一种半导体器件处理设备的制作方法

1.本实用新型涉及半导体器件技术领域，尤其涉及一种半导体器件处理设备。


背景技术：

2.半导体器件是为分立器件和集成电路制造的，它们由在单个半导体衬底或晶片上制造和互连的数个到数十亿个器件组成，半导体器件是导电性介于良导电体与绝缘体之间，利用半导体材料特殊电特性来完成特定功能的电子器件，可用来产生、控制、接收、变换、放大信号和进行能量转换，半导体器件是为分立器件和集成电路制造的，它们由在单个半导体衬底或晶片上制造和互连的数个到数十亿个器件组成。
3.现有的对半导体器件处理需要经过多个步骤加工，例如：晶圆加工、氧化、清洗、测试和封装等等，在对晶圆进行清洗时需要使用清洗剂，其中清洗剂乙腈对油脂、无机盐和高分子化合物均有很好的溶解性，所以使用高纯乙腈作半导体清洗剂，但乙腈有刺激性气味，且乙腈有毒性人员长期吸入会导致恶心、呕吐、腹泻等；因此，为了解决上述技术问题，我们提出了一种半导体器件处理设备。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种半导体器件处理设备。
5.为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
6.一种半导体器件处理设备，包括半导体清洗机和晶圆存放篮，所述半导体清洗机内底面的清洗槽上方设有若干个遮挡板，遮挡板上表面安装有推架，推架的上端安装有电推杆，电推杆的另一端与半导体清洗机相固定，遮挡板的下表面安装有软毛刷，两个遮挡板之间固定有海绵板，半导体清洗机的一侧安装有收集管，收集管中安装有抽风机，半导体清洗机远离抽风机的一侧安装有进风管，进风管内部安装有进风机。
7.优选的，所述遮挡板的下表面安装有滑块，半导体清洗机的内底面开设有与滑块相配合的滑轨，滑块滑动安装在滑轨内部。
8.优选的，所述收集管内部安装有干燥板，干燥板位于抽风机与半导体清洗机之间。
9.优选的，所述进风管内部安装有过滤板，进风机位于半导体清洗机与过滤板之间。
10.优选的，所述遮挡板其中一块的上表面安装有对晶圆存放篮进行限位的支架，遮挡板的上表面放置有收集盒，收集盒位于晶圆存放篮正下方。
11.优选的，所述推架的一侧安装有限位筒,限位筒的内部滑动安装有限位杆，且限位杆延伸至限位筒的外侧与半导体清洗机相连接。
12.优选的，其特征在于,所述半导体清洗机的一侧安装有玻璃窗，玻璃窗远离半导体清洗机的一侧安装有把手。
13.本实用新型提出的一种半导体器件处理设备，有益效果在于：
14.1：本实用新型中,人员把放有晶圆的晶圆存放篮放在清洗槽上方遮挡板上表面安
装的支架上，继而人员关闭玻璃窗，启动半导体清洗机，同时人员打开半导体清洗机两侧的抽风机与进风机，这时机械手臂夹起支架上的晶体存放篮，人员启动电推杆，推架移动带动遮挡板移动，使得遮挡板从清洗槽上方移开，当清洗完毕机械手臂把晶体存放篮从清洗槽内部拿出，这时人员启动电推杆使得遮挡板复位，在这个过程中，抽风机把清洗剂中挥发出来的乙腈气体抽出，同时进风机把外界气体抽入半导体清洗机内部，由此一定程度的避免了人员吸入的乙腈气体，从而有效的保护了人员的健康，避免了人员由吸入乙腈气体导致的恶心、呕吐、腹泻等情况的发生。
15.2：本实用新型中，遮挡板的下表面安装有软毛刷，当遮挡板通过电推杆移动时，软毛刷可以对机械手臂拿取晶圆存放篮时溅出的溶液进行擦拭，同时遮挡板之间固定有海绵板，也可以对溅出的溶液进行擦拭，避免了人员不小心触碰到溶液腐蚀了皮肤；当抽风机对半导体清洗机内的气体抽出时，干燥板对气体进行干燥，由此抽风机不会被气体中的水汽锈蚀，从而导致抽风机无法正常使用的情况发生；遮挡板的底部安装有滑块，半导体清洗机的内底面开设有滑轨，滑块滑动安装在滑轨上，由此电推杆带动遮挡板移动时，滑块与滑轨对遮挡板进行限位，使得遮挡板在移动时更加稳定。
附图说明
16.图1为本实用新型提出的一种半导体器件处理设备的轴测图；
17.图2为本实用新型提出的一种半导体器件处理设备的内部结构示意图；
18.图3为本实用新型提出的一种半导体器件处理设备的遮挡板移动图；
19.图4为本实用新型提出的一种半导体器件处理设备的收集管内部结构示意图；
20.图5为本实用新型提出的一种半导体器件处理设备的进风管内部结构示意图；
21.图6为本实用新型提出的一种半导体器件处理设备的推架结构示意图。
22.图中：1、半导体清洗机；2、软毛刷；3、遮挡板；4、推架；5、电推杆；6、抽风机；7、干燥板；8、收集管；9、进风机；10、过滤板；11、进风管；12、支架；13、收集盒；14、滑轨；15、滑块；16、把手；17、海绵板；18、限位筒；19、限位杆。
具体实施方式
23.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
24.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
25.参照图1-6，一种半导体器件处理设备，包括半导体清洗机1和晶圆存放篮，半导体清洗机1内底面的清洗槽上方设有若干个遮挡板3，遮挡板3上表面安装有推架4，推架4的上端安装有电推杆5，电推杆5的另一端与半导体清洗机1相固定，遮挡板3的下表面安装有软毛刷2，两个遮挡板3之间固定有海绵板17，半导体清洗机1的一侧安装有收集管8，收集管8中安装有抽风机6，半导体清洗机1远离抽风机6的一侧安装有进风管11，进风管11内部安装
有进风机9。
26.作为本实用新型的一种技术优化方案，遮挡板3的下表面安装有滑块15，半导体清洗机1的内底面开设有与滑块15相配合的滑轨14，滑块15滑动安装在滑轨14内部；滑块15与滑轨14的设置，是对遮挡板3进行限位。
27.作为本实用新型的一种技术优化方案，收集管8内部安装有干燥板7，干燥板7位于抽风机6与半导体清洗机1之间；干燥板7是对从半导体清洗机1内部进入到收集管8内的气体进行干燥的。
28.作为本实用新型的一种技术优化方案，进风管11内部安装有过滤板10，进风机9位于半导体清洗机1与过滤板10之间；过滤板10的设置，是对进入到进风管11的外界气体进行过滤的，放置外界气体中的灰尘进入到半导体清洗机1内部。
29.作为本实用新型的一种技术优化方案，遮挡板3其中一块的上表面安装有对晶圆存放篮进行限位的支架12，遮挡板3的上表面放置有收集盒13，收集盒13位于晶圆存放篮正下方；收集盒13的设置，是当清洗好的晶圆存放篮中的水滑落下来时，对滑落的的水进行接取的。
30.作为本实用新型的一种技术优化方案，推架4的一侧安装有限位筒18,限位筒18的内部滑动安装有限位杆19，且限位杆19延伸至限位筒18的外侧与半导体清洗机1相连接；限位筒18与限位杆19的设置，是对推架4进行限位的。
31.作为本实用新型的一种技术优化方案，其特征在于,所述半导体清洗机1的一侧安装有玻璃窗，玻璃窗远离半导体清洗机1的一侧安装有把手16；把手16的设置，使得人员在开关玻璃窗时更省力。
32.使用原理及优点：本实用新型在使用过程中，通过半导体清洗机1内部的机械手臂对晶圆存放篮进行夹取，夹取后把晶圆存放篮放入清洗槽内部，半导体清洗机1内部设有若干个清洗槽，清洗槽内的溶液不同，通过清洗槽内部清洗剂乙腈对晶圆存放篮中的晶圆进行清洗，最后通过水带走晶圆上的残留的乙腈溶液，然后机械手臂夹取出晶圆存放篮，即完成了晶圆的清洗。
33.进一步在本方使用中，当需要对晶圆进行清洗时，人员把放有晶圆的晶圆存放篮放在清洗槽上方遮挡板3上表面安装的支架12上，继而人员关闭玻璃窗，启动半导体清洗机1，同时人员打开半导体清洗机1两侧的抽风机6与进风机9，这时机械手臂夹起支架12上的晶体存放篮，人员启动电推杆5，使得电推杆5向玻璃窗处移动，电推杆5移动带动推架4移动，推架4与遮挡板3相连接，因此推架4移动带动遮挡板3移动，使得遮挡板3从清洗槽上方移开，从而机械手臂把夹取的晶体存放篮放入清洗槽内部进行清洗，当清洗完毕机械手臂把晶体存放篮从清洗槽内部拿出，这时人员启动电推杆5复位，从而使得遮挡板3复位，即遮挡板3覆盖住清洗槽，机械手臂把清洗完成的晶圆通过晶圆存放篮放到支架12上，在这个过程中，抽风机6把清洗剂中挥发出来的乙腈气体抽出，同时进风机9把外界气体抽入半导体清洗机1内部，当遮挡板3复位后对清洗槽进行遮挡后，抽风机6把半导体清洗机1内剩余的乙腈气体抽出后，人员打开玻璃窗拿出晶圆存放篮，由此一定程度的避免了人员吸入的乙腈气体，从而有效的保护了人员的健康，避免了人员由吸入乙腈气体导致的恶心、呕吐、腹泻等情况的发生。
34.更进一步在本方案使用中，遮挡板3的下表面安装有软毛刷2，当遮挡板3通过电推
杆5移动时，软毛刷2可以对机械手臂拿取晶圆存放篮时溅出的溶液进行擦拭，同时遮挡板3之间固定有海绵板17，也可以对溅出的溶液进行擦拭，因为乙腈溶液具有碱性，因此软毛刷2与海绵板17把溅出的溶液溶液进行擦拭，避免了人员不小心触碰到溶液腐蚀了皮肤；当抽风机6对半导体清洗机1内的气体抽出时，由于气体内含有水汽，因此在收集管8安装有干燥板7，干燥板7位于抽风机6与半导体清洗机1之间，从而当气体进入收集管8时，干燥板7对气体进行干燥，由此抽风机6不会被气体中的水汽锈蚀，从而导致抽风机6无法正常使用的情况发生。
35.同时，遮挡板3的底部安装有滑块15，半导体清洗机1的内底面开设有滑轨14，滑块15滑动安装在滑轨14上，由此电推杆5带动遮挡板3移动时，滑块15与滑轨14对遮挡板3进行限位，使得遮挡板3在移动时更加稳定；当清洗完成的晶圆通过晶圆存放篮放在支架12上后，遮挡板3的上表面放置有收集盒13，收集盒13位于晶体存放篮的正下方，刚清洗完到的晶体存放篮内部残留有水，因此会从晶体存放篮中滑落下来，而滑落下来的水被收集盒13接入，因此避免了人员在取出晶体存放篮时，晶体存放篮中的水落在地面上，造成地方湿滑使得人员摔倒。
36.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。