段时间之后受到污染之后，所述驱动结构适于驱动载体层围绕所述载体层的中心轴进行旋转，以选择另一个副透光窗片覆盖所述第二取光口和第二取光口周围的阻挡板，副透光窗片的更换无需打开腔体，使得等离子体工艺设备的工艺作业效率提高。
附图说明
16.图1为本实用新型一实施例中的等离子体工艺设备的示意图；
17.图2为本实用新型一实施例中的透光窗片载体单元的示意图。
具体实施方式
18.下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
19.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
20.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电学连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，还可以是两个元件内部的连通，可以是无线连接，也可以是有线连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
21.此外，下面所描述的本实用新型不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
22.本实用新型一实施例提供一种用于等离子体工艺设备，其特征在于，包括：
23.腔体100；
24.位于所述腔体100一侧腔壁的第一取光口；
25.位于所述第一取光口中的主透光窗片110；
26.位于所述腔体100中的阻挡板120，所述阻挡板120与具有第一取光口的腔壁相对设置，所述阻挡板120中具有贯穿阻挡板120的厚度的第二取光口121，所述第二取光口121与所述第一取光口相对设置；
27.位于所述阻挡板120和具有第一取光口的腔壁之间的透光窗片载体单元，所述透光窗片载体单元包括：位于阻挡板120和具有第一取光口的腔壁之间的载体层131；载体层131中设置有贯穿载体层的若干间隔的开口；分别位于开口中的副透光窗片132；
28.驱动结构，所述驱动结构适于驱动载体层131围绕所述载体层131的中心轴进行旋转，以选择若干副透光窗片132中的任意一个副透光窗片覆盖所述第二取光口121和第二取光口121周围的阻挡板120。
29.本实施例中，阻挡板能阻挡位于第二取光口周围的副透光窗片不受到污染。这样当一个副透光窗片在使用一段时间之后受到污染之后，所述驱动结构适于驱动载体层围绕所述载体层的中心轴进行旋转，以选择另一个副透光窗片覆盖所述第二取光口和第二取光口周围的阻挡板，副透光窗片的更换无需打开腔体，使得等离子体工艺设备的工艺作业效率提高。
30.所述等离子体工艺设备为等离子体刻蚀设备或者等离子体沉积设备。
31.所述主透光窗片包括玻璃窗片；所述副透光窗片包括玻璃窗片。
32.在一个实施例中，所述第二取光口的开口尺寸大于或等于所述第一取光口的开口尺寸。这样对阻挡板的挡光能力的要求降低。
33.在其他实例中，第二取光口的开口尺寸小于第一取光口的开口尺寸。
34.在一个实施例中，所述阻挡板120包括陶瓷阻挡板或者铝阻挡板。
35.在一个实施例中，所述阻挡板120为挡光板。
36.所述阻挡板120的外侧壁边缘与腔体100的腔壁密封连接。
37.参考图2，载体层131的周向侧壁设置有若干间隔的齿部133。所述驱动结构包括：与所述载体层131背离所述阻挡板120一侧的第一连接杆，所述第一连接杆具有相对的第一端和第二端，第一端与所述载体层131背离所述阻挡板120的一侧表面的中心点固定连接；第二连接杆142，所述第二连接杆142穿过具有第一取光口的腔壁且延伸至腔体100内，所述第二连接杆142的一端位于腔体100的外部，所述第二连接杆142与所述第一取光口间隔；第三连接杆143，所述第三连接杆143的一端与所述第二端固定连接，所述第三连接杆143的另一端与所述第二连接杆142的另一端可活动连接；固定连接件144，所述固定连接件144与第三连接杆143和部分齿部固定连接；驱动主体件，所述驱动主体件适于驱动第二连接杆移动。所述驱动主体件的驱动方式为气动驱动或者按键驱动。
38.在一个实施例中，固定连接件144仅与一个齿部固定连接。
39.等离子体工艺设备还包括：位于所述腔体100内的密封件150，所述密封件150位于所述第二连接杆142和腔壁的连接处。
40.所述密封件150包括波纹管。
41.在一个实施例中，所述副透光窗片132的数量为三个至八个，例如三个、四个、五个、六个、七个或者八个。
42.需要说明的是，副透光窗片的数量还可以为两个、或大于八个。
43.所述等离子体工艺设备还包括：设置在所述腔体的顶部的离子隔离件；位于所述离子隔离件上的等离子体射频源。
44.可以用光谱仪170检测等离子体射频源发射出的等离子体光谱，判断离子体工艺设备中等离子体品质。
45.虽然本实用新型披露如上，但本实用新型并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本实用新型的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。